首页> 中文期刊> 《激光与红外》 >大尺寸氟化物晶体的坩埚下降法生长研究

大尺寸氟化物晶体的坩埚下降法生长研究

         

摘要

采用坩埚下降法,在自制的真空炉内石墨坩埚中生长了大尺寸LiF、CaF2和LaF3晶体.生长前,在水平电阻炉内对市售的氟化物原料进行了氟化处理,合成了稳定的无水氟化物多晶料.通过优化生长参数,如适当的炉温分布、合适的晶种以及缓慢的降温速率,成功地生长出尺寸分别为φ110mm×50mm、φ200mm×45mm和φ50mm×50mm的LiF、CaF2和LaF3晶体.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号