DLC

摘要： 采用高功率脉冲磁控溅射方法在不同基体偏压下的钢基体上沉积含Cr过渡层的DLC薄膜。利用原子力显微镜、场发射扫描电镜、Raman光谱、动态超显微硬度计和划痕仪对薄膜的表面形貌、截面形貌、结构成分、力学性能进行表征。结果表明:随着基体偏压的增大,薄膜表面更加平整,表面粗糙度减小;不同基体偏压下制备的DLC薄膜与基体结合良好,厚度均匀,结构致密;Raman结果显示,I_(D)/I_(G)值随基体偏压的增大不断下降,薄膜中sp^(3)含量逐渐增加;当基体偏压增大时,薄膜硬度和弹性模量均呈上升趋势,膜基结合强度增加。

摘要： 3月中句,《毁灭战上承恒》的DLC《古老神祇第部》终于正式发售,又-位悲魔猎人的故事也终于暂告一段落,本次DLC补完计划就来为大家介绍一下本次DIC的新增内容、成就奖杯说明,以及主要流程攻略。DLC简介购入指南和上一部DLC相同,玩家即使没有本体游戏或第一部DLC,也可在商店中单独购买并游玩。故事内容自然是讲述第一部DLC之后的故事,DOOM Slayer将对抗恶魔们的造物主——黑魔王,为这个宰杀恶魔的史诗落下帷幕(阶段性)。

摘要： 针对人因照明中的节律照明,介绍了美国DLC标准未来可能要求的表征参数,包括黑视素通量,M/P比率和黑视素等效日光效率三个主要参数.介绍了光影响生理节律的基本原理,主要包括光如何通过一系列生理转导影响褪黑素的合成、分泌和代谢,进而影响人的睡眠与觉醒,同时介绍了生物钟如何内源性地影响褪黑素的分泌.接着介绍了国际照明委员会与节律照明有关的标准CIE S 026:2018,依据与该标准配套的Excel计算工具可以计算出DLC所要求的参数.详细介绍了各表征参数的计算方法,以及最新的节律照明LED产品,为广大照明厂商计算灯具的节律照明参数提供指引.

摘要： 在正式版上线了差不多9个月后,《军团》的第一个大型DLC才姗姗来迟。值得庆幸的是,DLC的素质的确对得起玩家们的等待。DLC的流程设计和剧情推进回到了《看门狗》前两作的节奏,而对于喜欢前两作剧情和角色的玩家来说,本作的剧情除了让两位人气角色回归以外,对他们的故事也进行了一定程度的补完。

摘要： 流程要点1.跟着破屋外的足迹一路跟踪到蒙古包处,调查蒙古包外的祭坛触发战斗。这场战斗中会出现DLC的新敌人“祭司”,他会给附近的其他敌人附上增益效果,平常攻击也会变得不能防御和格挡。作为DLC的首场强制战斗,敌人的强度很低,战斗开始后立即用弓箭将高处的祭司干掉能进一步降低战斗的难度。

摘要： 《最终幻想Ⅶ重制版》第二章迟迟没有消息,不过尤菲DLC却刷了不小的存在感。再一次验证了剧情线上的大改,结尾的隐藏彩蛋更是震惊众人,对《第二章》的期待也成倍增加。本期攻略主要针对DLC新增关卡以及HARD难度,同时还有视频攻略辅助,大家可以扫码观看视频。

摘要： 虽然多多少少预想到了,但没想到在发售表上写PC版《战神》的日子会来得这么快。那么问题来了,PC版《血源诅咒》什么时候有?1注标识“DLC”的为大型DLC资料片,小型扩展包不计入本表。2同一个游戏多版本发售时间不同的,一般情况下以最早发售的版本为准。

摘要： 2.0更新补丁既是《集合啦!动物森友会》玩家翘首面盼的大型更新补丁,也是本作最后一个更新补丁了。而与2.0版本同推出的还有付费DLC《快乐家乐园》,这两者为本作丰富了什么内容,且看本次的DLC补完计划来详细介绍一下吧!本作于11月5日(其实偷跑了一天)更新了大型免费补丁2.0版本,同时也是本作最后一个大型更新补丁。

摘要： 为研究UHPC加固锈蚀后钢筋混凝土柱的力学性能、承载能力提升幅度以及破坏形态,本文设计了8根试件,通过电化学方式对所有试件进行锈蚀处理,再采用UHPC对部分试件加固,最后采用控制变量法分别对锈蚀率为10％、20％、30％的试验柱进行轴压破坏试验,采用DlC技术观测试件全场应变变化,对比分析了应变云图、极限承载力、峰值应变等参数.试验结果表明:未加固试件破坏形态随着锈蚀率的增加破坏更接近于脆性破坏,加固后试验柱破坏形态主要表现为UHPC加固层劈裂破坏;加固后试件极限承载能力提高幅度约为119％～128％,加固后试件破坏时只有一条主裂缝,整体性和抗裂性得到提高;加固后DlC应变云图更均匀,应变集中出现较早,更利于裂缝发展预测.

摘要： 经历了延期后,《剌客信条英灵殿》终于迎来了第一个大型DLC《德鲁伊之怒》。在这个DLC中,玩家将前往爱尔兰,展开一场新的冒险。除了新的剧情,游戏也加入了新的武器装备、神秘传说以及传奇动物等内容。本期“DLC补完计划”将会为各位玩家带来全流程和重点收集内容攻略,当然,成就/奖杯的攻略自然也是不会少的。

摘要： 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

摘要： 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

摘要： 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

摘要： 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

摘要： 应用电弧离子镀和非平衡磁控溅射镀膜技术相结合的方法,并使用霍尔离子源辅助,制备了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜.对DLC薄膜的表面形貌、内部结构、力学性能以及电学性能进行了分析测试,结果表明:膜层中含有sp2键和sp3键结构,硬度达到Hv(25g)2000以上,摩擦系数较小,电阻高于2兆欧.

摘要： 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

摘要： 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

摘要： 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

摘要： 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

摘要： 将中频孪生靶非平衡磁控溅射、电弧离子镀和霍尔离子源辅助沉积三种工艺结合起来制备了Cr+Ti+TiNC/TiNC+C/DLC硬质膜.硬质膜呈深黑色,表面比较光滑,顶层为掺N的DLC,中间层为含C的TiNC,底层为含Ti和Cr的TiNC,力学性能良好.

摘要： 一种中间层形成方法，其为通过PVD法来形成中间层的中间层形成方法，所述中间层形成在基材与DLC膜之间，其具有在基材上形成Ti层的Ti层成膜工序、和在Ti层上形成TiC层的TiC层成膜工序，Ti层成膜工序中，向装载基材的腔室内供给Ar气体，以成膜压力为0.4Pa以上且1Pa以下的范围内的压力形成Ti层，TiC层成膜工序中，向前述腔室内供给Ar气体和CH4气体，以成膜压力为0.2Pa以上且不足0.4Pa的范围内的压力，对基材施加偏置电压比Ti层成膜工序中施加于基材的第一偏置电压高、且偏置电压高于‑100V的第二偏置电压，从而形成TiC层。

摘要： 本发明的课题是将DLC及CD强固地固着在纸、皮革、树脂制的薄膜及片材、编织品及纺织品等各种材质制、结构等的基材上。本发明是在纸、皮革、树脂制的薄膜及片材、编织品及纺织品等各种材质制、结构等的基材上固着DLC，在该DLC固着基材上固着了CD的DLC及CD固着基材。本发明的制品为用所述DLC及CD固着基材制造的制品。

摘要： 本发明的利用自源自偏压空心阴极放电法沉积DLC薄膜的装置及基于该装置沉积DLC薄膜的方法，涉及沉积DLC薄膜的装置和方法，目的是为了克服由于现有技术所采用方法的局限性，导致无法灵活地对工件的局部进行镀膜的问题，装置包括笼网、真空室、高压脉冲电源、偏压脉冲电源和解耦装置；笼网笼罩在待镀膜工件表面需镀膜区域，笼网与待镀膜工件之间具有间隙且绝缘，笼网与待镀膜工件总体构成空心阴极放电结构；方法具体步骤如下：步骤一、沉积硅过渡层；步骤二、沉积薄膜。本发明的有益效果是：装置简单，笼网大小可以根据所需镀膜范围任意调节，能够满足不同尺寸表面的局部镀膜要求，灵活性好。

摘要： 本发明涉及一种零件，该零件具有呈WC-C组成梯度、没有含金属的底漆且没有离子植入层的层和在划痕测试中具有粘合行为特征的DLC表面层。

摘要： 本发明提供一种在低温环境下仍具有良好密着性的DLC膜及能形成该DLC膜的DLC膜形成方法。此外，提供一种初期相容性良好的DLC膜及能形成该DLC膜的DLC膜形成方法。在本发明中，与外离合器板(15)的基材(30)中的内离合器板相对的第1相对面(31)由DLC膜(26)覆盖。此外，基材(30)的表层部形成有处理层(33)。处理层(33)通过将直流脉冲电压施加在基材(30)上、在含有氩气及氢气的环境中生成等离子体来形成。

摘要： 本发明公开了一种管道内壁防腐蚀耐磨Si/ Si/Si-DLC/DLC自润滑涂层及其制备方法。本发明采用离子源辅助辉光放电法在管道内壁表面依次沉积由Si、Si和Si-DLC交替构成的多层涂层、DLC构成的复合涂层。本发明中多层结构和纳米晶-非晶技术的使用使Si/ Si/Si-DLC/DLC涂层不但具有良好的耐磨性能，同时可以制备较厚的DLC涂层，具有优越的润滑性能，可以较好克服现有管道内壁制备技术污染大、温度高等缺点，大幅度提高各类管道耐腐蚀、耐磨和润滑性能，所制备Si/ Si/Si-DLC/DLC纳米多层复合涂层管道具有良好的结合力和耐磨自润滑性能，保证了管道长期稳定工作，使管道适应性能大幅度提高。

摘要： 一种中间层形成方法，其为通过PVD法来形成中间层的中间层形成方法，所述中间层形成在基材与DLC膜之间，其具有在基材上形成Ti层的Ti层成膜工序、和在Ti层上形成TiC层的TiC层成膜工序，Ti层成膜工序中，向装载基材的腔室内供给Ar气体，以成膜压力为0.4Pa以上且1Pa以下的范围内的压力形成Ti层，TiC层成膜工序中，向前述腔室内供给Ar气体和CH4气体，以成膜压力为0.2Pa以上且不足0.4Pa的范围内的压力，对基材施加偏置电压比Ti层成膜工序中施加于基材的第一偏置电压高、且偏置电压高于-100V的第二偏置电压，从而形成TiC层。

摘要： 本发明的课题是将DLC及CD强固地固着在纸、皮革、树脂制的薄膜及片材、编织品及纺织品等各种材质制、结构等的基材上。本发明是在纸、皮革、树脂制的薄膜及片材、编织品及纺织品等各种材质制、结构等的基材上固着DLC，在该DLC固着基材上固着了CD的DLC及CD固着基材。本发明的制品为用所述DLC及CD固着基材制造的制品。

摘要： 本发明的利用自源自偏压空心阴极放电法沉积DLC薄膜的装置及基于该装置沉积DLC薄膜的方法，涉及沉积DLC薄膜的装置和方法，目的是为了克服由于现有技术所采用方法的局限性，导致无法灵活地对工件的局部进行镀膜的问题，装置包括笼网、真空室、高压脉冲电源、偏压脉冲电源和解耦装置；笼网笼罩在待镀膜工件表面需镀膜区域，笼网与待镀膜工件之间具有间隙且绝缘，笼网与待镀膜工件总体构成空心阴极放电结构；方法具体步骤如下：步骤一、沉积硅过渡层；步骤二、沉积薄膜。本发明的有益效果是：装置简单，笼网大小可以根据所需镀膜范围任意调节，能够满足不同尺寸表面的局部镀膜要求，灵活性好。

摘要： 本发明涉及一种精确控制DLC膜层厚度的DLC膜层制备方法，包括以下步骤：（1）对耐磨零部件进行多道清洗；（2）将清洗后的耐磨零部件放在N