化学抛光

摘要： 固体波动陀螺是一种基于科里奥利效应的新型陀螺,具有环境适应性强、可靠性高、长寿命、高精度等优点。石英谐振子作为其核心部件,其性能的好坏直接关系到固体波动陀螺的性能,因此对石英谐振子进行特殊的加工手段是提高固体波动陀螺性能的关键。石英谐振子影响陀螺精度的主要技术指标有两项分别为频率裂解值及品质因数,针对上述两项指标本文从石英谐振子超精密加工、石英谐振子调平、谐振子表面金属化镀膜三个技术方面对石英谐振子的加工进行论述。

摘要： 本文采用化学抛光技术工艺替代传统的研磨工艺,抛光药剂可以循环使用。新工艺不仅提高了生产效率,降低了生产成本,提高了不锈钢紧固件产品的外观质量,而且新的化学抛光技术使用环保化学药剂,减少了对紧固件产品和设备的腐蚀,使用过程中减少了废水的排放,新的化学抛光工艺的废水中不含有重金属元素,废水中COD的含量远远低于传统研磨工艺的废水。因此,本文中开发的不锈钢紧固件新抛光工艺具有明显的经济和社会效益。

摘要： 提出了以铝及铝合金化学抛光磷酸废液为研究对象有效回收磷资源制备工业级磷酸二氢铵(MAP)的工艺方法.实验结果表明,将原废液稀释至质量浓度为95 g/L,反应温度为80°C,氨水中和除杂终点pH为4左右,除杂反应时间为1 h,将过滤液用氨水二次调节pH至7～8后蒸发浓缩,浓缩液加入纯度较高的磷酸废液回调pH至4～5,冷却结晶后85°C烘干得到MAP产品,产品经主含量、XRD分析,结果显示各项指标均符合HG/T 4133—2010《工业磷酸二氢铵》一级产品标准的要求.

摘要： 3D打印(增材制造)技术以其能够快速成型,对于结构复杂零部件的制造更有优势而受到航空企业重视.3D打印工艺逐层生长的特点,造成了打印出来的零部件表面粗糙度较差,很多部件必须经过后续表面加工才能达到应用要求.概述了3D打印技术在航空制造业中的应用,3D打印零部件应用面临的难题以及目前常用的表面加工工艺,重点论述了机械抛光、化学抛光、磨粒流抛光、激光抛光和电化学抛光工艺,对目前3D打印零部件常用的表面加工工艺做了比较和归纳.

摘要： 建立了化学抛光液中甲酸、草酸、酒石酸、氨三乙酸等4种有机酸的离子色谱?抑制电导测定方法.采用IonPac AS11分析柱(250 mm×4 mm)和IonPac AG11保护柱(50 mm×4 mm),柱温30°C,以20 mmol/L氢氧化钠水溶液为洗脱液,在1.00 mL/min的流速下洗脱,4种酸可得到很好的分离.再结合AERS-500阴离子抑制器和电导检测器,测定了4种酸的含量.甲酸、草酸、酒石酸、氨三乙酸的质量浓度与其离子色谱峰面积有良好的线性关系,检出限分别为0.01、0.08、0.02和0.05 mg/L,加标回收率在92.4％ ～107.3％范围内,相对标准偏差在0.70％ ～4.56％范围内.该方法前处理简便,能同时测定化学抛光液中上述4种有机酸的含量,可用于在线测定和控制.

摘要： 防眩玻璃简称AG玻璃,能降低玻璃表面环境反光干扰.通过化学抛光来改变防眩玻璃光泽度,并对化学抛光过程中各阶段玻璃表面形态进行了观测.随着抛光蚀刻量的增加,AG玻璃光泽度先下降后上升.同种材质的AG玻璃,雾度小的在化学抛光后玻璃光泽度大.同一雾度的AG玻璃,蚀刻量100μm,高铝AG玻璃的光泽度大于钠钙AG玻璃.

摘要： 针对碲镉汞薄膜化学抛光过程中容易产生材料组分均匀性变差、影响芯片性能的现象,提出了一种分步化学抛光技术.材料表面分析和组分分析结果表明,分步化学抛光可以降低材料表面的粗糙度,改善化学抛光材料组分的均匀性,有效地去除材料表面氧化,同时对探测器芯片性能的均匀性提升也做出了一定的贡献.

摘要： 通过试验制定了现场金相的化学抛光制样方法,用以替代传统的机械制样方法;通过调试确定了化学抛光试剂的成分以及各成分的适宜比例,使金属处于活化-钝化的边界状态,从而达到理想的抛光效果;化学抛光后试样表面的腐蚀校为严重,通过增加机械抛光的方式可弥补该不足,获得的显微组织与采用传统机械制样方法的一致;同时对化学抛光制样的机理以及抛光试剂中过氧化氯、氯氟酸、草酸等组分在抛光过程中的作用进行了探讨.

摘要： 高能粒子加速器性能很大程度上依赖于超导射频铌腔内表面状态.文中通过分析铌材化学抛光速率、抛光表面的形貌和氧化状态等参数,确定了合适的化学抛光工艺.采用混合酸(V(HNO3)∶V(HF)∶V(H3PO4)=1∶1∶2)为抛光试剂,抛光6～15min可移除铌表面154～360μm厚度,抛光表面的粗糙度Ra＜0.65μm.XPS分析表明,铌材原始表面氧化物主要以Nb2O5为主,包含少量NbO2或NbO,抛光后氧化层厚度小于10nm.同时,利用电子背散射衍射技术(EBSD)结合表面形貌讨论了化学抛光机制,发现机加纹路消除后继续延长抛光时间,晶粒内高指数晶面(原子疏排面)会被优先抛光,从而在晶界处形成较深的沟槽,在晶粒内出现尖锐突起.

摘要： 综述了铜合金化学抛光的应用现状及不同工艺中各组分的作用,包括硝酸及硝酸盐体系、过氧化氢体系抛光液,并且介绍了各体系中存在的问题及其解决方案.目前铜合金化学抛光工艺存在着自身制约的地方,本文通过对铜合金不同化学抛光工艺的对比分析,探讨了未来国内外在铜合金抛光的发展方向.绿色环保型处理工艺是当下金属表面处理的发展趋势，并且环境问题逐渐变成制约行业发展的重要问题，为了摆脱这个现状，则需要解决工艺源头带来的环境污染问题，从而实现绿色环保的可持续发展。与绿色环保理念相结合，提高抛光质量以及抛光液的稳定性将是化学抛光液研究的重点。化学-机械抛光(CMP)[25-27]是一种优良的绿色环保抛光工艺，然而其适用范围较窄，不适用于解决大多数铜制件的表面抛光问题。简化其抛光工艺，使其可以被大多数行业接受，将推动金属表面抛光技术的发展。

摘要： 铝及铝合金表面处理技术发展到现在越来越成熟,处理方式也越来越多样化,本文就铝及铝合金无烟化学抛光做简单介绍.其工艺流程为碱蚀→水洗→表调→水洗→化学抛光→水洗→后处理。分析了温度与清晰度的关系，时间对清晰度的影响，挺拌及搅拌方式、速度对清晰度的影响，其他添加剂对清晰度的影响。

摘要： 铝制件基体的微观组织直接影响阳极氧化膜层的形成和长大，欲获得性能良好的阳极氧化膜，不仅要选择适当的氧化工艺，而且应该控制基体合金的显微组织，特别是第二相粒子的数量、大小和分布。经过化学抛光后的铝及铝合金制件，进行阳极氧化处理后，可得到光洁、光亮、透明度较高的氧化膜层，若经染色，可得到各种色彩鲜艳的表面。

摘要： 对于铝合金化学抛光而言,铝离子浓度分析是一项十分重要的槽液管控项目,因此铝离子浓度分析方法的准确性显得尤其关键.本文探讨了EDTA返滴定法测定铝离子浓度时的PH值,二甲酚橙指示剂的加入量对铝离子浓度分析准确性的影响.

摘要： 铝材前处理中,抛光液随工件进入水洗槽,造成其中酸和铝离子的不断富集,影响水洗效果.本文通过萃取法脱除水洗液中的铝离子,一级萃取铝离子脱除率可达30％多,经过循环萃取后,将水洗液浓缩回用到抛光槽,既节约成本,又减少环保压力.

摘要： 金属材料薄至0.1mm以下时,其优异的可挠特性即可表现出来,不锈钢或将成为柔性显示器的主要基板材料.抛光液在工作区能够与工件发生化学反应从而影响工件表面质量和材料去除率(MRR).实验采用乙二胺(EDA)、氢氧化钠、草酸、盐酸分别配制不同的酸碱性抛光液,研究抛光液酸碱性对游离磨料抛光304不锈钢材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响.实验结果表明:酸性抛光液抛光的材料去除率高于碱性抛光液;草酸抛光液可同时获得优表面质量和高加工效率,抛光后的304不锈钢表面粗糙度Ra值为6.22nm,材料去除率为445nm/min.

摘要： 金属材料薄至0.1mm以下时,其优异的可挠特性即可表现出来,不锈钢或将成为柔性显示器的主要基板材料.抛光液在工作区能够与工件发生化学反应从而影响工件表面质量和材料去除率(MRR).实验采用乙二胺(EDA)、氢氧化钠、草酸、盐酸分别配制不同的酸碱性抛光液,研究抛光液酸碱性对游离磨料抛光304不锈钢材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响.实验结果表明:酸性抛光液抛光的材料去除率高于碱性抛光液;草酸抛光液可同时获得优表面质量和高加工效率,抛光后的304不锈钢表面粗糙度Ra值为6.22nm,材料去除率为445nm/min.

摘要： 金属材料薄至0.1mm以下时,其优异的可挠特性即可表现出来,不锈钢或将成为柔性显示器的主要基板材料.抛光液在工作区能够与工件发生化学反应从而影响工件表面质量和材料去除率(MRR).实验采用乙二胺(EDA)、氢氧化钠、草酸、盐酸分别配制不同的酸碱性抛光液,研究抛光液酸碱性对游离磨料抛光304不锈钢材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响.实验结果表明:酸性抛光液抛光的材料去除率高于碱性抛光液;草酸抛光液可同时获得优表面质量和高加工效率,抛光后的304不锈钢表面粗糙度Ra值为6.22nm,材料去除率为445nm/min.

摘要： 本发明提供一种能使液晶玻璃基板循环再利用、对于液晶玻璃基板进行化学抛光的方法及化学抛光装置。所使用的化学抛光液由氢氟酸及其盐的混合液(其中的氢氟酸盐为氟化铵、氟化钾和氟化钠中的任一种或者多种)，盐酸、硫酸、磷酸和硝酸等无机酸的一种或多种，醋酸和琥珀酸等有机酸的一种或者其混合物，磺酸盐类阴离子表面活性剂以及胺类两性表面活性剂组成。

摘要： 本发明公开了电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法，属于金属增材制造抛光处理技术领域。本发明解决的技术问题是现有技术还没有适宜的办法对内腔‑管道一体化结构的内腔表面进行抛光处理。本发明电化学抛光用柔性电极包括绝缘层、电极层和支撑层，将柔性电极进入到待抛光工件内腔结构，对柔性电极进行充气或液膨胀，使柔性电极在工件内壁的约束下自适应匹配内腔结构形态，将整个工件浸没在抛光液中，在适宜的抛光电压和电流下对工件内壁进行电化学抛光。本发明柔性电极抛光可达性好，解决了具有较大变径比的管道‑内腔一体结构的内壁均匀抛光问题。

摘要： 本发明属于铜材抛光技术领域，具体涉及一种化学抛光液及化学抛光工艺。本发明提供的化学抛光液，包括以下组分及其质量浓度：密度为1.84g/cm

摘要： 本发明公开了一种化学抛光液，其特征在于，包括重量份数的如下原料：磷酸52‑60份，硫酸31‑41份，硫酸铜0.21‑0.31份，草酸0.03‑0.07份，钨酸钠0.54‑0.7份，硫酸铁0.13‑0.17份，硫酸钛0.06‑0.1份，乙二醇1.1‑1.5份；本发明的化学抛光液不受铝制品形状的限制，使得铝制品表面抛光均匀、一致；本发明的化学抛光液处理后的铝制品光泽度高，无流痕；本发明的化学抛光液在处理铝制品时有足够的滞空时间，能够满足自动化生产的需求。

摘要： 本发明提供一种能使液晶玻璃基板循环再利用、对于液晶玻璃基板进行化学抛光的方法及化学抛光装置。所使用的化学抛光液由氢氟酸及其盐的混合液(其中的氢氟酸盐为氟化铵、氟化钾和氟化钠中的任一种或者多种)，盐酸、硫酸、磷酸和硝酸等无机酸的一种或多种，醋酸和琥珀酸等有机酸的一种或者其混合物，磺酸盐类阴离子表面活性剂以及胺类两性表面活性剂组成。

摘要： 本发明涉及一种电化学抛光装置、罐体的电化学抛光方法和罐体的制备方法。所述电化学抛光装置包括导电主轴、导线和电极网格；所述导电主轴用于电连接电源的负极，并能够通过绝缘材料安装于待抛光罐体的中轴线处，所述电极网格呈网格状，所述电极网格通过所述导线与所述导电主轴连接；所述电极网格能够悬挂于所述导电主轴和所述待抛光罐体的待抛光内表面之间，并能够与所述待抛光罐体及通入其内的电解液组成电解池。上述装置所需电解液量少，抛光效果好。

摘要： 本发明公开了电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法，属于金属增材制造抛光处理技术领域。本发明解决的技术问题是现有技术还没有适宜的办法对内腔‑管道一体化结构的内腔表面进行抛光处理。本发明电化学抛光用柔性电极包括绝缘层、电极层和支撑层，将柔性电极进入到待抛光工件内腔结构，对柔性电极进行充气或液膨胀，使柔性电极在工件内壁的约束下自适应匹配内腔结构形态，将整个工件浸没在抛光液中，在适宜的抛光电压和电流下对工件内壁进行电化学抛光。本发明柔性电极抛光可达性好，解决了具有较大变径比的管道‑内腔一体结构的内壁均匀抛光问题。

摘要： 本发明公开了一种喷砂面铝合金两酸化学抛光用添加剂、化学抛光液及其制备方法，属于金属表面处理技术领域。该添加剂由按该添加剂总质量百分比计的各组分制备而成：磷酸70‑80wt.％、缓蚀剂10‑12wt.％、稳定剂7‑10wt.％、表面活性剂3‑8wt.％。所述的两酸化学抛光液包括由硫酸和磷酸混合形成的抛光基液和上述添加剂。该添加剂及含有该添加剂的抛光剂能够显著改善喷砂铝合金制件表面出现的流痕、面花、材料纹露出、亮度不均匀等不良现象，提高产品良率，同时产品表面出光速度快，可提高生产效率，降低生产成本，适用于3C产品如笔记本外壳、i PAD外壳、手机外壳等铝制品的两酸化学抛光，尤其适用于自动线连续生产用。

摘要： 本发明提供了一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备，该阴极结构包括至少一第一阴极部和至少一第二阴极部，所述第一阴极部与所述第二阴极部相连，所述第一阴极部与所述第二阴极部用于抛光工件的表面。该电化学抛光槽包括上述的阴极结构，该电化学抛光设备包括上述的电化学抛光槽。本发明可以使得工件的内表面与外表面都能达到良好的抛光效果，以提高工件内外表面的外观质量，此外，本发明提供的组合结构式的阴极结构相比于传统的单一结构式的阴极结构，能够精细地调整工件与阴极结构之间的间距，从而使得具有复杂结构的工件达到比较好的抛光效果。

摘要： 本实用新型提供了一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备，该阴极结构包括至少一第一阴极部和至少一第二阴极部，所述第一阴极部与所述第二阴极部相连，所述第一阴极部与所述第二阴极部用于抛光工件的表面。该电化学抛光槽包括上述的阴极结构，该电化学抛光设备包括上述的电化学抛光槽。本实用新型可以使得工件的内表面与外表面都能达到良好的抛光效果，以提高工件内外表面的外观质量，此外，本实用新型提供的组合结构式的阴极结构相比于传统的单一结构式的阴极结构，能够精细地调整工件与阴极结构之间的间距，从而使得具有复杂结构的工件达到比较好的抛光效果。