红外发射率

摘要： 为了降低红外探测技术对军事目标生存能力的威胁,研制了红外低辐射膜。设计并制备了基于一维光子晶体结构的红外低辐射膜,通过结构参数优化,改善了其红外波段反射性能,并降低了薄膜总厚度。采用红外椭偏仪测试了原材料Ge膜和ZnS膜的厚度和折射率,将测试结果带入设计结构,制备了8~12μm发射率分别为0.045、0.097、0.174和0.346的红外低辐射膜。研究结果表明,通过结构优化,可制备出不同发射率的红外低辐射膜,满足武器装备不同辐射背景下的红外隐身要求。

摘要： 在辐射制冷、光热转换、红外隐身等领域,红外发射率是表征材料光学性能的重要参量。本文利用光学矩阵法并结合等效媒质理论对不同相体积分数和不同厚度的SiO_(2)/TiO_(2)复合涂层体系的红外发射率、可见及近红外波段的反射率等进行了模拟计算。利用上述方法可以对光学复合涂层红外发射率、反射率等光学性能参数进行预测,进而有效提高复合涂层相体积分数、膜厚等工艺参数的优化效率,减少实验工作量。该方法对于实现复合涂层的光谱选择性调控具有重要意义。

摘要： 为了更全面地了解纺织面料的红外发射与光热吸收特性,基于传热学的基本原理演绎提出了一种面料红外发射率和光热吸收率同步测量的新方法,设计外光热辐射源照射和背向绝热试验装置,并对3类织物(棉机织物、棉针织物、色丁织物)进行测量。测量数据显示面料的红外发射率为0.739~0.901,光热吸收率保持为41.96%~58.96%,不同颜色面料的红外发射率差别不大,而光热吸收率存在较大的差异,深色面料的光热吸收率要高于浅色面料。结果表明,该测量方法可在一般恒温环境下实现,无需特殊设备,操作方便,可广泛应用于纺织面料及其他相关材料的测量。

摘要： 以La2O3粉、Al2O3粉、Cr2O3粉、Fe2O3粉为原料,按照LaAl1-x-yCrxFeyO3(x=y=0,0.1,0.2,0.25)的化学计量比配料,依次经球磨、烘干、在1200°C预烧、再球磨、成型、1600°C保温2 h烧结后,制备了Cr3+-Fe3+共掺杂铝酸镧材料,然后利用XRD、XPS、IR等手段进行分析表征.结果表明:掺杂后产物均为钙钛矿结构化合物.Cr3+-Fe3+共掺杂试样在近红外波段的辐射性较未掺杂的LaAlO3大幅提高,试样LaAl0.5 Cr0.25 Fe0.25 O3在0.76～2.5μm波段的红外发射率从0.236提高到0.83.红外发射率提高的机制在于:Cr3+-Fe3+共掺杂后形成了跃迁激活能仅为0.1 eV的Fe3+?Fe4+小极化子,并且带隙中引入了对应于Cr5+和Cr6+的杂质能级,增强了杂质吸收和自由载流子吸收,从而提高了材料在近红外的发射率.

摘要： 变电站中主变压器公用控制柜等箱体及建筑物内部存在长期温度过高的共性问题.这种持续高温的情况会对设备寿命及安全造成极大隐患.在应用被动式零能耗辐射制冷超材料技术(包括辐射制冷涂料、辐射制冷膜等被动制冷降温产品)的基础上,对变电站中主变公用控制柜等暴露在烈日下的密闭设备及设施在应用被动式零能耗辐射制冷超材料技术前后的降温、节能、可靠性、安全性和寿命等有益效果进行了系统研究.

摘要： 电致红外发射率动态调控器件是一类在电场激励下红外发射率能发生可逆动态变化的器件,该类器件在自适应红外伪装、航天器智能热控等领域具有重要应用价值,已成为红外辐射调控领域的研究前沿和热点.本文概述了基于金属氧化物、导电聚合物、石墨烯、金属等材料的电致红外发射率动态调控器件的工作原理、研究进展,并分析了电致红外发射率动态调控器件的发展趋势.

摘要： 为了改善光伏板表面吸能性能,采用石墨烯改性光伏板表面喷涂PU/Cu涂层,通过扫描电镜(SEM)观察以及光泽度、发射率、力学性能测试等考察了石墨烯加入量对涂层结构和光泽度的影响。结果表明:Cu粉都在涂层内形成了均匀分布的形态,大部分平行于涂层表面,形成均匀定向排列的状态有助于涂层更高效地反射红外光,达到低发射率的特性。当涂层内存在更高比例石墨烯时,形成了粗糙度更大的表面,使涂层更有效地吸收与散射可见光,达到更低的光泽度。利用加入石墨烯的方法来获得表面组织更粗糙的涂层,能够在保持较低发射率的条件下使涂层光泽度获得有效控制,在涂层内加入黑色石墨烯之后能够更加高效地吸收可见光。采用石墨烯改性PU/Cu涂层能够实现更高效吸收与散射可见光的效果,保持涂层原有发射率的条件下获得更低的光泽度。当涂层内的石墨烯含量提高后,黏附强度、表面硬度与抗冲击能力都未发生明显变化,说明石墨烯改性PU/Cu涂层可保持稳定的力学强度。

摘要： 采用层层自组装(LBL)的方式将带负电荷的层状氧化钛(LTO)纳米片以及DNA分子和带正电荷的层状双氢氧化物(LDH)纳米片交替组装,制备了一种人工设计的杂化薄膜,并研究了样品在8～14μm波段的红外发射率.X射线衍射(XRD)结果表明,(LDH/DNA/LDH/LTO)n杂化膜在垂直于基底的方向呈长程堆积的有序结构,DNA分子链和LTO纳米片均以单层的形式平铺在LDHs层板间.从扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)图像可以看出,薄膜呈现出均匀的、连续的表面形态.通过能量色散X射线光谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)分析,确认了薄膜的组分,且每一种组分都均匀地平铺在每一个组装单层中,在垂直于基底的方向有序堆积形成均匀的薄膜.由于多组分之间存在协同作用,而且规整有序的层状薄膜结构的构筑增强了不同组分之间的界面效应、提供了平整光滑的薄膜表面,使该复合薄膜的红外发射率降低至0.419.这些结果清楚地表明,层层自组装方式制备的杂化复合膜能有效降低其红外发射率.

摘要： 主要从目前几种主流的功能纺织品红外发射率试验方法(国家/行业标准)入手,阐述其理论及试验方法上的区别,通过比对试验来验证其试验结果的一致性.在试验中总结辐射测量中的经验,为今后形成通用的红外发射率项目试验方法提供相应的依据.

摘要： 本文基于能量守恒原理，利用非接触式红外测温技术，建立了毫米级非均匀粗糙表面红外发射率的等温测量装置，给出了基于辐射测温的发射率计算公式。在验证试验装置和测量方法可靠性的基础上，对PCB板这种毫米级粗糙表面的发射率分布进行了测量，分析了测量结果的相对误差。结果表明，该测量方法应用方便、测量结果可靠；PCB一类毫米级粗糙面的红外发射率分布很不均匀。

摘要： 在水热条件下，以硝酸锌、氢氧化钠、六次甲基四胺等为原料合成球形、棒状、束状和花状等不同微观形貌的ZnO粒子.采用透射电镜(TEM)，扫描电镜(SEM)和X射线衍射(XRD)等对其形貌和物相进行分析。利用IR-1红外发射率测量仪测量了不同形貌Zn0粒子在8-14μm波段的红外发射率。探讨了ZnO的形貌对其红外发射率性能的影响。结果表明，各产物均为六方纤锌矿结构的ZnO。微米ZnO的红外发射率值比纳米的小。棒状、束状ZnO的发射牢值比球形的要低。花状结构的ZnO的发射率值最低，可达O.673。

摘要： 以Cd(Ac)2、Zn(Ac)2、Na2S等为原料，通过共沉淀法制备CdZnS半导体颜料，用XRD、EDS、SEM等手段对颜料结构、成分、形貌进行表征，主要研究了烧结温度和掺杂含量对CdZnS半导体颜料涂层红外发射率的影响。结果表明，烧结温度和掺杂含量对半导体颜料涂层光学性能有决定性作用，通过调配工艺条件可以获得较低的颜料涂层红外发射率。

摘要： 以La2O3和Al2O3为原料采用火焰喷淬合成技术制备Ca2+-Cr3+金属离子掺杂的LaAlO3微球陶瓷粉体.采用XRD、SEM对样品物相结构和微观形貌进行表征,利用近红外分光光度计、IR-2型双波段发射率测试仪测定其红外发射率.同时,研究了Ca2+、Cr3+离子掺杂浓度以及高温热处理对LaAlO3微球粉体红外发射率的影响.结果表明:通过使用火焰喷涂技术能够成功制备出纯相LaAlO3和金属离子掺杂的LaAlO3粉体.Ca2+-Cr3+共掺能够显著地提高LaAlO3的红外发射率,可达到0.9以上;经过1200°C的热处理还能够进一步提高其红外发射率.

摘要： 本文从红外／雷达兼容隐身原理出发，通过选取适当的红外隐身填料和黏合剂，调整涂料配方，得到8—14纳米波段发射率低达0．25、能有效降低材料表面红外辐射温度且对雷达吸波兼容性较好的红外隐身涂层。红外隐身涂层的红外发射率随填料质量分数的增加和涂层厚度的增加而降低：相同质量分数和厚度条件下，浮型铝粉涂层的红外发射率低于非浮型铝粉涂层。红外隐身涂层的雷达吸波兼容性随填料质量分数的增加和涂层厚度的增加而变差：相同红外发射率条件下，浮型铝粉涂层雷达吸波兼容性优于非浮型铝粉涂层。

摘要： 分别以硅溶胶、硅酸和硅微粉对SiC粉进行包裹实验，得到的样品用双波段红外发射率测量仪测试其常温下8~14 μm波段的发射率，用X射线衍射仪测试其物相组成，并测试样品1200°C保温4 h的氧化增重率。研究表明，硅溶胶、硅酸和硅微粉的引入均提高了SiC的抗氧化性能，其中硅溶胶和硅微粉效果较好;同时，硅溶胶、硅酸和硅微粉的引入均可提高样品的红外发射率，其中以硅酸引入效果为最好．

摘要： 采用共沉淀法制备ATO和CdZns半导体颜料，比较了制备出的半导体颜料与常见的单组分颜料涂层红外发射率大小。通过颜色混合规律将半导体颜料与着色颜料混合制备了绿色伪装涂料，制备出来的涂层具有较低的红外发射率，并且其光谱反射曲线满足美军标的光谱通道要求，具有较好的应用前景。

摘要： 对目前所采用的月表热环境计算模型进行分析，发现部分可能影响计算结果的因素未被考虑。为了获得真实可靠的月表温度特性，重新建立了月表热环境的多温段变反射率计算模型，考虑了月表地理位置、月表太阳反射率和红外发射率的变化特性。结果表明，同纬度下月海的最高温度高出月陆最高温度近11K。多温段变反射率计算模型相比于目前广泛采用的计算模型，在某一时刻的温度偏差近80K，月夜时月表的温度值相差4K。

摘要： 本文对金属填料、涂层固化工艺以及着色颜料等因素对涂料红外发射率的影响开展了实验研究,结果表明：随着铝粉含量增加,发射率降低；酚醛-铝粉体系最佳固化温度为60°C,固化时间为12h；选择硫化镉为着色颜料,含量不超过2%可以满足可见红外兼容。

摘要： 本发明公开了一种基于石墨烯的高发射率的红外发射膜及其制备方法。本发明的一种基于石墨烯的高发射率的红外发射膜包括自下而上依次层叠设置的透明基底、粗糙化的石墨烯复合层、电极层和封装层，其中，石墨烯复合层为通过液态胶黏剂将在粗糙处理后的催化衬底上生长的石墨烯薄膜转移至透明基底上时，由液态胶黏剂固化而成的胶黏层和石墨烯薄膜形成的复合层，且胶黏剂层完全复刻所述催化衬底上的粗糙纹路，石墨烯复合层的粗糙度为0.5‑40μm。本发明的石墨烯复合层由于是通过液态胶粘剂将生成在粗糙化处理的衬底上的石墨烯薄膜转移至透明基底上的，使得石墨烯复合层的比表面积和表面粗糙度的明显提高，从而提高了红外发射膜的发射率。

摘要： 本发明涉及一种高发射率玻璃釉料以及高发射率涂层制备方法。具体地说，本发明涉及一种釉料组合物及其在例如陶瓷纤维刚性隔热瓦上形成釉料涂层的应用，所述釉料组合物包含玻璃粉料、水和陶瓷分散剂；优选的是，所述玻璃粉料、水和陶瓷分散剂的质量比为1∶2至4∶0.01至0.02。本发明还涉及一种在基体上制备釉料涂层的方法，所述方法包括如下步骤：获得所述釉料组合物；在基体的表面上涂布所述釉料组合物，形成釉料涂层；将所述釉料涂层烘干；以及将烘干的所述釉料涂层烧结，由此在所述基体的表面上形成烧结釉料涂层。本发明方法可获得具有半球全谱发射率不低于0.90，服役条件下重复使用100次后半球全谱发射率降幅不大于10％的坚硬而光亮的黑色釉料涂层。

摘要： 本发明提供了一种MODIS宽波段发射率和GLASS宽波段发射率的融合计算方法，首先将MODIS窄波段发射率转换为MODIS宽波段发射率，之后对MODIS宽波段发射率和GLASS宽波段发射率基于混合指数模型分别拟合对应的协方差模型系数，包括块方差第一指数模型的基方差以及第二指数模型的基方差，利用得到块方差、第一指数模型的基方差以及第二指数模型的基方差分别为MODIS宽波段发射率和GLASS宽波段发射率求取对应的调节算子，利用调节算子计算得到对应的误差协方差模型，再利用理想插值算法基于两个误差协方差模型进行MODIS和GLASS宽波段发射率的融合。利用上述方法融合得到宽波段发射率相比现有技术的融合方法取得了具有更好地融合效果，使理想插值在地表遥感产品的融合具有更好的应用空间。

摘要： 本发明涉及远红外发射日用陶瓷技术，具体涉及一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，取日用陶瓷坯料并向其中加入日用陶瓷坯料质量10‑30％的远红外陶瓷粉混合制得远红外发射陶瓷釉浆，按1:2.5:1的质量比将远红外发射陶瓷釉浆、球石、水加入到球磨罐中球磨，过100目多孔筛得到远红外发射陶瓷浆料；将制得的远红外发射陶瓷浆料按照日用陶瓷施釉工艺均匀地涂覆在陶瓷坯体表面作为日用陶瓷底釉，随后放入干燥炉中烘干得到涂覆远红外发射混合粉的陶瓷坯体；将制得的陶瓷坯体表面进行面釉装饰，随后烘干置于日用陶瓷烧成炉中以5°C/min的升温速率进行升温，自室温升温至低于1250°C，保温1h‑2h，待自然冷却至室温后，得到高发射率的远红外日用陶瓷。

摘要： 本发明涉及一种可调制的红外发射器，该可调制的红外发射器包括加热元件、平面的基部元件、介电夹层和为结构化超材料的平面的覆盖元件，和致动器，其中，该致动器被配置为用于覆盖元件和基部元件在第一位置与第二位置之间的相对运动，从而对红外发射器的发射强度进行调制。本发明还涉及用于制造红外发射器的方法、用于借助红外发射器进行红外辐射的调制发射的方法，以及红外发射器的优选用途。一种包括红外发射器和用于调节致动器的控制设备的系统也优选地是本发明的主题。

摘要： 本发明公开了一种基于石墨烯的高发射率的红外发射膜及其制备方法。本发明的一种基于石墨烯的高发射率的红外发射膜包括自下而上依次层叠设置的透明基底、粗糙化的石墨烯复合层、电极层和封装层，其中，石墨烯复合层为通过液态胶黏剂将在粗糙处理后的催化衬底上生长的石墨烯薄膜转移至透明基底上时，由液态胶黏剂固化而成的胶黏层和石墨烯薄膜形成的复合层，且胶黏剂层完全复刻所述催化衬底上的粗糙纹路，石墨烯复合层的粗糙度为0.5‑40μm。本发明的石墨烯复合层由于是通过液态胶粘剂将生成在粗糙化处理的衬底上的石墨烯薄膜转移至透明基底上的，使得石墨烯复合层的比表面积和表面粗糙度的明显提高，从而提高了红外发射膜的发射率。

摘要： 本发明涉及尤其用于玻璃熔窑的烧制耐火成型体，其含有SiO

摘要： 一种红外中波高发射率且长波低发射率复合薄膜的制备方法，它涉及一种薄膜的制备方法。本发明的目的是要解决现有红外调控技术方面存在红外发射率调节幅度不高，改变物质显示出的温度特定不明显和成本高的问题。方法：一、基底的表面处理；二、膜层沉积前处理；三、高反射层材料的选择；四、介质层材料的选择；五、红外辐射层材料的选择；六、保护层材料的选择；七、沉积膜层，得到红外中波高发射率且长波低发射率复合薄膜。本发明制备的一种红外中波高发射率且长波低发射率复合薄膜能够在低温下使用，薄膜红外波段发射率选择性能力基本与初始状态相同，该技术是一种低成本、安全、简单的薄膜制备技术。

摘要： 本发明公开了一种中远红外波段低红外发射率的陶瓷材料，其分子式为La0.5‑xRexBa0.5CoO3‑δ，式中Ae＝Ca或Sr，x＝0.025～0.075，具有立方相的钙钛矿结构，在中红外波段(3～5μm)发射率可低至0.1以下，远红外波段(8～14μm)发射率可低至0.15以下，可做成涂层材料，也可以镀到工件表面，用于制备红外隐身材料，进而用于隐身探测器、隐身飞行器、隐身武器装备等。

摘要： 本发明提供一种连续调节物体红外发射率的方法和基于此的红外功能表面，所述连续调节物体红外发射率的方法包括在物体表面设置调控材料层，所述调控材料层在垂直于所述物体表面方向设有多个贯穿孔，通过调节所述物体从所述贯穿孔中暴露出的面积大小，实现红外发射率的连续调节。本发明通过在物体表面设置发射率与物体不同的调控材料层，然后调节调控材料层在其与物体形成的整体表面所占面积比例，实现了在3～5μm和8～14μm波段红外发射率0.1～0.9的连续可调。该方法相较于传统的在物体表面制作不同发射率的涂层，工艺简单、成本低、重复性好且可以大面积应用，对建筑外墙保温、节能减排等应用具有重要意义。