法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-19
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B27/58 申请日:20190807
实质审查的生效
2020-04-24
公开
公开
机译: 用于投影曝光系统的照明光学单元,具有光瞳刻面镜,该光瞳刻面镜被设置为使得内部组中的光瞳刻面的数量被设置为与外部组中的光瞳刻面的数量不同。
机译: 图像显示设备,例如头戴式显示设备,具有瞳孔光学器件,该瞳孔光学器件在空间上放大成像光学器件的出射光瞳和/或移动成像光学器件的出射光瞳
机译: 用于投影曝光系统即EUV投影曝光系统的照明装置,具有使光透射到场镜和光瞳镜的光源,以及形成在光瞳镜的不同位置和光区域的场镜。