光学玻璃

摘要： 文章提出了一种合成偏磷酸铝的工艺,并将其制成偏磷酸铝玻璃;自制重金属脱除剂,对偏磷酸铝中的杂质去除有较好的效果,预计可应用于磷酸盐玻璃、氟磷酸盐玻璃及激光核聚变玻璃等光学玻璃的生产;制备的偏磷酸铝玻璃有较好的蓝光和紫外光透射率,预计可应用于数码相机、3D数码望远镜、液晶薄板玻璃等光学玻璃领域;出色的耐化学稳定性能,预计偏磷酸铝可应用于光学半导体,激光传感器等领域;较理想的耐候性与耐磨性,预计可应用于紫外反射、红外吸收等功能、高磨损环境的光学玻璃制造。

摘要： 近/中红外激光和超连续光源在红外光电对抗、生物医疗、遥测感知和激光探测及测距(LIDAR)等领域具有十分重要的应用价值。近年来,基于软玻璃光纤来产生和传输高亮度近/中红外(特别是2~5μm)激光方面的研究取得了显著进展。在中红外软玻璃基质中,具有相对较低声子能的碲酸盐玻璃对于设计近红外和中红外激光器和放大器、高功率中红外激光传输和传感应用无源光纤具有特别的吸引力。本文重点总结了低损耗碲酸盐玻璃的关键制备技术,并综述了碲酸盐玻璃及光纤在稀土掺杂中红外发光方面的研究进展,最后对碲酸盐玻璃及光纤应用存在的问题和发展趋势进行了总结和展望。

摘要： 目的为了研究等温压缩工艺参数对N-BK7玻璃失效的影响,分析玻璃元件的失效机理和玻璃变形现象,确定N-BK7玻璃在该工艺下的安全参数范围。方法首先,提出一种基于重力载荷的等温压缩工艺,通过正交试验确定工艺参数对玻璃失效的主效应,并判断关键参数。然后通过全因子试验分析关键参数对玻璃失效的影响。结果在缺少边缘约束的情况下,玻璃在等温压缩过程中存在表面不平现象,该现象被视为玻璃失效的形式之一。最高温度和退火速率是影响玻璃失效的关键参数。结论在该工艺中,玻璃在高温下的承载时间越长,失效频率越大。在载荷10 N、升温速率10°C/min、保温时间1 min、自然冷却温度点580°C和脱模温度200°C的条件下,最高温度为670~710°C、退火速率为5~10°C/min是降低玻璃失效频率的参数范围。

摘要： 石英玻璃是由二氧化硅单一组分构成的特种工业技术玻璃,具有一系列特殊的物理和化学性能,并被新材料领域专家誉为“玻璃之王”。石英玻璃的光学性能石英玻璃具有一系列优异的光学性能。与普通玻璃相比,高纯石英玻璃具有从远紫外(160nm)到远红外(5μm)极宽光谱内的良好透过性,这是一般光学玻璃所不具备的。优异的光谱透过性和光学均匀性使得石英玻璃广泛应用于很多光学器件领域。

摘要： 空间辐射与核辐射环境下,高能射线(γ射线、X射线、中子等)、带电离子(电子、质子)与重离子的辐照效应会导致普通光学玻璃发生褐变,短波长透过率急剧下降,使透射、折反式光学系统不能正常工作,将会给太空卫星等航天器的星光制导精确导航与核反应堆安全监测带来极大风险。耐辐照光学玻璃在辐照效应下仍能保持较高的短波透过率、较小的光密度增量,光学与物化性能参数基本不变,可从根本上满足空间和核辐射环境应用高性能、长寿命光学系统的主动抗辐射加固要求,解决抗辐射相机的卡脖子核心材料和产业链安全问题。

摘要： 玻璃是人类最古老的发明之一,也是促进当代人类文明发展最重要的功能材料之一。到二十世纪,玻璃已主宰了建筑天际线,而太阳能电池板在能源领域发挥着重要作用。与此同时,玻璃也成为现代信息技术的基础关键原材料,从望远镜和显微镜用光学玻璃,到智能手机和信息设备用高强度玻璃,再到兼具玻璃与陶瓷优点的微晶玻璃,以及引发全球通信技术革命的玻璃光纤,玻璃作为人类历史上最具变革性的材料,每一次技术突破都为人类文明的跨越式发展鸣响了号角。未来,在应对全球可持续发展的重重挑战中,玻璃也必将焕发勃勃生机。

摘要： 作为中国光学玻璃特别是氟磷酸盐光学玻璃熔炼成型领域的专家型人才,潘涛和他带领的团队可谓是企业的一支“特种部队”,专攻生产难度较高的“高精尖”光学玻璃。“目前我们负责生产的有高端镧系光学玻璃、环保重火石光学玻璃、氟磷酸盐光学玻璃等系列产品,它们都是制造高端精密镜头的原材料。”

摘要： 为提高K9光学玻璃在一些特殊应用领域(如高压、温度变化剧烈等)的力学性能,并保证其光学性能符合精密光学仪器要求,对K9光学玻璃进行了化学钢化技术研究.以脆性材料断裂过程微裂纹扩展理论为基础,导出化学钢化玻璃强度应力因子计算模型,分析化学钢化表面应力与表面微裂纹深度、韧性之间的关系,指出化学钢化工艺应注意的事项.通过实验研究,分析化学钢化温度和钢化时间对K9光学玻璃抗弯强度、表面应力及应力层厚度的影响,优化得出K9光学玻璃化学钢化温度为400°C、钢化时间为40 h.采用优化工艺,获得了表面应力为500 MPa、应力层厚度为50μm量级及规格为220 mm×110 mm×22 mm的化学钢化K9光学玻璃样件.钢化后,样件抗弯强度提高了3.5倍以上,且表面疵病、光学鉴别率、透过率等光学性能指标未见明显变化.

摘要： 物理光学实验是近代物理实验中的重要分支,其使用的实验仪器关键核心部件,如透镜、 棱镜、 反射镜及窗口等常采用光学玻璃进行制造.提高学生对实验仪器核心部件"光学玻璃"的原理及性能的理解,对于培养学生的创新能力、 提高学生的科研素质和科研能力具有重要的作用.根据这一目标,设计了一系列关于光学玻璃综合性能评价的开放创新实验.通过教学实践,发现本开放性创新实验对提高学生综合能力及对物理光学实验仪器设备的理解与高效率使用等方面,发挥了重要促进作用.

摘要： 设计一种表面压花的光伏玻璃以减少太阳电池细栅遮挡.该光伏玻璃设计可适应入射角变化范围为0°～23.5°的情况,为无太阳追踪功能的太阳电池实现减少细栅栅线遮挡效果提供解决方案.对一种栅线设计情况下的光伏玻璃压花设计、厚度要求进行探讨,并采用TracePro软件对减遮挡效果进行光学仿真实验.针对光学仿真实验中光强分布情况,从功率损失和串联电阻2个方面分析新型光伏玻璃对太阳电池效率的影响.分析结果显示,新型光伏玻璃可将太阳电池转换效率提升0.20％-0.35％.

摘要： 本文提出基于光学玻璃精密压型柔性生产线的技术方案,采用智能机器人、视觉识别等智能技术与企业现有的精密模压设备联动,在不停机的情况下自由切换生产模式,实现各种不同规格产品柔性共线生产;通过对设备状态和传感器数据的监控,对生产材料、易耗品、故障信息的记录和报警,达到生产数据实时监控的效果.

摘要： 随着天文学、空间探测技术、先进光学仪器的飞速发展,国防及民生需求的不断推进,高精度玻璃光学组件已经成为支撑这些领域的关键部件.玻璃光学组件精度要求越来越高,口径不断变化,需求量越来越大.传统的冷加工工艺难以满足批量需求,精密模压成形技术可以有效地实现高精度、大批量加工.本文研制的光学玻璃精密成型设备由加热系统、机械系统、控制系统、测试仪表、精密模具等组成.首先对模压成形工艺过程以及设备的主要组成部分进行介绍,然后运用有限元方法分析机架的刚度与强度和红外加热系统的温度场分布,最后进行了玻璃模压成形实验.

摘要： 硬脆光学材料磨削亚表面裂纹生成机理是光学制造领域的重要基础性科学问题之一.光学玻璃等硬脆材料磨削中会引入微裂纹等亚表面损伤,对光学系统性能造成极大影响甚至破坏,因此减少磨削造成的微裂纹等亚表面损伤对提高光学元件的表面质量和加工效率具有重要意义.本项目针对K9玻璃的材料去除及微裂纹生成机理,开展了纳米刻划实验、霍普金森压杆实验、单颗磨粒刻划实验、单颗磨粒磨削有限元仿真、磨粒动态冲击效应机理及数值仿真、单颗磨粒动态冲击实验、K9玻璃磨削亚表面裂纹深度预测等研究,研究成果对硬脆材料的精密和超精密加工具有重要意义.

摘要： 光学玻璃是光电信息领域产品中十分重要的基础材料.文章叙述了环境友好光学玻璃的产品应用、市场需求、主要生产企业等基本情况,介绍了部分新型光功能玻璃的研究与应用情况,最后对成都光明公司的主要产品及研发情况进行了简要介绍.

摘要： 采用Na2O2熔融分解样品，以电感耦合等离子质谱法测定光学玻璃中的稀土元素。采用该方法对国家一级标准物质GBW07158、GBW07159、GBW07160和GBW07161进行测定表明，其结果与标准值相符。该方法选择性好、灵敏度好、定量准确，适用于光学玻璃中稀土元素的测定，结果令人满意。

摘要： 为了实现光学微结构阵列的高精度模压成形制造,通过模压成形有限元仿真与试验,研究玻璃材料高温松弛效应对成形内应力及变形的影响规律,实现了微沟槽阵列和微金字塔阵列两种典型的微结构阵列的模压成形制造.首先,建立了二维轴对称模压成形有限元仿真模型,并提出了三种减少内应力的模压成形方案,即快速度模压到位后保持一段时间、低速成形、不施加压力靠模具自重成形,并分析了三个方案的利弊;其次,采用不施加压力的方案试加工出微沟槽阵列,分析了存在的问题;最后,采用慢速成形方案加工出微金字塔阵列,对比了成形轮廓.

摘要： 为了研究不同波长准分子激光刻蚀聚合物及玻璃的研究,将波长为193nm的ArF准分子激光及波长为248 nm的KrF准分子激光经光学系统后分别垂直照射到不同种材料的表面，改变激光脉冲数目,在大气背景下进行实验,照射后的样品表面形貌及表面粗糙度用三维轮廓仪进行测试分析.分析了准分子激光与非金属材料相互作用的机理问题,研究并对比得到了193nm和248nm激光对聚合物材料PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)以及HF4光学玻璃的刻蚀特性。 实验结果表明，在激光能量密度为1.5J/cm2时，193nm波长激光比248nm波长激光在刻蚀PMMA时能得到更好的刻蚀效果,而在刻蚀HF4光学玻璃时却恰好相反.在准分子激光与非金属材料的相互作用过程中,并不是光源的波长越短其刻蚀效果就越好,也不是光与物质相互作用中的光化学机理所占的比重越大其刻蚀效果就越好,最终刻蚀效果的好坏取决于很多因素,针对任何材料的刻蚀加工首先都需要用实验去寻找其工艺条件.

摘要： 本文阐述了一种集散型控制系统(DeltaV系统)在超薄浮法玻璃生产线锡槽、退火窑上的应用,详细介绍了该系统的架构、技术措施以及实现的功能,该系统于2012年3月在公司的超薄浮法生产线上应用，是首次在光学玻璃生产线上采用集散控制系统取代传统的单表控制系统。半年来系统运行可靠，在产品及生产调整变化期间达到了稳定的控制效果，系统良好的人机操作界面和完善的系统性能受到了操作者的好评。该系统改变了传统的工艺控制理念及方法，对生产调节的优越性逐渐显现，起到了稳定锡退成型工艺的作用，为我公司超薄玻璃的成功生产起到了关键作用，也为集散型控制系统在光学玻璃生产线的应用和推广迈出了成功的一步。

摘要： 通过建立磨粒与光学元件相邻微凸体间的研磨接触数学模型,动态仿真并分析了在压力一定的条件下,不同磨粒粒径、研磨速度等加工参数作用下,磨粒与光学镜片动态接触过程.仿真结果得出不论磨粒粒径的变化,相邻两微凸体间的应力叠加效应对亚表面损伤深度的影响随研磨速度的递增而呈现出增大的趋势.

摘要： 通过建立磨粒与光学元件相邻微凸体间的研磨接触数学模型,动态仿真并分析了在压力一定的条件下,不同磨粒粒径、研磨速度等加工参数作用下,磨粒与光学镜片动态接触过程.仿真结果得出不论磨粒粒径的变化,相邻两微凸体间的应力叠加效应对亚表面损伤深度的影响随研磨速度的递增而呈现出增大的趋势.

摘要： 本发明涉及氟磷酸盐光学玻璃及其应用和氟磷酸盐光学玻璃镜片的制备方法以及氟磷酸盐光学玻璃镜片，以所述氟磷酸盐光学玻璃的原料的总重量计，所述氟磷酸盐光学玻璃的原料中按重量百分比含有：Ba(PO3)2：15～35％；Al(PO3)3：5～20％；Ca(PO3)2：0～5％；AlF3：10～20％；MgF2：0～5％；CaF2：16～25％；SrF2：10～20％；BaF2：0～5％；LaF3：0～5％；YF3：0～5％；GdF3：0～5％；LiF：1～6％；NaF：0～5％；其中，MgF2、CaF2、SrF2和BaF2的总重量百分比为30～50％；其中，LaF3、YF3、GdF3的总重量百分比为0～5％；其中，LiF、NaF的总重量百分比为1.5～8％。

摘要： 本发明提供一种透射性优异、以高色散抑制折射率的升高的磷酸盐光学玻璃。另外，提供由这样的磷酸盐光学玻璃形成的光学元件和光学玻璃材料。一种磷酸盐光学玻璃，阿贝数νd为16.70以下、折射率nd为2.1000以下，包含P

摘要： 一种光学玻璃，其中，以阳离子的摩尔％表示，La3+、Y3+及Gd3+成分的总量为5％～65％，Zr4+、Hf4+及Ta5+成分的总量为5％～65％，并且满足下述式(1)所表示的关系。(La3++Y3++Gd3+)×(Zr4++Hf4++Ta5+)≥400(％)2…(1)。

摘要： 该光学玻璃用研磨工具是将用树脂(13)包覆研磨磨粒(12)而得到的多个研磨材料(11)一体化而形成的、具有气孔(14)的光学玻璃用研磨工具(10)，研磨磨粒容积率为50‑85％，树脂容积率为15‑50％，气孔容积率为20％以下，上述研磨材料(11)的平均粒径为10μm以下。

摘要： 本发明涉及氟磷酸盐光学玻璃及其应用和氟磷酸盐光学玻璃镜片的制备方法以及氟磷酸盐光学玻璃镜片，以所述氟磷酸盐光学玻璃的原料的总重量计，所述氟磷酸盐光学玻璃的原料中按重量百分比含有：Ba(PO

摘要： 本发明提供：一种用于使光学玻璃成型的模具，所述模具包含：模具基底；以及包含一个或两个以上形成在模具基底上的层的保护膜，所述保护膜的最外层包含一种或多种选自Al、Ga、In、Tl、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Bi、S、Se和Te的元素；一种用于制造所述模具的方法；以及一种用所述模具模压成型的方法。

摘要： 本发明提供一种透射性优异、以高色散抑制折射率的升高的磷酸盐光学玻璃。另外，提供由这样的磷酸盐光学玻璃形成的光学元件和光学玻璃材料。一种磷酸盐光学玻璃，阿贝数νd为16.70以下、折射率nd为2.1000以下，包含P

摘要： 本发明涉及光学玻璃、压制成型用玻璃料、光学元件坯料和光学元件的制造方法、以及光学玻璃的着色抑制方法。所述光学玻璃的制造方法包括制备熔融玻璃并对所制备的熔融玻璃进行成型的步骤，所述熔融玻璃含有Fe，并且，按氧化物换算的玻璃组成中额外含有0.01～3质量％的SnO2和0～0.1质量％的Sb2O3，并且，相对于除了Fe2O3、SnO2和Sb2O3之外的玻璃质量，TiO2含量为0～1质量％、WO3含量为0～4质量％。

摘要： 本发明涉及光学玻璃、由光学玻璃构成的光学元件、光学系统、更换镜头以及光学装置。一种光学玻璃，其中，以阳离子的摩尔％表示，La

摘要： 提供含有玻璃形成阳离子的光学玻璃，用阳离子百分比表示，该光学玻璃满足：10阳离子％≤B3+≤50阳离子％，15阳离子％≤La3+≤35阳离子％，20阳离子％≤Nb5+≤50阳离子％，和15阳离子％≤Ti4+≤25阳离子％。