反射型

摘要： 本文介绍了一款基于多层频率选择表面的宽频带折叠传输阵天线。该天线包含上层加载线极化栅的平面传输阵面、下层宽带极化扭转反射表面以及平面微带贴片阵列馈源。首先,提出并设计了一款加载线极化栅的三层双环传输阵单元,它可以反射一种线极化波,同时透射另一种与之正交的线极化波。其次,设计了一款宽带反射型极化扭转单元,它可以把一种线极化波扭转为与之正交的另一种线极化波。由于线极化栅和反射型极化扭转单元的存在,上层传输阵面与下层极化扭转反射阵面之间的距离缩减为等效馈源与平面传输阵之间距离的三分之一。最后,加工制作该折叠传输阵。实测结果显示,该天线获得了7%的1-dB增益带宽,天线在中心频点21 GHz处获得了最大增益23.8 dBi,辐射效率为39%。

摘要： 历史题材纪录片的发展走过了近百年的时光,从过去的就事论事的阐释型过渡到抚今追昔、咏史言志的反射型,这是主题的根本改变,而其中的创作手法也随之发生了很大的变化,人文关怀、现实切口、平民化视角、情景再现等等,让历史题材纪录片放射出别样的光彩.

摘要： 偏光片是LCD液晶显示器的核心原件,其贴附在液晶玻璃上下侧,配合液晶的转动控制光线在液晶面板内的通过与否来达到显示效果.偏光片有三种类型,包括透射类型、反射类型和半透半反类型.由于反射类型偏光片是靠自然光反射显示,因而,不需要背光源,具有省电、低成本的特点,在家电遥控器领域得到广泛应用.在偏光片生产制作程中,是通过涂覆一层铝膜来实现反射功能,由于铝属于活泼性金属,因而在湿热环境中容易被氧化,使得偏光片失去反射功能,造成显示性能的缺陷.

摘要： 三菱电机株式会社推出半透半反射型工业用彩色TFT液晶模块的新产品,兼具更高的可视性,更广的工作温度范围(-30°C~+85°C)和小型轻薄等特点。新产品4.3寸WQVGA与样品自4月1日起供应。该新产品将成为便携式测量仪等需在日光直射环境下使用的室外工业设备显示器的最佳选择。

摘要： 提出了一种由表层矩形金属周期图案、聚酰亚胺薄膜基底和金属反射面组成的新型反射型极化变换器.为了降低极化变换器对基底厚度的敏感度,增大工作带宽,该设计采用将传统反射型极化变换器表层金属线栅开口截断和增大金属线栅宽度的方法,引进了表层金属图案对两正交极化方向电磁场的等效电容电感效应,进行相位调制.仿真结果表明中心频率为500 GHz时,工作带宽可达到140 GHz,插入损耗小于0.5 dB,并且在一定基底厚度条件下误差在一定范围内,整体性能几乎无变化.仿真表明该极化变换器有效增大了工作带宽,并降低了对基底厚度敏感度.提出了薄膜光刻工艺来对设计的极化变换器进行加工制作.

摘要： 我国建筑物总体节能达标率低,研究建筑保温对于降低能耗有着重要意义.本文综述了建筑保温隔热涂料的作用机理及研究现状,对反射型隔热保温涂料研究现状做了重点介绍,同时介绍了保温隔热涂料的最新发展趋势.%The overall efficiency of energy saving in China's buildings is low, It is of great significance to study building thermal insulation for reducing energy consumption. In this paper, the mechanism and research status of architectural thermal insulation coatings were reviewed, especially the research status of reflective heat insulation coatings. At the same time, the latest development trend of thermal insulation coatings was introduced.

摘要： 2018年7月19日索尼正式发布0.37英寸全高清反射型液晶显示芯片SXRD^TM(Silicon X—Tal(crystal)Reflective Display)“SXRD 241A”及搭载了高画质信号处理功能的专用驱动LSI“CXD 3554 GG”,两者将共同应用于便携式投影仪。

摘要： 提出了一种由表层矩形金属周期图案、聚酰亚胺薄膜基底和金属反射面组成的新型反射型极化变换器。为了降低极化变换器对基底厚度的敏感度,增大工作带宽,该设计采用将传统反射型极化变换器表层金属线栅开口截断和增大金属线栅宽度的方法,引进了表层金属图案对两正交极化方向电磁场的等效电容电感效应,进行相位调制。仿真结果表明中心频率为500 GHz时,工作带宽可达到140 GHz,插入损耗小于0.5 dB,并且在一定基底厚度条件下误差在一定范围内,整体性能几乎无变化。仿真表明该极化变换器有效增大了工作带宽,并降低了对基底厚度敏感度。提出了薄膜光刻工艺来对设计的极化变换器进行加工制作。

摘要： 《挠性及刚挠印制电路板》、《高反射型覆铜箔层压板》征求意见稿阶段标准化面审会于2018年4月25日~4月27日在苏州高新区智选假日酒店胜利召开,标准面审会致力于提高标准技术含量、提升审核效率、扩大标准适用性和实用性.

摘要： 本文介绍了隔热保温涂料的隔热机理及其分类,综述了隔热保温涂料的国内外研究进展,最后对其在建筑领域的应用及研究方向进行了展望。

摘要： 8mm连续可调移相器是采用环行器的反射型模拟移相器,由变容管分支构成可变电抗,其输入、输出接口为波导.该移相器的性能参数为:工作频率范围f=35GHz±200MHz,插入损耗4.7~6.6dB,移相范围ΔΦ=0°~180°连续可调,输入电压驻波比VSWR=1.2,输出电压驻波比VSWR=1.6.

摘要： 本发明提供抑制了由自钌（Ru）保护层的氧化导致的反射率降低的EUV掩模坯料、和该EUV掩模坯料的制造中使用的带反射层的衬底、以及该带反射层的衬底的制造方法。一种带反射层的EUV光刻用衬底，其特征在于，其在衬底上依次形成有用于反射EUV光的反射层和用于保护该反射层的保护层，前述反射层为Mo/Si多层反射膜，前述保护层为Ru层或Ru化合物层，在前述反射层与前述保护层之间形成有含有0.5~25at%的氮且含有75~99.5at%的Si的中间层。

摘要： 本发明公开一种用于液晶显示器的反射板，包括：反射表面、设置在反射表面上的多个反射突起，其中，每个反射突起形成球体的一部分。突起具有半径和高度，每个突起的半径与高度之比的范围是20∶1到7∶1。

摘要： 本发明提供抑制了由自钌（Ru）保护层的氧化导致的反射率降低的EUV掩模坯料、和该EUV掩模坯料的制造中使用的带反射层的衬底、以及该带反射层的衬底的制造方法。一种带反射层的EUV光刻用衬底，其特征在于，其在衬底上依次形成有用于反射EUV光的反射层和用于保护该反射层的保护层，前述反射层为Mo/Si多层反射膜，前述保护层为Ru层或Ru化合物层，在前述反射层与前述保护层之间形成有含有0.5~25at%的氮且含有75~99.5at%的Si的中间层。

摘要： 本发明公开一种用于液晶显示器的反射板，包括：反射表面、设置在反射表面上的多个反射突起，其中，每个反射突起形成球体的一部分。突起具有半径和高度，每个突起的半径与高度之比是固定值。

摘要： 本发明提供即使在薄膜吸收膜所使用的材料对于EUV光的消光系数k大的情况下，也能够缩短电子束校正蚀刻所需时间的反射型掩模坯、反射型掩模、反射型掩模的制造方法、以及反射型掩模的校正方法。本实施方式涉及的反射型掩模坯(10)具有：基板(1)、多层反射膜(2)、封盖层(3)、低反射部(5)，低反射部(5)由吸收膜(A)和吸收膜(B)交替层叠而成，吸收膜(A)的电子束校正时的校正蚀刻速率大于吸收膜(B)的电子束校正时的校正蚀刻速率，吸收膜(B)含有选自锡、铟、铂、镍、碲、银及钴中的1种以上的元素。

摘要： 本发明提供用于制造能够在包含氢气的气体氛围中进行了EUV曝光的情况下抑制吸收体图案剥离的反射型掩模的反射型掩模坯料。所述反射型掩模坯料具备基板、基板上的多层反射膜、以及多层反射膜上的吸收体膜，上述吸收体膜包含吸收层及反射率调整层，上述吸收层含有钽(Ta)、硼(B)及氮(N)，并且含有选自氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，上述吸收层的上述硼(B)的含量超过5原子％，上述吸收层的上述添加元素的含量为0.1原子％以上且30原子％以下。

摘要： 本发明通过使用能够选择性蚀刻的蚀刻液，使半透射半反射型电极基板的制造过程简化，避免复杂的反复作业，得到不发生时间损耗的工序，效率良好地提供半透射半反射型电极基板。本发明是制造按顺序积层了至少包含氧化铟的金属氧化物层12和至少包含Al或Ag的无机化合物层14的半透射半反射型电极基板的方法，其通过使用包含磷酸、硝酸、乙酸的蚀刻液λ蚀刻上述无机化合物层14的工序和使用含有草酸的蚀刻液σ蚀刻上述金属氧化物层12的工序来制造半透射半反射型电极基板。

摘要： 本发明提供带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。带多层反射膜的基板(110)具备基板(1)和多层反射膜(5)。多层反射膜(5)在基板(1)上由交替层叠低折射率层和高折射率层而成的多层膜形成。多层反射膜(5)含有选自氢(H)、氘(D)及氦(He)中的至少一种添加元素。添加元素在多层反射膜(5)中的原子数密度为0.006atom/nm3以上且0.50atom/nm3以下。

摘要： 本发明的课题在于提供用于制造具有对蚀刻气体的耐性高、相对于清洗的耐性高的保护膜的反射型掩模的带多层反射膜的基板。为此，本发明的带多层反射膜的基板具有基板、设置于该基板上的多层反射膜、以及设置于该多层反射膜上的保护膜，其中，上述保护膜含有钌(Ru)、并含有选自铝(Al)、钇(Y)、锆(Zr)、铑(Rh)及铪(Hf)中的至少一种添加材料，上述添加材料的含量为5原子％以上且小于50原子％。

摘要： 本发明的目的在于提供一种带多层反射膜的基板，其用于制造具有对曝光光的反射率高、且在缺陷检查时的背景水平低的多层反射膜的反射型掩模坯料及反射型掩模。为此，本发明的带多层反射膜的基板具备用于反射曝光光的多层反射膜，该多层反射膜由在该基板上交替层叠有低折射率层和高折射率层的多层膜构成，上述多层反射膜含有钼(Mo)、和选自氮(N)、硼(B)、碳(C)、锆(Zr)、氧(O)、氢(H)及氘(D)中的至少1种添加元素，由基于X射线衍射得到的Mo(110)的衍射峰计算出的上述多层反射膜的雏晶尺寸为2.5nm以下。