一种二元光学元件阵列微芯模的工艺设计研究

摘要

本文提出一种二元光学元件微型芯模的工艺设计方法,利用了数字调制器件(DMD芯片)的空间光调制特性。首先通过编程设计出二元光学器件的相关软件,以实现菲涅耳透镜、龙基光栅等各种矢量图形,经过14 倍精缩光学系统,将由DMD 芯片生成的二元光学器件图像成像在涂有光刻胶的基板上.这种基板材料是利用高温镍合金制造,通过高速匀胶机在其表面形成1μm 的光刻胶图层,将其移入主波长为365nm 的紫外光刻机成阵列式曝光,经显影、定影和坚膜后,再利用电化学蚀刻,得到一种二元光学阵列的微芯模.