掺锑Zn-Sn-O透明导电膜的制备及特性

摘要

采用射频磁控溅射技术在7059玻璃衬底上低温制备出具有多晶结构的掺锑锌-锡-氧(Zn-Sn-O:Sb)透明导电膜.研究了制备薄膜的结构、成分、电学和光学特性以及退火温度对薄膜性能的影响.Zn-Sn-O:Sb透明导电膜的电阻率为1.5×10-2Ω·cm,相应载流子浓度和霍尔迁移率分别为8.0×1019cm-3,5.8cm2·v-1·s-1.薄膜的可见光平均透过率达到了85%.