机译:具有InGaP势垒层和Al2O3介质的埋入InGaAs沟道nMOSFET的正偏置温度不稳定性退化。
机译:InGaAs沟道nMOSFET的正偏置不稳定性和恢复
机译:温度和沟道掺杂对NMOSFET BSIM3阈值电压模型的影响,取决于衬底偏置方法
机译:ALD氧化剂和通道掺杂对表面通道阳性偏压应力特性的影响IN0.53GA0.47ASFOSFET
机译:脉冲激光辐照诱发的钼,镍和铋单晶表面缺陷结构的研究:LEED和单正氦离子通道(热应力,滑动,位移)表征。
机译:通过改进的表面通道技术将重掺杂的块状硅侧壁电极嵌入到自由悬置的微流体通道之间
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