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集成电路掩模分辨率增强技术

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摘要

随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要.介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法.

著录项

来源
《电子与封装》 |2020年第11期|64-67|共4页
作者
华卫群; 周家万; 尤春;
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作者单位

无锡中微掩模电子有限公司江苏无锡214001;

无锡中微掩模电子有限公司江苏无锡214001;

无锡中微掩模电子有限公司江苏无锡214001;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类光刻、掩膜;
关键词
掩模; 分辨率增强技术; 相移掩模; 光学邻近效应修正; 光源掩模协同优化;

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