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林耀望; 潘钟; 吴荣汉;
中国电子学会;
光电子材料; 光电子器件; 量子阱激光器; 砷化镓;
机译:InGaAs和InGaAsP量子阱的选择性底切蚀刻,可改善长波长光电器件的性能
机译:用于长波长发光器件的InGaAsN / GaAs异质结构
机译:长波长(Λ= 13μm)子带间In(Ga)As-GaAs量子点电致发光器件的子带间增益和受激发射
机译:(GA)AS / GaAs量子点电致发光器件中的长波长
机译:快速热退火对MBE生长的光电器件GaAsBi / GaAs异质结构影响的研究。
机译:具有优化的GaAsSbN覆盖层的InAs / GaAs量子点的长波长室温发光
机译:ALMBE技术在HEMT器件的GaAsnAlGaAs,n-GaAsInGaAs和AlAsInAsGaAs外延系统中的应用
机译:用于alxGa(1-x)as / Gaas mOsFET和相关异质结器件的Gaas和p + Gaas层的半导体器件处理蚀刻剂溶液的表征
机译:在GaAsN势垒层和InGaAsN量子阱中使用Sb的长波长VCSEL有源区
机译:/异质结半导体器件的GaAs / AlGaAs选择性刻蚀方法和使用GaAs / AlGaAs选择性刻蚀方法制造p-HEMT的方法
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