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黄龙旺; 杨春生; 丁桂甫;
上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细加工重点实验室;
有机玻璃; 反应离子刻蚀; 微结构; PMMA; 刻蚀参数; 刻蚀速率; 刻蚀形貌;
机译:基于深反应离子刻蚀的硅高级刻蚀,用于硅高纵横比微结构和三维微纳结构
机译:采用液面自组织的方法在洁净的玻璃片表面铺设单层六方密排的聚苯乙烯胶体球阵列,通过改变等离子 刻蚀的时间实现对胶体小球的直径控制,结合离子溅射Au膜和磁控溅射MoO2膜,最终构筑成为一种新颖的MoO2/Au微纳阵列结构,利用扫描电镜对所合成材料进行形貌表征;同时重点利用接触角测量仪对 微纳阵列薄膜的浸润性进行研究,分析水在微纳阵列表面所形成的接触角的角度变化,结果显示沉积 MoO2/Au微纳阵列比相应的Au微纳阵列更加亲水,有利于材料在水溶液中进行电化学反应。
机译:四甲基氢氧化铵刻蚀剂在深湿法刻蚀中提高硅刻蚀速率的研究
机译:HF基溶液湿法刻蚀释放SOI基陀螺仪微结构的研究
机译:有机材料等离子体刻蚀的刻蚀轮廓控制与表面反应研究
机译:Al-Cu-Li合金点蚀的研究第一部分:微结构电化学原位和坑深分析对添加锂的影响
机译:硅微结构和纳米结构的低温深反应离子刻蚀
机译:采用时间复用蚀刻 - 钝化工艺的高纵横比siC微结构深反应离子刻蚀(DRIE)
机译:通过深反应离子刻蚀制造微系统,包括例如:提供用于深反应离子刻蚀的刻蚀工具,进行包括刻蚀步骤的深离子刻蚀的多个重复处理间隔
机译:用深各向异性刻蚀厚硅晶片制造微结构的方法
机译:深硅刻蚀装置和深硅刻蚀装置的进气系统
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