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田晶泽; 刘立民;
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院;
哈尔滨锅炉厂;
活性反应离子镀; 单晶硅; 离子注入; 氮化硼; 薄膜;
机译:氮离子注入对CdSe薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:氮离子注入对反应磁控溅射TiN薄膜结构和微结构性能的影响
机译:沉积温度对CVD法氮化硼薄膜结构和光学特性的影响
机译:氮离子注入对氧化铟薄膜结构和光学性质的影响
机译:六方氮化硼/石墨烯异质结构,六方氮化硼层和立方氮化硼纳米点的分子束外延生长
机译:六方氮化硼的共溶剂剥落:原始散装氮化硼尺寸和共溶剂组成的影响
机译:沉积时间对花样纳米结构PBS薄膜结构和光电性质的影响
机译:定量钌法分析氮离子注入钛合金(Ti-6al-4V)及其对细菌粘附的影响
机译:立方氮化硼致密基体(计费数)及其由热解氮化硼(pbn)生产的直接转化过程
机译:由热解氮化硼(PBN)制成的立方氮化硼(CBN)紧凑型直接转化工艺
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