表面沉积

摘要： 采用月桂酸和钛酸四丁酯对三聚磷酸二氢铝进行包覆改性.采用正交试验得到的最优反应条件为:钛酸四丁酯与三聚磷酸铝质量比0.15,钛酸四丁酯溶液质量分数10％,反应温度25 °C,搅拌速率200 r/min,反应时间4 h.相比三聚磷酸二氢铝,得到月桂酸-Ti4+包覆三聚磷酸二氢铝对二甲苯、松节油和椰子油的接触角增大,说明其铺展程度及润湿效果得到了提升.用其制成的醇酸、环氧和聚酯涂料均有很好的贮存稳定性,用其制得的环氧底漆的耐盐雾性比用未改性的三聚磷酸二氢铝时更好.

摘要： 镁颗粒因其能量密度高、点火特性和燃烧效率好的优势,作为燃料或添加剂应用于爆震燃烧动力系统具有广阔的应用前景.本文建立了镁颗粒-空气混合物的一维非稳态爆震波模型,数值模拟爆震波传播过程及其内部流场分布.研究结果表明,爆震波传播过程中爆震波压力峰值和空间分布均存在小幅度波动.考虑燃烧产物氧化镁在颗粒表面的沉积过程,镁颗粒的反应速率和爆震波的稳定传播速度增大.在考虑爆震管壁面损失的前提下,随管径减小,爆震波稳定速度和厚度均减小,同时爆震波内未能反应的镁颗粒比例增大.考虑壁面损失条件下,爆震波稳定传播速度以及厚度均随颗粒初始粒径的增大而减小,且镁颗粒初始为双粒径分布时对应的爆震波速度和厚度明显低于镁颗粒初始为统一单粒径的工况;稳定传播速度随颗粒初始当量比的增大而先增后减,厚度随初始当量比的增加单调递减.MgO熔化发生在CJ平面附近时,MgO熔化过程对爆震波传播稳定性无明显影响,而爆震波厚度显著增大.选取适当的点火区参数,能够使爆震波达到稳定传播状态所经历的距离明显缩短.

摘要： 以CaCO3为改性剂,采用表面沉积法制备了CaCO3改性BaSO4复合材料.通过傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)对其进行了结构表征,并研究了改性温度、改性浓度对复合材料粒径分布、活化度和沉降时间的影响.结果表明,25°C下,复合材料的粒径分布较窄且均匀,集中在1000～2000 nm.当温度为25°C、浓度为2 mol·L-1时,具有最佳的改性效果,与未改性BaSO4相比,活化度和沉降时间高达88.2％和7.5 h,分别提高了54.99％和5 h,这一结果对商洛地区BaSO4改性复合材料的生产具有指导意义.

摘要： 为了深入地了解孔喉尺度下弹性微球在孔隙表面的沉积机理,在现有微尺度微球的实验和理论基础上,通过查阅有关微球微观尺度的受力分析有关文献,总结了微球在岩石孔隙沉积中的受力情况,从受力的角度上分析了微球在岩石孔隙表面的沉积机理.通过范德华力以及静电力公式定性地分析了矿化度和速度的变化对微球在岩石孔隙表面沉积现象的影响.结果表明:矿化度减少和流速的增加均会导致微球的释放,并且会引起微球的二次运移.

摘要： 文中介绍了结垢研究的发展现状,介绍了垢在管道内生成的热力学条件、生成过程和溶液内沉降及表面沉积的动力学模型,研究了管道内垢的表面沉积和溶液内本体沉降的关系,对无机垢研究进展进行了总结,并对今后的发展方向进行了预测.有助于油气行业的降本增效和管道安全运行.

摘要： 据cnBeta消息,匹兹堡大学副教授PaulLeu领导的一组研究人员研制了一种疏水性优异的光学塑料,该材料的表面沉积了一层紧密间隔的高而薄的纳米结构,顶部则有圆形斑点,这一构造与金针菇十分的相似。据了解,PaulLeu教授研发这种材料时,也是受到了金针菇结构的启发,并采用了苯二甲酸乙二醇酯(PET)的形式。这种塑料被称作为enokiPET,颜色是透明的,无论是水、牛奶、番茄酱,咖啡还是橄榄油等其他液体,都可以从其表面滑落。

摘要： 据cnBeta 消息,匹兹堡大学副教授Paul Leu 领导的一组研究人员研制了一种疏水性优异的光学塑料,该材料的表面沉积了一层紧密间隔的高而薄的纳米结构,顶部则有圆形斑点,这一构造与金针菇十分的相似。

摘要： 近期,中科院宁波材料所先进涂层与增材制造技术团队经过多年研究,成功开发出一种超黑涂层。经第三方权威机构检测,200nm^25μm波段吸光率高达99%0该涂层可在多种基材表面沉积,同时可实现大面积批量制备,而且可适应高温、低温、真空、液体等极端服役环境,具有极广阔的应用前景。

摘要： 阳极氧化铝模板(AAO,Anodic Aluminum Oxide template)广泛应用于各种纳米线的沉积,由于它的孔径大范围可调,因此在沉积Fe纳米线时,不合适的孔径大小可能会导致在沉积过程中产生如气泡堵塞,表面沉积等不利于电沉积的现象.本文通过草酸体系二次氧化制备不同孔径的AAO模板,来研究孔径以及搅拌过程对沉积Fe纳米线的影响,利用电化学工作站来研究沉积时的电流-时间关系,用SEM来观察AAO模板的微观结构以及Fe纳米线的制备情况,从而得出在使用小孔径AAO模板(80nm以下)沉积Fe纳米线时,容易产生气泡堵塞和表面沉积等问题,搅拌可以有效防止气泡堵塞现象但不能改善表面沉积这一现象.

摘要： 本文用磁控溅射方法在先天性心病封堵器材料—镍钛合金(NiTi)形状记忆合金表面沉积TiN/Ti纳米多层膜薄膜以提高其表面性能.用SEM、AES、表面硬度分析薄膜表面性能,用电化学腐蚀方法分析其表面耐腐蚀性能,并用电感耦合等离子体原子发射光谱法检测镍离子溶出量.结果表明,具有特殊纳米交替结构厚度为9μm 的TiN/Ti多层膜,可以使表面修饰后的镍钛合金机械力学性能和耐腐蚀性提高;同时镍离子的渗出量减少,以利于降低镍钛合金中Ni的过敏和潜在致癌性危害.

摘要： 齿轮滚刀是常用的加工外啮合直齿和斜齿圆柱齿轮的刀具。采用多弧离子镀技术在M42滚刀和抛光Φ23圆片表面沉积A1CrN涂层.采用室温干式摩擦研究了涂层与40Cr结构钢间的摩擦行为.涂层后滚刀用桃木砂进行抛光处理.不同后处理的滚刀进行了实际现场的齿轮加工.研究结果表明:A170Cr30N涂层适合作为滚刀的表面涂层.抛光后处理可以迸一步明显地提高滚刀的表面光洁度和优化刃口形貌,与未抛光的滚刀相比,抛光处理可以提高滚刀寿命1倍.

摘要： 本文以3wt％Si取向硅钢为基底和模版，采用多弧离子镀技术在其表面沉积制备出Si含量高达6.44wt％的 FeSi合金膜，两者相结合形成高硅梯度硅钢。XRD和SEM分析表明：FeSi合金膜由具有BCC结构的FeSi固溶体及 Fe3Si相组成;经过500°C1.5小时真空退火处理，两者结合更为紧密，合金膜成分更加均匀;电阻率和磁性能测量结果表明：该FeSi合金膜的电阻率高达64.31μΩ.cm，饱和磁化强度和矫顽力分别达到1100emu/cm3和75.70e。

摘要： 电镀是指利用电解方法在零件表面沉积均匀、致密、结合良好的金属或合金层的过程。(《电镀污染物排放标准》(GB21900-2008))目前我省电镀行业环境管理对象包括：专业电镀企业、配套电镀企业。

摘要： 为了研究表面渗硼的Incone1625在高耐蚀化工设备中的应用,用扫描电镜观察表征了Incone1625渗硼后的断面组织;用X衍射分析了渗硼层的物相结构;测量了Incone1625渗硼前后的显微硬度。进行了在0.33molFeCl3+0.05mol/L HCl溶液中的耐蚀性实验:在950°C下的高温氧化和表面沉积HCl-H2O-NaCl-KCl-NaOH-Na2SO4-K2SO4多相混合物在500°C下的耐蚀性实验;用失重法和极化曲线法评定了Incone1625渗硼后的耐蚀性。实验结果表明:Incone1625渗硼层厚为30μm,渗硼层结构致密,硬度达到328 HV5左右:在0.33molFeCl3+0.05mol/L HCl溶液中,渗硼后耐蚀性略微有所降低;在500°C下表面沉积多相混合物中,渗硼后抗腐蚀能力有所提高;渗硼后的腐蚀电位比未渗硼的约低0.124V,在20°C下3.5%NaCl溶液中,Incone1625渗硼后的耐蚀性降低。

摘要： 本文以C2H2为碳源，Ar气为辅助气体，采用新型离子束源和磁控溅射源的混合技术在缝纫机针杆上成功制备了具有不同过渡层的类金刚石薄膜，并表征了薄膜的表面形貌，测量了其硬度、结合力、摩擦系数，划痕法的结果表明，增加过渡层后薄膜的结合状况得到明显改善，DLC膜的硬度也得到了提高，摩擦磨损实验结果可以看出样品的摩擦系数均在0.1以下，可以极大地改善不锈钢针杆的摩擦性能。

摘要： 通过直流磁控溅射技术在TA15钛合金表面沉积厚约1μm的Ti薄膜，Ti薄膜以晶化α-Ti相为主，Ti原子团簇沿磨制方向排列生长，表面粗糙度在120nm左右.采用此Ti薄膜作为中间层在700°C/10MPa下保温1h实现了TA15钛合金的低温扩散连接，获得了完整致密的焊接接头.通过线切割和砂轮切割制取的试样呈现不同的接头组织形貌，显示出以Ti薄膜作为中间层的TA15钛合金扩散焊接头对温度的敏感性。

摘要： 本文主要研究了在蓝光LED芯片表面沉积一层氧化硅介质膜对蓝光LEO光电参数的影响.试验结果表明,沉积有氧化硅介质膜的芯片,其漏电比例明显低;同时沉积氧化硅介质膜对芯片亮度也有一定程度的提高,而不影响芯片的其他光电性能。

摘要： 本文采用基体自形核法，研究了光滑铜基体表面超声研磨预处理对于基体表面CVD单晶金刚石微粉沉积的影响。采用热丝化学气相沉积法制备高品级磨料级单晶金刚石微粉具有广阔的应用前景和深远的意义，优选成本低廉、易腐蚀去除的基体材料进行CVD单晶金刚石微粉的制备是该研究中重要的技术环节之一。在铜基体上可以沉积得到晶型良好、晶面清晰的单晶金刚石微粉。采用超声研磨预处理，延长预处理时间，可以提高金刚石的形核密度。

摘要： 本文采用基体自形核法，研究了光滑铜基体表面超声研磨预处理对于基体表面CVD单晶金刚石微粉沉积的影响。采用热丝化学气相沉积法制备高品级磨料级单晶金刚石微粉具有广阔的应用前景和深远的意义，优选成本低廉、易腐蚀去除的基体材料进行CVD单晶金刚石微粉的制备是该研究中重要的技术环节之一。在铜基体上可以沉积得到晶型良好、晶面清晰的单晶金刚石微粉。采用超声研磨预处理，延长预处理时间，可以提高金刚石的形核密度。

摘要： 本发明公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

摘要： 本发明揭示了一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法，一次性全表面气相沉积支架包括共轴的第一支架和第二支架，所述第一支架上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面；第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的所述第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的所述第二支撑平面。本发明设计精巧，采用两套支架结构，并使一支架中的每个支撑平面可高于或低于另一支架中的对应支撑平面，可以自动切换与工件接触的支架，进而改变工件被遮蔽的位置，实现一次性沉积，自动化程度高，操作简单，不需要停止沉积过程，减少了时间成本，大大提高了沉积效率。

摘要： 本发明公开了一种用于气相沉积的氟基表面处理剂，其包含(A)使用含氟氧化烯基团聚合物改性的含可水解基团的硅烷，和/或部分水解缩合物，和(B)重均分子量大于组分(A)的含氟氧化烯基团的聚合物，其中组分(A)和(B)以6∶4到9∶1的重量比混合。

摘要： 本发明揭示了一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法，一次性全表面气相沉积支架包括共轴的第一支架和第二支架，所述第一支架上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面；第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的所述第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的所述第二支撑平面。本发明设计精巧，采用两套支架结构，并使一支架中的每个支撑平面可高于或低于另一支架中的对应支撑平面，可以自动切换与工件接触的支架，进而改变工件被遮蔽的位置，实现一次性沉积，自动化程度高，操作简单，不需要停止沉积过程，减少了时间成本，大大提高了沉积效率。

摘要： 本文提供了一种将施主材料(2)沉积到目标表面(51)上的方法，其中，用能够伸缩的层(4)覆盖基板(10)的第一主面(11)，该能够伸缩的层(4)是利用围绕该第一主面上的围合区域(13)的密封件(43)而附接到第一主面上的，由此限定了围合体(6)。该能够伸缩的层(4)具有背离该基板并且图案化有一个或多个凹陷区域(42a，……，42e)的外表面(41)，其中，该一个或多个凹陷区域填充有待沉积的施主材料(2)。在该围合体(6)的内部(61)中提供相对高的压力，使得它的体积(V61)增大，并且将该能够伸缩的层(4)的图案化表面(41)压向该目标表面(51)。在该能够伸缩的层(4)的那个状态下，在与该基板的第一主面(11)相对的第二主面(12)处，利用光子辐射照射该基板，该光子辐射具有使施主材料(2)从该一个或多个凹陷区域(42a，……，42e)转移到该目标表面(51)的强度和持续时间。还提供了板(1)和沉积装置(100)。

摘要： 本发明涉及一种采用反置换沉积液在铜表面沉积活化薄膜的方法，该方法包括以下步骤：⑴将铜基底经碱性化学除油处理和酸性侵蚀处理后，用水充分清洗，得到清洗后的铜基底；⑵配制反置换沉积液：在1L纯水中加入5~100g镍盐或钴盐、500~2000g络合剂，搅拌均匀即得；⑶将所述清洗后的铜基底直接浸入所述反置换沉积液中进行活化薄膜沉积，沉积完成后，充分清洗后压缩空气吹干，即得活化薄膜。本发明具有反置换沉积液组成简单、操作流程少和成本低等优势，所制备得到的镍或钴活化薄膜具有出色的活化效果，能够在其表面获得致密的具有优异耐蚀性的化学镍磷镀层。

摘要： 本发明涉及用于从表面除去表面沉积物的等离子体清洗方法，例如除去用于制造电子设备的加工腔内部的沉积物。本发明还提供了具有优异的除去表面沉积物性能的气体混合物和活化的气体混合物。该方法包括活化含碳源或硫源、NF3以及任选氧源的气体混合物，以形成活化的气体，将活化的气体混合物与表面沉积物接触而除去表面沉积物，其中，活化的气体混合物起到钝化装置内表面而降低气相物种的表面复合速率的作用。

摘要： 本申请公开了一种用于薄膜材料表面沉积的沉积装置及沉积方法,涉及二次电池用隔膜制造领域。本申请通过在内筒体内划分若干不同的通气区域，并在不同通气区域内通入特定气体，使薄膜在绕内筒体一周的范围内，分区域成绩从内筒体筒壁上的通气孔透出的反应气体，即可实现多次的ALD循环。

摘要： 本发明涉及一种采用反置换沉积液在铜表面沉积活化薄膜的方法，该方法包括以下步骤：⑴将铜基底经碱性化学除油处理和酸性侵蚀处理后，用水充分清洗，得到清洗后的铜基底；⑵配制反置换沉积液：在1L纯水中加入5~100g镍盐或钴盐、500~2000g络合剂，搅拌均匀即得；⑶将所述清洗后的铜基底直接浸入所述反置换沉积液中进行活化薄膜沉积，沉积完成后，充分清洗后压缩空气吹干，即得活化薄膜。本发明具有反置换沉积液组成简单、操作流程少和成本低等优势，所制备得到的镍或钴活化薄膜具有出色的活化效果，能够在其表面获得致密的具有优异耐蚀性的化学镍磷镀层。

摘要： 本发明是一种去除陶瓷基材表面沉积的复合沉积物的清洗方法，包括以下步骤：a来货检查；b第一次混酸浸泡；c第一次纯水浸泡；d第二次混酸浸泡；e第二次纯水浸泡；f热纯水浸泡；g纯水冲洗；h压缩空气吹扫；i表面喷砂；j铝熔射；k高压水洗；l超声波清洗；m氮气吹扫；n干燥。本发明使用复配的混合溶剂达到同时去除数种金属膜层，使用喷砂和铝熔射配合的表面处理方式，增加陶瓷部件表面的粗糙度及比表面积，增加陶瓷部件的上机使用时间，降低客户端的使用成本。使用本发明清洗，清洗时间短，溶剂使用量小。