选择比

摘要： 为了提高阻挡层化学机械抛光(CMP)的去除速率选择比,提出一种添加剂二乙烯三胺五乙酸五钾(DTPA-5 K),研究它在含双氧水(H2 O2)的抛光液中对材料去除速率的影响,并通过X射线光电子能谱(XPS)和离子间的相互作用分析了相关去除机理.结果表明:DTPA-5K既可作为铜(Cu)的络合剂,同时也可作为介质(TEOS)促进剂,显著地提高两种材料的去除速率.此外,抑制剂1,2,4-三氮唑(TAZ)的引入抑制了铜的去除速率而对介质无影响,进而提高了速率选择比.使用优化后的抛光液抛光后,介质和铜去除速率分别达到了107.4 nm/min和54.9 nm/min,选择比为1.96,基本符合工业要求.最后,对平坦化性能进行测试,结果显示,抛光45 s后,碟形坑深度由112.9 nm修正为55.8 nm,腐蚀坑深度由55.6 nm修正为19.7 nm,且表面粗糙度由3.35 nm降低到1.08 nm,表现出良好的抛光性能和表面质量.

摘要： 为了提高多芯片组件(Multi-Chip Module,MCM-C/D)技术中低温共烧陶瓷(Low Temperature Co-fired Ceramic,LTCC)基板的表面质量,需要采用化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)工艺使基板表面平坦化.文中探讨了基于田口试验方法的基板CMP工艺参数优化设计方法.在一定的抛光条件下,抛光液pH值、抛光载荷和抛光盘转速是影响基板表面质量的主要工艺参数.文中设计了3因素3水平试验进行研究.研究结果表明,基板表面CMP平坦化的影响因素依次是抛光载荷、抛光液pH值和抛光盘转速.采用优化参数获得了光洁、平整的表面,基板粗糙度Ra≤0.05μm,浆料凸起高度H≤3μm,经薄膜工艺验证,满足厚薄膜混合基板的研制应用需求.

摘要： 中年人转行,比年轻人需要更多的勇气。一旦选择转行,意味着放弃多年累积的专业背景,一切从头再来。张爱玲说,人到中年的男人,时常会觉得孤独,因为他一睁开眼睛,周围都是要依靠他的人,却没有他可以依靠的人。其实今天来看,这种孤独感不分男女。朋友的辞职拉锯战几乎持续了一年,主要是父母不同意。在父母眼中,事业单位虽然工资不高,但比上不足比下有余,最重要的是稳定。

摘要： 直到现在，“60后”的邓永强仍然坚持每天至少看三万字的文书。他说，大量的阅读是他吸收新鲜事物的重要方式。20年来，无论是作为创业者还是投资人，毕业于清华大学计算机系的邓永强一直坚守在创业第一线，他和英诺创新基金、英诺创新空间一起，帮助更多中国（也包括港澳台）青年投身“双创”的大潮中。

摘要： 教学活动是一种将教师的教和学生的学联系在一起的活动。幼儿园的有效教学就是要根据幼儿的年龄阶段性特点,合理地安排课堂教学内容,激发他们对学习的兴趣点,实现教学目标的设定,发挥幼儿的主体性地位,促进幼儿全面性发展。

摘要： 采用等离子ICP刻蚀机,对向单晶硅进行真空刻蚀。结果表明:随着时间的增大,刻蚀深度(纵向距离)在增大,刻蚀速率为200 nm/min;侧蚀距离(横向距离)随着时间的推移而增大,在60 min时候,单壁侧蚀距离为1. 5μm,侧蚀速率在50 nm/min; Si的刻蚀速率随着SF6的气体流量的增加而增大,当流量达到80 sccm,刻蚀速率为268 nm/min;光刻胶刻蚀速率却随着气体流量的增加而降低,在70 sccm时候,光刻胶刻蚀速率为32 nm/min;光刻胶的刻蚀速率与Si的刻蚀速率在一定场合下呈现反比例关系。

摘要： 在我还是一个孩子的时候，每天下午，我和祖父母都会看肥皂剧，尤其是《我们的岁月》。我的祖父母参加了一个房车俱乐部，

摘要： 无论职场还是人生之路,都是马拉松,有个好学历仅仅是出发时更容易一些,不一定意味着笑到最后。最近因为一档演讲节目的辩题,＂学历是否重要＂再一次成为网络上的热点话题。有些出人意料的是,认为学历不重要的网友竟然也占了很大一部分。这让人联想到美国战略理论家布热津斯基的＂奶头乐＂理论。布热津斯基认为,世界全球化会使20%的人搭乘快车一路驰骋,80%的人会被＂边缘化＂。而这80%的人口与20%的人口之间的冲突则将成为今后的主要问题。

摘要： 针对氮化硅刻蚀工艺中硅衬底刻蚀损伤的问题.为了提高氮化硅对二氧化硅的刻蚀选择比,采用CF4,CH3F和O2这3种混合气体刻蚀氮化硅,通过调整气体流量比、腔内压强及功率,研究其对氮化硅刻蚀速率、二氧化硅刻蚀速率及氮化硅对二氧化硅选择比等主要刻蚀参数的影响.实验表明,在CH,F流量为25,O2流量为40 sccm,腔内压强为67Pa,功率为150 W的条件下,得到氮化硅对二氧化硅选择比为15∶1,非均匀性3.87％的氮化硅刻蚀工艺.

摘要： 方向很重要,创业者必须要去想,要客观分析、审慎思考、独立判断,要了解社会趋势、市场情况、竞争态势,分析用户需求、切入点、增长潜力、成本结构、盈利情况,综合评估这个领域是否适合自己发挥优势去搏一把。要避免感性的冲动,不要等到失败回头复盘时再发出感慨＂选择比努力更重要＂。

摘要： 该文主要研究TMAH对硅和铝的刻蚀情况。首先，做了不同条件下（浓度从2℅wt到25℅wt）TMAH对硅的腐蚀实验，发现对硅的腐蚀速率随温度升高而增大?随浓度增大而减小；纵向腐蚀与横向腐蚀深度之比可达12：1至20：1；浓度在15℅wt以上时表面平滑。然后，又用多种方法实验了有铝膜覆盖的情况，并做了比较，试图找到对硅和铝的腐蚀选择比较好的条件，验证结果表明用KPR光刻胶作保护的效果较好。

摘要： 本发明公开了一种频率选择表面单元、频率选择表面及频率选择方法，包括：第一电磁偶极子天线和第二电磁偶极子天线；第一电磁偶极子天线设置于第二电磁偶极子天线的上方，且通过背靠背的方式连接，以形成间距小且具有双极化的紧耦合天线；第一电磁偶极子天线包括：第一电偶极子天线和第一金属柱；第一电偶极子天线和第一金属柱固定连接；第二电磁偶极子天线包括：第二电偶极子天线、第二金属柱以及地板结构，第二电偶极子天线和第二金属柱固定连接；本发明通过设置自带电偶极子特性的宽带天线，在不增加天线厚度和额外电路结构的情况下实现天线的电偶极子特性，从而使得频率选择表面具有低厚度、高选择性以及宽带的特性。

摘要： 本申请实施例提供一种应用于多路选择器的选择装置及多路选择器。所述多路选择器用于接入m个使能信号EN[m‑1:0]，以及n路数据D0‑Dn‑1,其中，m个使能信号用于指示n路数据的选通状态，m和n为大于1的正整数；所述选择装置包括与n路数据一一对应的n个选择单元，其中，第j个选择单元的输入端接入第j路数据Dj‑1，第j个选择单元的控制端用于接入控制信号SEL[j‑1],控制信号用于控制选择单元处于选通状态，其中，j＝[1，n]，且j为整数，控制信号SEL[j‑1]根据选通优先级高于以及等于Dj‑1的数据对应的使能信号生成；n个所述选择单元的输出端与所述选择装置的输出级连接。

摘要： 为了提供一种支持选择在目标分子的分析中使用的标记物的技术，本技术提供了一种标记物选择支持系统，其具有：信息获取单元，经由网络，获取与作为待分析对象的多个目标分子有关的信息；信息处理单元，使用与多个目标分子有关的信息，从存储目标分子的体内表达信息的数据库，获得多个目标分子的体内表达信息，并且基于表达信息，生成与向多个目标分子中的每个目标分子分配标记物有关的支持信息；以及发送单元，经由网络发送生成的支持信息。

摘要： 本发明提供一种能够高效地转换热与电磁波的最适当形状的热‑电磁波转换结构、热‑电磁波转换构件、波长选择性散热设备、波长选择性加热设备、波长选择性散热方法、波长选择性加热方法以及热‑电磁波转换结构的制造方法。具体而言，是一种互相转换热与规定波长(λ)的电磁波的结构，是具有波导路的热‑电磁波转换结构以及将此排列多个的热‑电磁波转换构件(10)、利用这些的波长选择性散热设备、波长选择性加热设备、波长选择性散热方法、波长选择性加热方法以及热‑电磁波转换结构的制造方法，波导路由透过电磁波的芯部(2)与由金属构成且围住芯部(2)的包层部(3)所构成。

摘要： 在使用户选择动态图像中的对象的对象选择装置中，在选择目标的对象移动时，用户无抵触地随着感觉选择所希望的对象。受理用户的输入操作，根据从受理时刻的规定时间前的时点起向过去追溯的一定期间的轨道信息，来推断各对象的预测轨道。在预测轨道上的与受理时刻相对应的预测位置接近操作位置时，将该对象判断为是由用户选择的对象。

摘要： 本发明提供一种选择焊喷嘴的制作方法、选择焊喷嘴以及选择焊组件，其中选择焊喷嘴的制作方法，步骤如下：步骤S1，对工业纯铁进行加工获得所述喷嘴的基体；步骤S2，对所述基体进行渗氮处理，以在所述基体表面形成一渗氮层；步骤S3，对经过步骤S2处理的基体镀银，以在所述渗氮层表面形成一镀银层；步骤S4，在所述镀银层表面形成一纳米银层；步骤S5，对经过步骤S4处理的基体进行热氧化，以得到所述喷嘴。根据本发明的方法制作的选择焊喷嘴，具有复合结构；耐腐蚀延长了喷嘴的使用寿命；导热性好降低了焊接过程中的能耗。

摘要： 本发明公开了一种频率选择表面单元、频率选择表面及频率选择方法，包括：第一电磁偶极子天线和第二电磁偶极子天线；第一电磁偶极子天线设置于第二电磁偶极子天线的上方，且通过背靠背的方式连接，以形成间距小且具有双极化的紧耦合天线；第一电磁偶极子天线包括：第一滤波天线和第一金属柱；第一滤波天线和第一金属柱固定连接；第二电磁偶极子天线包括：第二滤波天线、第二金属柱以及地板结构，第二滤波天线和第二金属柱固定连接；本发明通过将第一电磁偶极子天线和第二电磁偶极子天线设置为自带滤波特性的宽带天线，在不增加天线厚度和额外电路结构的情况下实现天线的滤波特性，从而使得频率选择表面具有低厚度、高选择性以及宽带的特性。

摘要： 本发明提供了本发明公开了供应商选择方法及供应商选择系统和供应商选择设备，包括如下步骤：确定供应商的主客观指标；邀请行业专家对供应商的主客观指标之间的影响关系评分，建立初始的主客观指标直接关系矩阵；标准化初始的主客观指标直接关系矩阵；在标准化后的主客观指标直接关系矩阵的基础上计算主客观指标综合影响矩阵；确定主客观指标的中心度和原因度，得到主客观指标权重；确定主客观指标的决策值，并求得主客观指标的损失系数；求得供应商主客观损失值；计算供应商总损失值，并对供应商进行排序，确定最优供应商。本发明实现企业对供应商快速、准确的选择管理的技术效果。

摘要： 本发明的目的在于提供一种选择特征量并且根据所选择的特征量的值将样品分类为多个类中的任一个的多类分类方法、多类分类程序、多类分类装置、以及用于这样的多类分类的特征量选择方法、特征量选择装置及特征量集。在本发明中，处理伴随特征量选择的多类分类问题。特征量选择是预先按照字面意思对样品所具备的大量的特征量中的用于后续的各处理(在本发明中尤其是多类分类)所需的特征量进行取舍选择的方法。多类分类是确定给定的未知样品属于多个类中的哪一个的判别问题。

摘要： 一种内容选择装置，具有：图像取得部，取得拍摄到的图像；人检测部，对所述图像中包含的人进行检测；属性判定部，判定由所述人检测部检测到的人的属性；内容选择部，基于所述属性来选择内容；以及重放控制部，准备由所述内容选择部选择出的多个内容的重放，直至正重放的第一内容结束，在所述第一内容结束时，重放作为所述多个内容中的任一个内容的第二内容。