University of California, Irvine.;
机译:沉积方法对PECVD低k碳掺杂二氧化硅介电薄膜介电击穿强度的影响
机译:PECVD低k介电薄膜的厚度依赖性玻璃化转变温度:沉积方法的影响
机译:PECVD低k碳掺杂二氧化硅介电薄膜的温度加速介电击穿
机译:PECVD碳掺杂SiO2低铜薄膜用于铜双镶嵌金属化的评价与集成
机译:等离子增强化学气相沉积(PECVD)系统的设计和实现,该系统用于研究碳60聚合物复合薄膜和表面功能化对碳60的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:快速热退火后薄pECVD碳膜的沉积与性能