钛膜

摘要： 比较牙种植再生中口腔修复膜材料与钛膜引导骨的修复成功率及安全性。根据“随机数字表法”分组,参照组55例患者采纳钛膜材料;观察组55例患者采纳海奥口腔修复膜材料,2组修复效果均在修复1周后评价其修复成功率、植骨密度、骨厚度、并发症发生率、患者满意度。结果表明:观察组修复成功率为98.18%、植骨密度2.56 mm和骨厚度2.69 mm均高于参照组,且差异显著(P0.05);观察组并发症发生率1.82%低于参照组,且差异显著(P0.05)。说明口腔修复膜材料可提高牙齿缺失患者牙种植再生成功率,促进植骨、骨生长发育,减少并发症。

摘要： 目的本文主要对两种不同修复膜材料于牙种植的效果进行分析。方法纳入本次研究的主体为80例在2019年7月-2020年7月本院收治的牙种植患者,按照接受的修复方案将研究的患者分成2组,对照组于研究期间40例选用钛膜进行口腔修复,实验组于研究期间40例选用海奥口腔修复膜进行口腔修复,对2组修复效果展开分析。结果实验组经修复后在修复成功率、骨厚度、并发症发生率与对照组有差异,组别关于结果的比对有意义(P0.05)。实验组关于植骨厚度与对照组有差异,组别关于结果的比对有意义(P<0.05)。结论在牙种植患者修复中选择不同的口腔修复膜进行修复,可取得不同的修复效果,有效提高骨再生速度,有助于缺损区域的修复。其中海奥口腔修复膜可有效地提升患者的修复成功率、安全性比钛膜更高,可推广。

摘要： 目的 探究在牙种植中施行口腔修复膜材料引导骨再生的效果。方法 借助随机数字表法将2018年10月-2020年12月本院74例牙种植患者分为对照组(37例,施行钛膜治疗)、观察组(37例,施行海奥口腔修复膜治疗)。随访半年,对比两组修复效果、成骨厚度、植骨高度、满意度评分及并发症发生率。结果 (1)观察组修复成功率(94.59%)较对照组(78.38%)更高,P<0.05;(2)观察组植骨高度、成骨厚度均较对照组更高,P<0.05;(3)在满意度评分方面,观察组较对照组更高,P<0.05;(4)在并发症发生率方面,观察组(8.11%)较对照组(27.03%)更低,P<0.05。结论 在牙种植中施行海奥口腔修复膜引导骨再生的效果较钛膜更佳,修复成功率更高,更有助于增加植骨高度、成骨厚度,且满意度更高,并发症更少。

摘要： 采用磁控溅射镀膜技术对碳/碳化硅复合材料(C/SiC)表面进行镀Ti金属化,以AgCu28为钎料,无氧铜为中间层与碳钢进行钎焊连接. 研究无氧铜中间层、Ti膜厚度和钎焊温度对接头组织形貌和力学性能的影响. 结果表明,采用无氧铜中间层可有效降低接头的残余应力,提高接头强度,并阻挡C/SiC复合材料中的Si元素在钎焊过程中扩散至碳钢侧,防止了碳钢界面FeSix恶性反应层的形成. 在试验范围内,钛膜厚度和钎焊温度与接头抗剪强度之间均存在峰值关系. 860 °C,3 μm Ti膜接头平均抗剪强度最高,达到25.5 MΡa. 由剪切试样碳钢侧断口,可观察到大量平行断口方向的碳纤维和碳纤维脱粘坑. 断裂发生在C/SiC复合材料内部距界面约300 μm处. C/SiC界面反应产物以Ti5Si3为主,含少量TiC. 钎缝中有TiCuSi相生成.

摘要： 目的 研究海奥口腔修复膜与钛膜对牙种植引导骨再生患者骨厚度及修复成功率的影响.方法 将2017年10月～2018年10月在我院种植牙齿失败的120例牙齿缺失患者随机分组分为对照组和观察组.两组患者同时进行牙种植手术,对照组患者采用钛膜进行引导骨再生,对照组采用海奥口腔修复膜进行引导骨再生.对比两组患者的手术修复成功率和两组患者的骨厚度、植骨厚度.结果 观察组修复手术成功率为93.33％,观察组牙齿缺失患者骨厚度和植骨厚度均高于对照组,差异显著(P<0.05).结论 采用海奥口腔修复膜进行引导骨再生手术,修复成功率高,值得在临床上推广应用.

摘要： 目的 比较牙种植术中采用Bio-Gide生物膜与钛膜对其疗效及骨再生的影响.方法 将70例(132颗牙)行牙种植再生术患者按盲抽法分为试验组和对照组,对照组35例(68颗牙)采用钛膜行引导骨再生,试验组35例(64颗牙)采用Bio-Gide生物膜行引导骨再生.术后随访1个月,比较2组植骨密度、骨厚度、修复成功率及不良反应发生率.结果 试验组术后骨厚度、植骨密度、修复成功率均较对照组显著升高,不良反应发生率较对照组显著降低,差异均具有统计学意义(P<0.05).结论 相较于钛膜,Bio-Gide生物膜在牙种植引导骨再生术中应用效果显著,可提升种植成功率,促进骨再生和植骨,且不良反应少,安全性较高.

摘要： 应用直流磁控溅射技术在单晶Al2O3基片上沉积纯钛薄膜,在350°C和500°C条件下应用不同的溅射功率分别沉积了厚度为50 nm和100nm的纯钛薄膜.结果表明:在Al2O3(0001)基片上制备出具有面心立方结构的FCC相纯钛薄膜,当降低溅射功率或者降低基片温度时,薄膜由面心立方结构转变为六方的α相.继续增加膜层厚度至微米量级时,钛膜也会逐渐由面心立方结构转变为六方的α相.实验证明Ti多晶薄膜的相结构变化与薄膜的内应力、晶格取向和薄膜微结构有关.

摘要： 利用X射线衍分析射仪、慢正电子湮没技术和扫描电镜对Mo衬底上钛膜吸氘或注入氘前后的微观结构进行表征.结果表明:吸附氘改变了钛膜物相结构,注入氘未改变钛膜的物相结构;原始钛膜和吸附氘后的钛膜中缺陷分布均匀,吸附氘增加了钛膜缺陷浓度,载能氘粒子的注入对钛膜造成较大损伤:吸附氘对钛膜表面形貌无影响,由于选择性烧蚀,注入氘后钛膜表面不均匀性降低.

摘要： 我们研究了扫描隧道显微镜(STM)在不同氧化电压下对钛膜氧化结果的影响,并对实验结果作了分析,通过测试证实了不完全氧化钛膜中存在隧道结结构.

摘要： 本研究工作采用XRD、SEM对电阻镀膜工艺和电子枪镀膜工艺制备的Ti膜的晶体结构、显微组织结构、织构和表面形貌进行了对比分析。重点针对电阻镀膜工艺，探索研究了底衬取向、底衬粗糙度和底衬温度等参数对其制备薄膜的结构、形貌和织构的影响。

摘要： 我们用扫描隧道显微镜(STM)在7nm厚的钛膜上加工出了线宽为10nm量级的氧化钛线,并重点讨论了氧化电压与扫描速率对氧化线宽的影响.

摘要： 在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和Nb2O5膜表面孔洞产生的原因;利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.色彩产生的原因是Ti膜对光的吸收和反射以及与Nb2O5薄膜产生光的干涉有关.XRD分析表明,Ti/Nb2O5薄膜均为非晶结构.镀膜玻璃耐沸水、盐液腐蚀,具有良好的理化性能。

摘要： 在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和Nb2O5膜表面孔洞产生的原因;利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.色彩产生的原因是Ti膜对光的吸收和反射以及与Nb2O5薄膜产生光的干涉有关.XRD分析表明,Ti/Nb2O5薄膜均为非晶结构.镀膜玻璃耐沸水、盐液腐蚀,具有良好的理化性能。

摘要： 在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和Nb2O5膜表面孔洞产生的原因;利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.色彩产生的原因是Ti膜对光的吸收和反射以及与Nb2O5薄膜产生光的干涉有关.XRD分析表明,Ti/Nb2O5薄膜均为非晶结构.镀膜玻璃耐沸水、盐液腐蚀,具有良好的理化性能。

摘要： 在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和Nb2O5膜表面孔洞产生的原因;利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.色彩产生的原因是Ti膜对光的吸收和反射以及与Nb2O5薄膜产生光的干涉有关.XRD分析表明,Ti/Nb2O5薄膜均为非晶结构.镀膜玻璃耐沸水、盐液腐蚀,具有良好的理化性能。

摘要： 在普通玻璃衬底上采用磁控溅射技术沉积了Ti/Nb2O5双层薄膜,得到了不同色彩的镀膜玻璃.用光学显微镜测试了薄膜表面形貌,分析了不同工作气压和溅射功率下Ti膜和Nb2O5膜表面孔洞产生的原因;利用UV-Vis分光光度计测量了薄膜的光学性能,发现单层Ti膜随着膜层厚度的增加,透射率降低、反射率先增加后降低,薄膜吸收率提高.色彩产生的原因是Ti膜对光的吸收和反射以及与Nb2O5薄膜产生光的干涉有关.XRD分析表明,Ti/Nb2O5薄膜均为非晶结构.镀膜玻璃耐沸水、盐液腐蚀,具有良好的理化性能。

摘要： 本发明提供一种含钛/锆的膜形成用涂布剂，其含有使(A)钛化合物及(B)锆化合物与双氧水反应得到的含钛/锆水性溶液，其中，所述(A)钛化合物是选自水解性钛化合物、水解性钛化合物的低缩合物、氢氧化钛及氢氧化钛的低缩合物中的至少一种，所述(B)锆化合物是选自水解性锆化合物、水解性锆化合物的低缩合物、氢氧化锆及氢氧化锆的低缩合物中的至少一种。另外，本发明还提供一种钛/锆膜形成方法及形成了由该涂布剂构成的被膜的涂覆金属基材。

摘要： 本发明提供一种含钛/锆的膜形成用涂布剂，其含有使(A)钛化合物及(B)锆化合物与双氧水反应得到的含钛/锆水性溶液，其中，所述(A)钛化合物是选自水解性钛化合物、水解性钛化合物的低缩合物、氢氧化钛及氢氧化钛的低缩合物中的至少一种，所述(B)锆化合物是选自水解性锆化合物、水解性锆化合物的低缩合物、氢氧化锆及氢氧化锆的低缩合物中的至少一种。另外，本发明还提供一种钛/锆膜形成方法及形成了由该涂布剂构成的被膜的涂覆金属基材。

摘要： 本发明涉及钙钛矿前体组合物、制备钙钛矿膜的方法、钙钛矿膜和钙钛矿太阳能电池。本发明涉及一种离子液体(IL)，其包含含有下面组分的钙钛矿前体组合物：钙钛矿前体；和阳离子咪唑衍生物的盐，其中所述咪唑环中两个氮原子中的至少一个连接到带有氰基(‑C≡N)的碳链上。本发明进一步涉及一种具有高稳定性的钙钛矿太阳能电池，其包含使用本发明的钙钛矿前体组合物形成的钙钛矿膜所构成的层。

摘要： 本发明在于提供一种压电器件，所述器件具有优异的信号传送和接收能力，并适于用作压电传动装置、传感器、超声波传感器或发电器件。一种在衬底(10)上形成的钙钛矿型氧化物膜(1)，所述钙钛矿型氧化物膜(1)具有5μm以上的平均膜厚，并且其特征在于包含由通式(P)表示的钙钛矿型氧化物：(K1-w-x,Aw,Bx)(Nb1-y-z,Cy,Dz)O3，其中：0

摘要： 本发明提供一种用于形成二氧化钛膜的涂层组合物，其包括(A)一种特殊的含钛水溶液和(B)至少一种选自有机酸及其盐的化合物。本发明还提供一种使用涂层组合物形成二氧化钛膜的工艺，和使用所述工艺涂布的金属基材。

摘要： 本发明提供钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置，通过使钛的硅化物结构一致，能够改善表面形态等。在钛膜的成膜方法中，在能够抽真空的处理容器(14)内供给包含钛的原料气体、还原气体和非活性气体，并且在上述处理容器内产生等离子体，在从表面露出有硅部分(6)和绝缘膜(2)的被处理体(W)的表面上形成钛膜(8)，其中，将上述还原气体的供给量相对于上述还原气体和非活性气体的合计流量的比率设定为67％以下。由此，使钛的硅化物结构一致，改善表面形态等。

摘要： 本发明涉及一种氧化钛的制造方法，其特征在于：将可以来源于钛盐水溶液与双氧水的反应物的过钛酸离子在碱存在下产生作用；利用该反应，可在成膜对象物上形成氧化钛膜。例如，通过在表面含有碱的成膜对象物(例如水泥)上进行喷雾、涂布或者浸渍，而附着过钛酸离子水溶液(例如Ti(SO4) 2aq+H2O2)，从而形成氧化钛膜。作为碱，可由在表面上进行喷雾、涂布或者浸渍的碱水溶液而得到。进而，该表面更优选为多孔质物质。因为可以使氧化钛膜高度分散化而形成膜，所以可以降低所使用氧化钛的量。另外，可以通过简易的步骤形成膜，从而谋求降低氧化钛膜的成膜方法的制造成本。

摘要： 本发明提供一种用于形成二氧化钛膜的涂层组合物，其包括(A)一种特殊的含钛水溶液和(B)至少一种选自有机酸及其盐的化合物。本发明还提供一种使用涂层组合物形成二氧化钛膜的工艺，和使用所述工艺涂布的金属基材。

摘要： 本发明提供一种氮化钛膜的成膜方法和氮化钛膜的成膜装置，用于形成电阻率低的氮化钛膜。在该方法中，交替地重复实施对收容在处理容器内的基板供给原料气体的操作和对所述基板供给反应气体的操作来形成所述氮化钛膜，其中，所述原料气体含有含氯和钛的钛化合物，所述反应气体含有含氮且与所述钛化合物进行反应来形成氮化钛的氮化合物。在将所述处理容器内的压力的条件设定成使所述氮化钛膜的电阻率成为57μΩ·cm以下的处于2.7kPa～12.6kPa的范围内的条件下，实施形成所述氮化钛膜的工序。

摘要： 本发明提供钛膜的成膜方法和钛膜的成膜装置，通过使钛的硅化物结构一致，能够改善表面形态等。在钛膜的成膜方法中，在能够抽真空的处理容器(14)内供给包含钛的原料气体、还原气体和非活性气体，并且在上述处理容器内产生等离子体，在从表面露出有硅部分(6)和绝缘膜(2)的被处理体(W)的表面上形成钛膜(8)，其中，将上述还原气体的供给量相对于上述还原气体和非活性气体的合计流量的比率设定为67％以下。由此，使钛的硅化物结构一致，改善表面形态等。