研磨法

摘要： 《绿叶中色素的提取和分离》实验是人教版高中生物的重点内容之一。教材实验中运用研磨法提取色素,用毛细吸管画滤液细线,用纸层析法分离色素。学生在使用原层析装置进行层析分离操作时,滤纸条经常脱落或贴壁,滤液线易没八层析液,分离效果较差。层析液的用量较难控制,且层析液易挥发,对操作者的身体有害。

摘要： 目的建立定量检测难溶性香菇多糖无菌原料药中细菌内毒素的动态浊度法。方法参考2020年版《中国药典(四部)》通则1143细菌内毒素检查法,建立细菌内毒素检查标准曲线,通过干扰试验确定样品的质量浓度范围,并考察研磨法溶解样品的细菌内毒素回收率。结果香菇多糖质量浓度在2.5000μg/mL及以下时不干扰试验,研磨法溶解样品的细菌内毒素回收率在50%~200%范围内,样品中内毒素含量可定量测定。结论动态浊度法可定量检测香菇多糖无菌原料药中的细菌内毒素。研磨法操作方便,对细菌内毒素的生物活性无影响。

摘要： 采用常温固相反应(研磨法)来制备金属氧化物半导体钙钛矿NiSnO_(3)气敏材料.通过气敏材料的敏感性能研究,发现不同元件由于工艺方面的差异,NiSnO_(3)气敏传感器对气体的响应有较大区别;在60°C以下,NiSnO_(3)材料可以在较低温度下工作,而且温度对其影响较小.混合Al_(2)O_(3)可有效改善NiSnO_(3)材料对NH_(3)的响应速率,但其恢复时间相对缓慢.混合碳纳米管可减小整个气敏元件的电阻值,同一元件重复进行气体检测实验能够较好地恢复效果.

摘要： 不含 α-H的苯甲醛在浓碱作用下,能发生自身的氧化还原反应,即Cannizzaro反应,得到固体产品苯甲酸和液体产品苯甲醇.为了使该实验更适合于有机化学实验考试,改进后的实验采用研磨法合成、 乙酸乙酯萃取、 薄层色谱监测、 柱色谱分离纯化,最后检测产物物理性质.改进后的实验缩短了反应时间、 减少了反应物用量、 避免使用管制类试剂、 提高了产物纯度和产率,并且提高了实验综合性,能够更加全面地考核学生的实验操作技能.

摘要： 测定植物叶绿素含量有多种方法,以小麦为材料,在前人研究的基础上,验证长势相近的小麦叶片在同等试验条件之下,比较测定叶绿素含量的6种方法.结果表明,原子吸收光谱法所测得的叶绿素含量最高且结果最准确、可靠;浸提法所得的叶绿素含量也较高但时间过长;研磨法结果偏低且过程繁琐;叶绿素仪法并不适合作为精确测量叶绿素含量的方法.所测叶绿素含量从高到低依次为原子吸收光谱法>无水乙醇浸提法>80％乙醇浸泡法>95％乙醇研磨-过滤法>95％乙醇研磨-离心法>叶绿素仪法.此结论可为其他研究者提供一定的参考价值.

摘要： 酰肼是一类具有广泛用途的有机化合物,N-酰基苯并三唑是一种高效酰化试剂.本文采用N-芳甲酰基苯并三唑与1.5当量80％水合肼在室温、无溶剂、无催化剂条件下研磨2 min发生反应,制备9个芳甲酰肼,收率均在90％以上,产物结构经核磁共振氢谱确证.该方法具有反应速度快,条件温和,对环境友好等优点,是一种合成酰肼的绿色工艺.

摘要： 以丁酮和2,4-二硝基苯肼为原料,无水氯化铵为催化剂,在室温下,通过无溶剂研磨法合成丁酮缩2,4-二硝基苯腙.考察了原料摩尔比、研磨时间以及催化剂用量对产率的影响,在单因素实验的基础上进行正交实验,探究出一条高产率的合成工艺,对合成产物进行了紫外光谱表征.实验结果显示:最佳合成工艺为:室温下,2,4-二硝基苯肼的量为0.20 g,原料n(丁酮)∶n(2,4-二硝基苯肼)为1.4∶1,研磨时间为20 min,催化剂用量为15 mmol,产率高达76％.

摘要： 目的:选取氟灭酸为活性药物成分,选取茶碱、烟酰胺、邻苯甲酰磺酰亚胺为共晶形成物,将氟灭酸分别与上述共晶形成物制备药物共晶,并研究其晶体结构.方法:使用低毒性的乙醇溶剂,分别采用溶剂挥发法及研磨法制备氟灭酸药物共晶;采用红外光谱,X线衍射仪,荧光光谱仪对样品进行测试,鉴定共晶生成,分析样品结构.结果:两种方法制得的共晶样品红外光谱发生特征峰移动,X线图谱出现新的特征峰,荧光发射波长及发射强度改变,证明氟灭酸可与上述3种共晶形成物通过其分子结构上的羰基、氨基等官能团间生成氢键连接而制备药物共晶.但是研磨法所得共晶样品的表征结果显示有原料残留,共晶纯度不高.结论:溶剂挥发法与研磨法均可制备氟灭酸共晶,其中溶液法所得共晶样品纯度较高,晶体结构较优.

摘要： 采用沉淀法、研磨法和水热合成法分别制备3种BiOI可见光催化剂,在湿法光催化脱汞装置上考察3种催化剂的脱汞性能,并研究了反应温度、SO2和NO对脱汞效率的影响,利用XRD、BET、SEM、XPS、DRS和PL等技术对催化剂进行物化表征.结果表明:对于同一种催化剂,制备方法不同,脱汞效果也存在明显差异,其中用水热合成法制备的BiOI脱汞效果最好,且水热合成制备的催化剂对反应溶液温度和酸碱度的适应性较广,在Hg0的催化氧化过程中,(·O)2-和h+发挥主要作用,(·O)H发挥辅助作用.

摘要： 为快速、高效获取小鼠胚胎肝脏单细胞悬液，本文通过对剪碎及研磨两种处理方法的比较与分析。结果显示，研磨法不但能保证细胞数量及细胞存活率，且操作简单、耗时短，适合基因时空特异性表达调控研究中所需特殊标本制备中应用。

摘要： 提出了一种利用研磨方法制备光纤探针的技术.利用自制的研磨装置，采用不同颗粒度的氧化铝研磨材料，对光纤末端进行研磨、抛光，形成锥形探针;制备过程中可以对光纤探针的表面和锥角进行直接控制，利用此方法制作了直四棱锥型大锥角光纤探针，并对光盘样品进行扫描成像，同时获得了样品的切变力形貌像、振幅像和透射模式的近场光学像。

摘要： 介绍石材表面增光的两大类方法:研磨法和涂层法.探讨增光机制和石材增光技术的最新进展,并列出了部分研磨和涂层的化学配方.

摘要： 优化香椿子挥发油β-环糊精(β-CD)包合工艺条件,并对其进行初步评价.以包合物得率和包合率为指标,以投料比、加水量和时间为考察因素,正交优化香椿子挥发油研磨包合工艺.TLC法、显微镜法和UV法对包合物进行评价.优化包合条件为挥发油与β-CD投料比为1:8,4倍量水,研磨60min.经TLC法、显微镜观察法和UV法验证：香椿子挥发油包合前后成分无变化,被β-CD包合形成包合物.包合工艺合理可行,具有重现性,可为香椿子挥发油开发应用奠定理论基础.

摘要： 优化香椿子挥发油β-环糊精(β-CD)包合工艺条件,并对其进行初步评价.以包合物得率和包合率为指标,以投料比、加水量和时间为考察因素,正交优化香椿子挥发油研磨包合工艺.TLC法、显微镜法和UV法对包合物进行评价.优化包合条件为挥发油与β-CD投料比为1:8,4倍量水,研磨60min.经TLC法、显微镜观察法和UV法验证：香椿子挥发油包合前后成分无变化,被β-CD包合形成包合物.包合工艺合理可行,具有重现性,可为香椿子挥发油开发应用奠定理论基础.

摘要： 优化香椿子挥发油β-环糊精(β-CD)包合工艺条件,并对其进行初步评价.以包合物得率和包合率为指标,以投料比、加水量和时间为考察因素,正交优化香椿子挥发油研磨包合工艺.TLC法、显微镜法和UV法对包合物进行评价.优化包合条件为挥发油与β-CD投料比为1:8,4倍量水,研磨60min.经TLC法、显微镜观察法和UV法验证：香椿子挥发油包合前后成分无变化,被β-CD包合形成包合物.包合工艺合理可行,具有重现性,可为香椿子挥发油开发应用奠定理论基础.

摘要： 优化香椿子挥发油β-环糊精(β-CD)包合工艺条件,并对其进行初步评价.以包合物得率和包合率为指标,以投料比、加水量和时间为考察因素,正交优化香椿子挥发油研磨包合工艺.TLC法、显微镜法和UV法对包合物进行评价.优化包合条件为挥发油与β-CD投料比为1:8,4倍量水,研磨60min.经TLC法、显微镜观察法和UV法验证：香椿子挥发油包合前后成分无变化,被β-CD包合形成包合物.包合工艺合理可行,具有重现性,可为香椿子挥发油开发应用奠定理论基础.

摘要： 一种研磨液供给系统及化学机械研磨站之的研磨液混合物供给法，该研磨液供给系统适用于半导体制造设备中的一化学机械研磨工艺及相关方法。研磨液供给系统包括一阀箱与一第一研磨液供给系列。阀箱包括至少一化学机械研磨站的一研磨液排放管座。第一研磨液供给系列可包括一研磨液混合槽、研磨液供给槽、以串联泵送关系设置的至少两研磨液供给泵。第一研磨液供给系列定义一第一研磨液管路回路。在实施例中也提供了用于定义一第二研磨液管路回路的一第二研磨液供给系列。来自第一研磨液管路回路与第二研磨液管路回路的研磨液可分别或同时经由阀箱的操作而供应至化学机械研磨站。本发明不但可以简化供应研磨液的操作，而且可以降低设备维护成本。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨用研磨剂，其特征是，含有导体的氧化剂、对金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH在3以下，上述氧化剂的浓度为0.01-3重量％，钽与铜或铜合金的研磨速度比Ta/Cu大于1，氮化钽与铜或铜合金的研磨速度比TaN/Cu大于1。

摘要： 本发明提供的化学机械研磨用研磨剂，含有导体氧化剂、金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH低于3，氧化剂浓度为0.01-3重％，或含有平均粒径在50nm以下、粒径分布的标准偏差值大于5nm的磨料。

摘要： 本发明提供的化学机械研磨用研磨剂，含有导体氧化剂、金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH低于3，氧化剂浓度为0.01-3重量%，或含有平均粒径在50nm以下、粒径分布的标准偏差值大于5nm的磨料。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨用研磨剂，其特征是，含有导体的氧化剂、对金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH在3以下，上述氧化剂的浓度为0.01-3重量％，钽与铜或铜合金的研磨速度比Ta/Cu大于1，氮化钽与铜或铜合金的研磨速度比TaN/Cu大于1。

摘要： 一种研磨液供给系统及化学机械研磨站之的研磨液混合物供给法，该研磨液供给系统适用于半导体制造设备中的一化学机械研磨工艺及相关方法。研磨液供给系统包括一阀箱与一第一研磨液供给系列。阀箱包括至少一化学机械研磨站的一研磨液排放管座。第一研磨液供给系列可包括一研磨液混合槽、研磨液供给槽、以串联泵送关系设置的至少两研磨液供给泵。第一研磨液供给系列定义一第一研磨液管路回路。在实施例中也提供了用于定义一第二研磨液管路回路的一第二研磨液供给系列。来自第一研磨液管路回路与第二研磨液管路回路的研磨液可分别或同时经由阀箱的操作而供应至化学机械研磨站。本发明不但可以简化供应研磨液的操作，而且可以降低设备维护成本。

摘要： 本发明提供的化学机械研磨用研磨剂，含有导体氧化剂、金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH低于3，氧化剂浓度为0.01－3重量％，或含有平均粒径在50nm以下、粒径分布的标准偏差值大于5nm的磨料。

摘要： 本发明提供的化学机械研磨用研磨剂，含有导体氧化剂、金属表面的保护膜形成剂、酸和水，pH低于3，氧化剂浓度为0.01－3重量％，或含有平均粒径在50nm以下、粒径分布的标准偏差大于5nm的磨料。

摘要： 本发明提供研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法。一种研磨剂用于形成有被研磨膜的基板的研磨的应用，所述研磨剂含有：4价金属氢氧化物粒子，阳离子化聚乙烯醇，选自由氨基糖、该氨基糖的衍生物、具有氨基糖的多糖类以及该多糖类的衍生物所组成的组的至少一种糖类，以及水。

摘要： 本发明提供研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法。一种研磨剂用于形成有被研磨膜的基板的研磨的应用，所述研磨剂含有：4价金属氢氧化物粒子，阳离子化聚乙烯醇，选自由氨基糖、该氨基糖的衍生物、具有氨基糖的多糖类以及该多糖类的衍生物所组成的组的至少一种糖类，以及水。