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陈蒲生; 王川; 冯文修; 王锋; 刘小阳; 田万廷;
华南理工大学应用物理系;
华南理工大学测试分析中心;
低温; 介质膜; 界面特性; PECVD; 半导体薄膜; 技术;
机译:用PECVD法低温形成栅隔离层氮化硅薄膜的低温工艺
机译:高频PECVD法研究生长速率提高的SiN x:H薄膜的光学和组成特性
机译:PECVD法生长等离子体聚合薄膜及其表面和光学特性的研究
机译:PECVD法制备氧氮化硅薄膜的内部应力和光机械特性的光学干涉法研究
机译:等温热传导量热法的研究:I.两滴量热仪和教育应用。二。石英晶体微天平/热传导量热仪(QCM / HCC)及其在研究固-气界面处聚合物和蛋白质薄膜的热力学和流变特性方面的应用。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:通过新型低温喷雾化学气相沉积法研究ag纳米颗粒薄膜的尺寸和密度,研究其机理,颗粒生长和光学模拟
机译:用物理气相沉积法低温形成铝化钛薄膜。
机译:压电沉积法和压电/电薄膜类型元件的低温/压电/电薄膜类型元件的低温形成
机译:等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)制备低温低应力低k介电体的低温工艺
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