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光瞳滤波提高点线图形光刻分辨率研究

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摘要

为进一步提高部分相干投影成像系统的光刻分辨率和焦深,详细研究了光瞳滤波的基本理论,给出数学模型,进行模拟计算,取得计算结果和实验结果.理论分析和实验结果表明,光瞳滤波能显著提高投影成像系统光刻分辨率和焦深,是一种比较有效提高光刻分辨率的波前工程技术.

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来源
《第十二届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议》|2002年|240-243|共4页
会议地点厦门
作者
陈旭南; 石建平; 罗先刚; 康西巧;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
光瞳滤波; 投影成像光刻系统; 光刻分辨率; 数学模型; 模拟计算;

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