功率开关器件
功率开关器件的相关文献在1990年到2023年内共计242篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、电工技术、自动化技术、计算机技术
等领域,其中期刊论文72篇、会议论文11篇、专利文献552361篇;相关期刊54种,包括数控机床市场、电源技术、电力电子技术等;
相关会议8种,包括2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会、第十七届全国化合物半导体材料微波器件和光电器件学术会议、2008中国人工智能学会智能检测与运动控制会议等;功率开关器件的相关文献由443位作者贡献,包括王达开、朱永生、裴轶等。
功率开关器件—发文量
专利文献>
论文:552361篇
占比:99.98%
总计:552444篇
功率开关器件
-研究学者
- 王达开
- 朱永生
- 裴轶
- 黄电勋
- 张波
- 张进成
- 杜鸣
- 毛维
- 郝跃
- 马佩军
- 俞跃辉
- 杨翠
- 游晋豪
- 程新红
- 裴晨
- 郑理
- 金茜
- 丘东元
- 何怡刚
- 张伟
- 张扬
- 曲延滨
- 李军远
- 王成效
- 童乔凌
- 谢潮声
- 赵胜雷
- 郭锋
- 陈铭芸
- A.迈尔
- C.德耶拉西
- F·鲍温斯
- H-P.克罗伊特
- J·R·吉塔特
- P.德尔克罗切
- R.伊林
- 于志涛
- 亢宝位
- 介芳
- 但志敏
- 何晓宁
- 侯磊
- 侯贻真
- 冯春
- 凌兆蔚
- 刘大勇
- 刘少飞
- 刘峥
- 刘平
- 刘扬
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覃孟;
潘革生
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摘要:
GaN功率开关器件界面态和缓冲层中深能级陷阱会导致高压电流坍塌和动态导通电阻退化.为提升高性能GaN功率开关器件抗高压性能,改善动态导通电阻退化能力,应采用极值性PEALD-AlN钝化技术设计高压状况下GaN功率开关器件,实现单片集成器件的目的,在去氧化层和氮化处理GaN功率开关器件表面后,采用高温LPCVD-SiNx钝化技术,使器件表面形成钝化层,抑制界面态导致的高压电流坍塌.同时,在高性能GaN功率开关器件电极附近注入磷离子,提升导通电阻性能,降低导通电阻退化速度.经过实验分析发现,经过极值性PEALD-AlN钝化后的GaN功率开关器件电流几乎无明显变化,在磷离子注入后,随着触发能量的变化,导通电阻变化较小,最小值达到3.16Ω/mm,即该方法能有效抗高压动态导通电阻退化.
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高伟;
赵璐冰
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摘要:
本文结合SiC MOSFET国际标准进展,分析了阈值电压漂移、偏压温度不稳定性、体二极管退化测试标准的制定难点;同时,根据国内外产业发展现状、我国技术标准进展,分析了测试设备精度、新型封装、动态可靠性等关键问题与标准制定面临的挑战,并提出了首先定位团体标准制定的工作机制,以期以技术标准的研制支撑产业的市场化发展.
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程俊红;
肖震霞
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摘要:
测试半导体GaN功率开关器件灵敏度对掌握器件性能具有重要意义,提出一种新型半导体GaN功率开关器件灵敏度测试技术.通过分析半导体GaN功率开关器件的导通电阻与击穿电压关系、空穴电流与栅极电流关系,掌握功率开关器件击穿机理,在此基础上,测试其灵敏度;根据灵敏度测试原理与微频通道衰减值周期检查原理,测量功率开关器件微频信号功率和微频通道衰减值,汇总微频通道衰减值和最后1次开关灵敏时的衰减值,得到其灵敏度.实验结果表明:所提测试技术在测量灵敏度过程中,平均测试误差为0.044 dB,仅平均花费9.61 ms,是一种高效、可靠的半导体GaN功率开关器件灵敏度测试技术.
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摘要:
意法半导体最新推出两款快速启动的智能型功率开关器件(IPS),以满足更高的安全型应用需求。IPS160HF和IPS161HF,其导通延迟时间小于60μs,能够满足SIL Class-3的C、D类接口应用的标准要求。这两款产品具有8~60 V的宽输入电压范围,120 mΩ的最大开关导通电阻(RDS(on)),10μs的电压上升/下降时间,20μs的传输延迟,兼具灵活性、低耗散功率和快速响应。升级的诊断功能可以指示开路负载、过流关断和过热关闭,简化安全需求型的功能设计。
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摘要:
本书系统介绍了逆变焊机的原理及设计方法,共分为5章。第1章介绍了焊机的发展过程:从弧焊发电机发展为逆变焊机,从晶闸管逆变焊机发展为IGBT逆变焊机,并向着数字化的方向发展。第2章介绍了逆变焊机的主电路设计、功率开关器件的选用和计算,以及控制电路的设计。
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何亮;
郑介鑫;
刘扬
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摘要:
氮化镓(GaN)功率电子器件具有优异的电学特性,在高速、高温和大功率领域具有十分广阔的应用前景,满足下一代功率管理系统对高效节能、小型化和智能化的需求.P型栅和Cascode结构的常关型GaN器件已逐步实现产业化,但鉴于这两种器件结构本身存在的缺点,常关型GaN MOSFET器件方案备受关注.目前,GaN功率开关器件主要朝高频化发展,封装形式从直插型(TO)封装向贴片式(QFN)封装演变,为进一步消除寄生效应对器件高速开关特性造成的不良影响,驱动和功率器件集成的GaN功率集成电路(IC)技术被采用,单片集成的全GaN功率IC是未来的发展方向.%Gallium nitride(GaN)-based power devices have bright market prospects in the field of high-speed,hightemperature and high-power applications owing to their superior electrical properties.P-gate and cascode structure are applied in industrial productions and high-performance normally-off MOSFET gets increasingly attention in the industry.Currently,high frequency power switching is main development trend of GaN power devices.Their packaging formats evolve from transistor outline (TO) package to quad fiat no-lead (QFN) package and serious parasitic effects have adverse effect on the switching.GaN power intrgrated circuit(IC) technology,in which driver and power component are integrated together,can effectively eliminate the parasitic effects.Monolithic integrated full GaN power IC is the development direction in the future.
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黄森;
王鑫华;
康玄武;
刘新宇
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摘要:
Insulated-gate gallium nitride (GaN)-based lateral power switch is the best candidate for next-generation GaN power electronic technology.The scientific and technical challenges towards high-performance GaN-on-Si metalinsulator (oxide)-semiconductor (MIS/MOS) high-electron-mobility transistors (HEMT) are systematically analyzed,including surface/interface states induced threshold voltage instability and dynamic on-resistance degradation,and controllability in enhancement-mode gate fabrication.State-of-the-art MIS/MOS-HEMT technologies are introduced,including engineering of surface/interface states on (Al)GaN,growth of high reliability gate dielectrics,and key technologies in fabrication of GaN-on-Si power devices in Si-complementary MOS(CMOS) foundries.%绝缘栅氮化镓(GaN)基平面功率开关器件是下一代GaN功率电子技术的最佳选择.在此从Si基GaN金属绝缘体(氧化物)半导体(MIS/MOS)高电子迁移率晶体管(HEMT)器件面临的界面态和增强型栅产业化制备等方面入手,介绍了绝缘栅GaN基器件表界面态工程,高可靠栅介质及兼容互补MOS(CMOS)工艺的大尺寸Si基GaN器件制造等技术的研究进展,为绝缘栅GaN基平面功率开关器件的产业化应用奠定基础.
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张歆炀;
帕孜来·马合木提
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摘要:
多电平功率变换技术难以建立精确的模型,阻碍了相关研究的发展.本研究从能量域角度出发,利用键合图理论及受控结点的思想,建立了飞跨电容型三电平逆变器的键合图模型,并在20-sim平台中进行了仿真实验,验证了该模型的准确性和有效性.
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赵正平
- 《2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会》
| 2013年
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摘要:
本文介绍了常开GaN功率开关器件是耗尽型GaN HEMT,其击穿电压的提高和栅漏间距、栅极漏侧电场分布以及体穿通、栅极漏电的抑制等因素密切相关。为改善栅极漏侧电场分布,采用双场板等器件结构。栅、源场板结构和导电衬底的背面场板效应以抑制电流崩塌,改善导通电阻。同时,本文还阐述了在逆变器或DC/DC转换器等功率开关应用中,由于故障安全设计的需要,希望常关型功率开关器件。常关型GaN功率开关器件是增强型GaN HEMT,采用栅极下P型A1(GaN)势垒,挖槽栅结构,氟等离子处理等技术可形成常关型功率开关器件;近期又发展了GaN混合MOS-HFET结构的常关型功率开关器件。 随着GaN功率开关器件的发展,美国DARPA继“宽禁带半导体用于射频电子”和“氮化嫁电子的下一代技术”两个项目之后,于2012年开始了“微尺度功率变换”项目。
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王峰;
张波
- 《第15届全国电源技术年会》
| 2003年
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摘要:
基于谐振技术本文提出了功率开关器件谐振驱动新原理.文中首先介绍功率开关器件谐振驱动的新思想,提出了基本谐振驱动电路,建立了它的数学分析模型,详细分析了功率开关器件谐振驱动的工作过程,由此探讨了不同工作情况功率开关器件谐振驱动频率与负载频率的关系,分析了它的基本特性,得出谐振驱动电路的基本设计参数.最后将谐振驱动电路应用在逆变电路中,理论研究和实际应用表明谐振驱动电路具有功耗小,节能,实现电路简单,具有较软的开关特性等优点.
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黄红武;
熊万里
- 《2006全国先进制造装备与机器人技术高峰论坛》
| 2006年
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摘要:
由于逆变器死区时间、开关时延以及功率开关器件(IGBT)正向管压降的影响,电压型PWM逆变器的输出电压发生了明显的畸变,使得许多交流调速方法在低速时控制性能不佳乃至无法实现调速.本文深入分析了死区时间和逆变器本身非线性特性对输出电压的影响,推导了电压误差的基本公式,对改善交流调速系统的低速性能具有参考价值。
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李奇南;
凌跃胜;
李永建;
赵争菡
- 《全国电工理论与新技术学术年会》
| 2005年
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摘要:
分析了一种具有无源无损能量吸收支路的反激变换电路,并对其各工作模式作近似计算.提出了吸收支路参数的选择方法,通过仿真分析确定出一组合理的参数.试制一台原理样机,实验结果表明明,该吸收支路有效解决了工作在电感电流断续(DCM)下,反激式变换器功率开关器件关断时产生的电压过冲问题,得到了满意的结果.
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薛文彦;
马西奎;
吴亚中
- 《全国电工理论与新技术学术年会》
| 2005年
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摘要:
高频寄生参数是高频、大功率IGBT器件封装及其电力电子装置电磁兼容性(EMC)预测和设计的关键数据.本文介绍了一种通过电路测量法抽取IGBT封装寄生参数的新方法.从研究零电压、零电流开关条件下IGBT关断性能的非理想特性入手,用软开头测试电路测量抽取了发射极、集电极寄生电感;并通过栅极-发射极间阻抗的测量和分析,抽取了栅极寄生电感;同时研究还发现器件的寄生参数效应是形成关断性能非理想特性的主要原因;最后通过数字仿真结果和实测数据的对照,验证了本文寄生参数抽取方法的可靠性.
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薛文彦;
马西奎;
吴亚中
- 《全国电工理论与新技术学术年会》
| 2005年
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摘要:
高频寄生参数是高频、大功率IGBT器件封装及其电力电子装置电磁兼容性(EMC)预测和设计的关键数据.本文介绍了一种通过电路测量法抽取IGBT封装寄生参数的新方法.从研究零电压、零电流开关条件下IGBT关断性能的非理想特性入手,用软开头测试电路测量抽取了发射极、集电极寄生电感;并通过栅极-发射极间阻抗的测量和分析,抽取了栅极寄生电感;同时研究还发现器件的寄生参数效应是形成关断性能非理想特性的主要原因;最后通过数字仿真结果和实测数据的对照,验证了本文寄生参数抽取方法的可靠性.
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薛文彦;
马西奎;
吴亚中
- 《全国电工理论与新技术学术年会》
| 2005年
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摘要:
高频寄生参数是高频、大功率IGBT器件封装及其电力电子装置电磁兼容性(EMC)预测和设计的关键数据.本文介绍了一种通过电路测量法抽取IGBT封装寄生参数的新方法.从研究零电压、零电流开关条件下IGBT关断性能的非理想特性入手,用软开头测试电路测量抽取了发射极、集电极寄生电感;并通过栅极-发射极间阻抗的测量和分析,抽取了栅极寄生电感;同时研究还发现器件的寄生参数效应是形成关断性能非理想特性的主要原因;最后通过数字仿真结果和实测数据的对照,验证了本文寄生参数抽取方法的可靠性.