高折射率

摘要： 作为无机玻璃的替代品,有机光学树脂具有轻质、抗冲击性好、易加工和可调性强等优点。折射率是光学树脂的主要参数之一,折射率的高低可直接影响成品镜片的厚度、美观性和舒适度。在不降低光学树脂综合性能的基础上提升光学树脂折射率一直是该领域的热点和难点,在光学树脂中引入高摩尔折射率的硫元素被认为是最有效和常用的方法之一。本文将含硫光学树脂分为烯烃类、环氧类、环硫类、多环类和聚氨酯类,简要综述了国内外近几年的研究进展,涉及单体合成、单体聚合以及单体结构对光学树脂综合性能影响,系统总结了以上材料的特性及发展。

摘要： 以γ-巯丙基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、1,3-二噻戊环-2-基甲醇及六甲基二硅氧烷等为原料,三氟甲烷磺酸为催化剂,二氯乙酸为环硫稳定剂,通过水解-缩聚法制得不同结构的含硫改性巯基MDT硅树脂(MDT-DS),通过红外光谱、核磁共振波谱及凝胶渗透色谱对其结构进行了表征,并对其气味、黏度、密度、折射率和可见光透过率进行了测试.然后将MDT-DS、乙烯基硅油和光引发剂混合均匀后经紫外光固化制得固化物,并研究了其光固化动力学、力学性能、热稳定性和透光率.结果表明,成功制得了MDT-DS,且当有机取代基与硅原子的量之比(R/Si值)为1.61、巯基含量为0.3871 mol/100 g时,MDT-DS的摩尔质量分布系数为1.15,产率为93.16％,折射率为1.5685;此外,在2,4,6-三甲基苯甲酰基膦酸乙酯质量分数为0.80％、辐照强度为70 mW/cm 2的条件下,选用R/Si值为1.61的MDT-DS且巯基与乙烯基量之比为1.5:1时,硅树脂可在40 s内快速固化,双键转化率为94.60％,固化物的拉伸强度为2.41 MPa,拉断伸长率为87.71％,最大热分解速率时的温度为416.30°C,玻璃化转变温度为85.05°C,可见光透过率高于95％.

摘要： 通过非水解溶胶-凝胶法合成了不同钛含量的乙烯基二苯醚硅氧烷低聚物(O0,O1,O3和O5),进一步与甲基苯基含氢硅油进行铂催化的硅氢加成交联反应,制得相应的聚合物(P0,P1,P3和P5)。通过傅里叶变换红外光谱和核磁共振氢谱对低聚物和聚合物进行了表征,并研究了钛元素对聚合物交联行为、热稳定性、折射率、光学透明性等的影响。与不含钛聚合物P0相比,钛-二苯醚-硅氧烷聚合物(P1,P3和P5)的折射率和热稳定性得到显著提高,后者具有高折射率(n=1.581~1.587)和优异的热稳定性(T5d>450°C@氮气,T5d>390°C@空气)。在热老化过程中,聚合物表现出优异的光学和热稳定性,具有高的光学透明度(90%@450 nm)和高的热稳定性(150°C热老化120 h后光学透明度为87%@450 nm),在LED封装胶中具有潜在的应用价值。

摘要： 为满足对各种新型液晶及液体材料的高折射率测量需求,提出一种基于全反射原理、以液体棱镜为核心的折射率测试系统.系统由LED光源、填充了被测液体的中空棱镜(液体棱镜)、高精度光路采集镜头、CCD相机、计算机图像采集系统组成,可实现对高折射率差液晶材料及各种新型高折射率品种液体材料的双折射率测量,系统搭建简单、测量精度较高.该测量方法屏蔽了影响最终折射率测量结果的误差因素,具有较高的测量精度和准确度,折射率的测量范围可达1.00～3.30.

摘要： 随着大功率LED的不断发展,合成高性能LED封装材料成为目前研究的重点.有机硅树脂逐步替代应用广泛的环氧树脂跻身于高要求的封装领域中,但其仍存在缺陷,对有机硅树脂进行改性可以使其具有更加优异的性能,满足苛刻的LED封装要求.本文重点研究在分子中引入金刚烷基团对有机硅树脂进行改性.通过1-金刚烷甲醇和3-异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷反应得到1-金刚烷甲醇丙基三甲氧基硅烷-3-氨基甲酸酯.以1-金刚烷甲醇丙基三甲氧基硅烷-3-氨基甲酸酯、三甲氧基乙烯基硅烷和二苯基硅二醇为原料,通过溶胶-凝胶缩合法合成了高折射率的金刚烷基苯基乙烯基硅树脂.通过核磁共振仪和傅里叶变换红外光谱对金刚烷基苯基乙烯基硅树脂的结构进行了表征.采用苯基含氢硅树脂在卡式催化剂的作用下进行固化,制得高折射率的金刚烷改性有机硅封装材料,并对固化后的材料进行透光性、硬度及热稳定性的测试.结果表明,该改性材料具有高折射率(1.57左右)、高硬度(50 D～59 D)、高透光率(400～800 nm范围内在80％以上)、优异的耐老化性能(150°C老化48 h透光率变化很小)和强的热稳定性,在LED封装领域具有广阔的应用前景.

摘要： 因氮化硅良好的化学和电学性能，将氮化硅作为减反射和钝化膜已经广泛的应用于晶体硅太阳电池的工业化生产。本文以目前常规的工业化高效电池工艺为基础，考察了高折射率对晶硅太阳能电池主要电性能参数的影响。实验表明当折射率提高到2.18(膜厚为77nm)时，电池的转换效率比正常工艺低了0.56％，电性能良率比正常工艺低了28.62％。主要是Rsh失效比例急剧上升到28.50％，这种失效模式为我们在制造过程中查找失效原因又提供了一个新的方向。

摘要： 高折射率光学涂层主要分为两大类：聚合物光学涂层和无机光学涂层。由于无机－有机杂化材料则可兼具以上两种材料的优点，近年来人们开始通过溶胶凝胶的方法将无机纳米微粒引入光学涂层中来制备高折射率的纳米复合杂化材料，本文正是通过溶胶-凝胶技术，将钛酸酯、硅烷偶联剂和硅酸酯进行共水解，从而把折射率和硬度相对较高的氧化钛引入到杂化涂层中。

摘要： 本文通过二元硫醇及二元硫酚与环氧氯丙烷反应,将硫元素引入到环氧树脂中,合成了一种含硫量高的脂肪族环氧树脂2,2'-二巯基二乙硫醚二缩水甘油醚环氧树脂(DGEMES)和含砜基的高折射率环氧树脂3,3'-二巯基二苯砜环氧树脂(DGEMPSF),并用乙二胺(EDA)和甲基六氢苯酐(B-650)固化剂分别对它们进行混合固化,制备了一系列具有较高折射率、低色散、性能均衡的DGEMES/DGEMPSF新型复合光学树脂.

摘要： Silicone resins are of high-performance LED encaps-ulant mainly owing to their excellent discoloration resistance against heat and UV irradiation's.But they alsohave some obvious disadvantages, such as weak in adhesion and mechanicalproperties.One more main shortage ofsilicone resins as LED encapsulant is their relativelylowrefractive index (RI),which results in a relativelylow luminescence efficiency of LED devices.So it is important to improve their RI through physical or chemical approaches.Silicon-phenyl groups are usually introduced into silicone resins to increase their refractiveindex.However,the RI of silicone resins with silicon-phenyl groups is limited to be lower than1.55.In orderto achieve a higher RI,silicon-naphthyl groups are introduced, and silicone resinwith a RI of 1.58 is synthesized in this paper.

摘要： 本文研究使用双靶磁控溅射设备在线制备高折射率的TiO膜,制备反射型液晶显示器所需要的大面积高反射率多层膜等.

摘要： 封装材料是功率型发光二极管（LED）封装的重要组成部分，是目前各国学者们研究的热点，由于它的性能将直接影响LED器件的封装、组装成品率以及器件的可靠性和寿命。本文论述了功率型LED封装材料的作用、性质及性能要求，并对LED封装材料的发展状况进行了系统的介绍，重点是对高折射有机硅封装材料的研究现状进行了论述，同时还指出了封装材料未来的发展方向。

摘要： 封装材料是功率型发光二极管（LED）封装的重要组成部分，是目前各国学者们研究的热点，由于它的性能将直接影响LED器件的封装、组装成品率以及器件的可靠性和寿命。本文论述了功率型LED封装材料的作用、性质及性能要求，并对LED封装材料的发展状况进行了系统的介绍，重点是对高折射有机硅封装材料的研究现状进行了论述，同时还指出了封装材料未来的发展方向。

摘要： 封装材料是功率型发光二极管（LED）封装的重要组成部分，是目前各国学者们研究的热点，由于它的性能将直接影响LED器件的封装、组装成品率以及器件的可靠性和寿命。本文论述了功率型LED封装材料的作用、性质及性能要求，并对LED封装材料的发展状况进行了系统的介绍，重点是对高折射有机硅封装材料的研究现状进行了论述，同时还指出了封装材料未来的发展方向。

摘要： 封装材料是功率型发光二极管（LED）封装的重要组成部分，是目前各国学者们研究的热点，由于它的性能将直接影响LED器件的封装、组装成品率以及器件的可靠性和寿命。本文论述了功率型LED封装材料的作用、性质及性能要求，并对LED封装材料的发展状况进行了系统的介绍，重点是对高折射有机硅封装材料的研究现状进行了论述，同时还指出了封装材料未来的发展方向。

摘要： 采用水热合成技术,制备了HfO2胶体,用旋涂法镀制了单层HfO2介质膜.采用XRD,椭偏仪,红外光谱(FTIR)等方法对薄膜进行了测试和表征,用输出波长为1 064 nm,脉宽为10 ns的电光调Q激光系统产生的强激光测试其激光损伤阈值.研究了热处理温度对薄膜厚度、折射率、红外光谱、晶态以及激光损伤阈值的影响,并对薄膜的激光损伤形貌进行了分析.研究结果表明:HfO2薄膜的折射率可达到1.655;采用150 °C左右的温度对薄膜进行热处理可以提高薄膜的激光损伤阈值,此时薄膜的激光损伤阈值高达42.32 J/cm2(1 064 nm,10 ns),大大高于物理法制备的HfO2薄膜的激光损伤阈值(8.6 J/cm2,1 064 nm,12 ns).

摘要： 本发明的氟化镁颗粒是含有至少一个氟化镁微粒的氟化镁颗粒，所述至少一个氟化镁微粒的每个都具有对被承载体进行承载的细孔。而且，所述至少一个氟化镁微粒是多个微粒，所述多个微粒中彼此相邻的微粒之间存在粒界空隙状细孔，粒界空隙状细孔是对所述被承载体进行承载的间隙。

摘要： 本发明的氟化镁颗粒是含有至少一个氟化镁微粒的氟化镁颗粒，所述至少一个氟化镁微粒的每个都具有对被承载体进行承载的细孔。而且，所述至少一个氟化镁微粒是多个微粒，所述多个微粒中彼此相邻的微粒之间存在粒界空隙状细孔，粒界空隙状细孔是对所述被承载体进行承载的间隙。

摘要： 本发明涉及一种高折射率的碱水可溶性树脂，其特征为它由单官能度高折射率单体与丙烯酸或甲基丙烯酸或/和丙烯酸酯单体共聚合得到；高折射率的碱水可溶性树脂的重均分子量为2‑15万，酸值50‑100 mgKOH/g，折射率大于等于1.50。本发明还涉及该高折射率的碱水可溶性树脂的制备方法以及含有高折射率的碱水可溶性树脂的高折射率光刻胶。本发明具有的优点为高折射率的碱水可溶性树脂与高折射率光刻胶具有较高的折射率和透光率。

摘要： 本发明提供一种具有高折射率的阻燃材料的制造方法，包含以下步骤：使二羧酸、烷撑二醇、多苯环二醇及第一多苯环酯类阻燃剂聚合以形成聚合物，其中二羧酸为50至65重量份，烷撑二醇为20至30重量份，多苯环二醇为9至15重量份，第一多苯环酯类阻燃剂为1至4重量份；以及混合聚合物及第二多苯环酯类阻燃剂，第二多苯环酯类阻燃剂为4至10重量份。本发明的阻燃材料为环保的无卤阻燃剂，并具有高折射率、阻燃性佳及耐热性好的优点。

摘要： 本发明公开了一种高折射率氢化硅薄膜的制备方法、高折射率氢化硅薄膜、滤光叠层和滤光片，涉及光学薄膜技术领域。该包括以下步骤：(a)通过磁控Si靶溅射，在基体上沉积Si，形成硅薄膜；(b)硅薄膜在含有活性氢和活性氧的环境中形成含氧的氢化硅薄膜，活性氧的数量占活性氢和活性氧总数量的4～99％，或，硅薄膜在含有活性氢和活性氮的环境中形成含氮的氢化硅薄膜，活性氮的数量占活性氢和活性氮总数量的5～20％。本发明将溅射与反应分开进行，先通过磁控Si靶溅射，在基体上沉积Si，再通过活性氢和活性氧/氮的等离子体与硅发生反应获得含氧或含氮SiH，不仅避免靶材中毒问题，而且SiH薄膜具有较高的折射率和较低的吸收。

摘要： 本发明涉及一种聚苯乙烯的制备方法，还涉及用该聚苯乙烯作为填充物制备高折射率的硅胶的方法。本发明合成了一种高折射率的聚苯乙烯，并以此作为填充物，用普通的低折射率的乙烯基硅油作为载体，制备出折射率大于1.54的高折射率硅胶，可用于LED的灌封，是一种价格低廉的高折射率硅胶的制备方法。

摘要： 本发明涉及光学元件领域，公开了一种高折射率玻璃组合物和高折射率玻璃及其制备方法和应用。所述高折射率玻璃组合物以质量分数表示的组成包含：3％‑50％SiO2，0％‑18％Na2O，1％‑15％K2O，0.5％‑7％Al2O3，0.5％‑7％MgO，0％‑4％CaO，0.5％‑3％SrO，3.5％‑25％BaO，0％‑7％ZnO，0％‑7％B2O3，0.5％‑17％Nb2O5，0％‑2％Gd2O3，1％‑10％ZrO2，0.5％‑13％Li2O，5％‑43％TiO2，0.01％‑9％La2O3，0％‑3％Bi2O3。采用本发明公开的高折射率玻璃组合物制备的高折射率玻璃具有较高的折射率、较高的透过率、较高的强度、适宜的膨胀系数、较低的密度；且不含锑、砷等对环境有害的氧化物。

摘要： 本发明涉及一种高折射率的碱水可溶性树脂，其特征为它由单官能度高折射率单体与丙烯酸或甲基丙烯酸或/和丙烯酸酯单体共聚合得到；高折射率的碱水可溶性树脂的重均分子量为2‑15万，酸值50‑100 mgKOH/g，折射率大于等于1.50。本发明还涉及该高折射率的碱水可溶性树脂的制备方法以及含有高折射率的碱水可溶性树脂的高折射率光刻胶。本发明具有的优点为高折射率的碱水可溶性树脂与高折射率光刻胶具有较高的折射率和透光率。

摘要： 本发明公开了一种高折射率氢化硅薄膜的制备方法、高折射率氢化硅薄膜、滤光叠层和滤光片，涉及光学薄膜技术领域。该包括以下步骤：(a)通过磁控Si靶溅射，在基体上沉积Si，形成硅薄膜；(b)硅薄膜在含有活性氢和活性氧的环境中形成含氧的氢化硅薄膜，活性氧的数量占活性氢和活性氧总数量的4～99％，或，硅薄膜在含有活性氢和活性氮的环境中形成含氮的氢化硅薄膜，活性氮的数量占活性氢和活性氮总数量的5～20％。本发明将溅射与反应分开进行，先通过磁控Si靶溅射，在基体上沉积Si，再通过活性氢和活性氧/氮的等离子体与硅发生反应获得含氧或含氮SiH，不仅避免靶材中毒问题，而且SiH薄膜具有较高的折射率和较低的吸收。

摘要： 本发明提供一种具有高折射率的阻燃材料的制造方法，包含以下步骤：使二羧酸、烷撑二醇、多苯环二醇及第一多苯环酯类阻燃剂聚合以形成聚合物，其中二羧酸为50至65重量份，烷撑二醇为20至30重量份，多苯环二醇为9至15重量份，第一多苯环酯类阻燃剂为1至4重量份；以及混合聚合物及第二多苯环酯类阻燃剂，第二多苯环酯类阻燃剂为4至10重量份。本发明的阻燃材料为环保的无卤阻燃剂，并具有高折射率、阻燃性佳及耐热性好的优点。