特殊图形

摘要： 求解选择题与填空题,除了一些常用的技巧和方法外,还有一些特殊解法,借助这些特殊解法,一定程度上可以提升解题效率.下面结合近年高考真题,对选择题和填空题的一些特殊解法加以实例剖析.1特值法在解决选择题和填空题时,可取一个(或一些)特值(如特殊位置、特殊函数、特殊点、特殊方程、特殊数列、特殊图形等)来确定其结果,这种方法称为特值法.特值法只需对特殊数值、特殊情形进行检验,省去了推理论证、烦琐演算的过程,能提高解题的速度.

摘要： 几何图形存在性问题是中考中常见题型,是根据题目中提供的条件,探究是否存在构成特殊图形(角、三角形、四边形)的点的问题.这类问题的本质是图形的判定,因此解决该问题首先要追根溯源,找到特殊角、三角形、四边形的判定方法,再通过全等、相似、三角函数、勾股定理等手段转化为线段的数量关系,最后转化为要求的点的坐标问题.

摘要： 全等三角形是八年级上学期的学习内容,随着全等工具的运用,平面几何就可以更方便地展开对很多特殊图形及性质的探究与发现,比如,特殊三角形(等腰三角形、直角三角形),平行四边形的性质与判定的研究,九年级圆和相似的研究,等等.可见全等的学习是具有奠基和全局作用的,是一种“好的数学”(陈省身语).最近,在九年级学习圆和相似之后,笔者又安排了一节数学拓展活动课,引导学生运用圆、相似等知识继续研究与全等有关的条件,促进了学生对全等、圆、相似等平面几何知识的深刻理解.

摘要： 抛物线中特殊图形的存在问题是初中毕业生学业考试的常考题型.由于此类题型着重考查学生画图、析图能力,兼顾考查学生的计算能力,所以每每遇此类试题,都会让考生产生畏惧心理.本文以同一个例题下的多种问题为例.

摘要： 例1在平行四边形ABCD中,E、F分别是边CD和BC的中点,若^(→)AC=λ^(→)AE+μ^(→)AF,其中λ,μ∈R,则λ+μ=.(2009年安徽卷)解不妨设平行四边形ABCD是边长为2的正方形.

摘要： 【课前慎思】学习了长方体、正方体展开图后,北师大版教材五年级下册“数学好玩”中设计了“有趣的折叠”一课,旨在借助附页中的展开图制作仓库模型,并计算仓库的实际占地面积,再次经历折叠与展开的过程,体会立体图形与其平面展开图之间的对应关系,发展空间观念。通过整体分析本单元教学内容,我觉得:虽然“有趣的折叠”研究实物(仓库)模型好像比长方体、正方体更难一些,但是仓库模型展开图中有多个“特殊图形”(与长方形、正方形相比较而言,例如屋顶正面是等腰梯形、山墙面是等腰三角形)及其折痕,学生很容易借助这些“特殊图形”及折痕还原模型,这对五年级学生应该没有思维上的挑战性。

摘要： 近年来,山西省中考试题中特殊图形的存在性问题已逐渐站稳中考数学压轴题的一席之地,着重考查“分类讨论”“数形结合”、“方程”及“转化”的数学思想在综合题中的应用,要求学生有较强的识别、分解、构造基本图形的能力,难度较大,梯度分明.而解决问题的核心则在于深度解读题干,''紧抓特殊边角关系,捕捉隐含条件,结合特殊图形的性质及判定,利用基本图形性质进行简化和求解,突破压轴大关.

摘要： 近年来,全国各地的中考试题中频繁出现以“网格”为背景的数学问题,简称“格点问题” .这类问题将数学信息隐藏在网格中,它不仅培养学生宜观看图的能力,更注重于让学生在看图中分析画图的依据,掌握作图的原理.进而强化学生的规律意识与归纳能力.本文从三个方面来分析特殊图形在“格点问题”中的应用.

摘要： 由于纸张价格大幅上涨,德国的图书和报纸出版商正面临压力,代表图书出版商的德国书业交流协会报告说,特殊图形纸和装订用硬纸板的短期订单变得更加困难。目前预计不会对读者造成重大影响,但“如果纸张短缺持续存在且成本长期居高不下,这最终可能会对交付能力和书价产生影响。”

摘要： 本发明将特殊结构加入到光刻模型数据中，在标准图形参数空间的基础上，通过对其中部分数据结构的比重数值进行调整，继而实现对光刻模型进行微调，改善原有光刻模型的目标，在对原有数据模拟图形不产生变化或变化很小的前提下，使得新光刻模型再次能够覆盖特殊结构。

摘要： 本发明公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法，包括步骤：获取半导体版图和标记层；获取半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形；对所述多边图形进行放大处理得到新的多边图形；将所述新的多边图形与所述标记层合成为一个新的标记层；在光学临近效应修正工艺中对被所述新的标记层覆盖的多边图形进行特殊处理。本发明还公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的系统。上述光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法和系统，通过对获取的半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形进行放大处理后与标记层合成为一个新的标记层，能够避免出现标记层只覆盖多边图形部分区域的现象，不会增加系统的负担。

摘要： 一种特殊单元总数据库及其建立方法、图形修正方法，其中图形修正方法包括：提供待修正版图，所述待修正版图包括待修正区域和待修正特殊单元结构区域；获取待修正特殊单元结构区域中的待修正最小重复单元图形；提供特殊单元总数据库；在所述特殊单元总数据库中获取与所述待修正最小重复单元图形对应的单元修正图形的信息；对所述待修正区域进行光学临近修正，获取第二修正图形的信息；根据所述第二修正图形的信息和单元修正图形的信息获取修正版图。所述图形修正方法的修正效率得到提升。

摘要： 本发明将特殊结构加入到光刻模型数据中，在标准图形参数空间的基础上，通过对其中部分数据结构的比重数值进行调整，继而实现对光刻模型进行微调，改善原有光刻模型的目标，在对原有数据模拟图形不产生变化或变化很小的前提下，使得新光刻模型再次能够覆盖特殊结构。

摘要： 本发明公开了一种电力特殊区域图形的管理方法和系统。该方法包括：获取不同年份的多个特殊区域图形的空间数据以及对应的制图分级标准；接收每个特殊区域图形对应的制图分级固定标准；依据所述空间数据对应的制图分级标准，按照所述制图分级固定标准校对不同年份的每个特殊区域图形的空间数据，以供查询和展示。本发明实现了免费管理特殊区域图形的空间数据的效果，节省了开支，并且也便于数据查询和备份。

摘要： 本发明涉及一种橡胶材料物，所述橡胶材料物包括侧面(3)和纹理部，所述纹理部包括以等于每平方毫米(mm

摘要： 本发明公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法，包括步骤：获取半导体版图和标记层；获取半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形；对所述多边图形进行放大处理得到新的多边图形；将所述新的多边图形与所述标记层合成为一个新的标记层；在光学临近效应修正工艺中对被所述新的标记层覆盖的多边图形进行特殊处理。本发明还公开了一种光学临近效应修正中标记特殊处理图形的系统。上述光学临近效应修正中标记特殊处理图形的方法和系统，通过对获取的半导体版图中与标记层有重叠区域的多边图形进行放大处理后与标记层合成为一个新的标记层，能够避免出现标记层只覆盖多边图形部分区域的现象，不会增加系统的负担。

摘要： 本发明公开了一种通过特殊图形缺陷监测铜研磨后氧化物凹陷程度的方法，其包括以下步骤：步骤一，对铜和氧化物进行研磨；步骤二，研磨后进行薄膜沉积；步骤三，薄膜沉积后进行光刻；步骤四，光刻后进行刻蚀；步骤五，刻蚀后进行缺陷扫描，从而判断氧化物凹陷的程度。本发明通过后续制程将凹陷通过缺陷体现出来，实现对凹陷的监控。

摘要： 本发明公开了一种优化集成电路可制造性的特殊图形规避方法，所述集成电路后端流程包括设计数据输入，布图规划，布局，时钟树综合和布线五个基本步骤，在上述步骤完成后，对生成的集成电路版图进行分析，查找出芯片制造厂商制造成功率低于预设阈值的图形，并根据所述图形决定相关联标准单元在特定放置方向上不能相邻；然后根据后端流程步骤布线route完成后提取出来的版图图形结果，将形成的单元限制文件增补到设计数据输入init阶段的工艺厂商提供的文件列表里，重新进行设计数据的读入，接着重新进行整个后端的设计流程。本发明不需要修改工艺厂商以及EDA工具厂商所提供的工艺制造相关的文件，也不需要补充EDA工具厂商新的文件格式。

摘要： 本发明公开了一种用于银饰制作的特殊图形成型用的可切换式模具，包括压合基台，所述压合基台中央凹槽内设置有凹面成型模板，且压合基台左右两侧对称设置有夹具挡块，且夹具挡块朝向压合基台圆心内安插设置有滑杆，所述滑杆朝向压合基台圆心端头设置有工件夹具，且滑杆外侧端头上设置有滑杆挡块，所述压合基台背面垂直安插设置有安装立柱，且安装立柱正面垂直设置有垂直滑槽，所述垂直滑槽两侧外壁面上垂直开设有夹合滑槽，且垂直滑槽上通过夹合滑槽套合安装有夹合滑块，所述垂直滑槽内安装有滑槽滚轮，且滑槽滚轮中央通过转轴连接至夹合滑块，所述垂直滑槽内滑槽滚轮下方设置有滚轮推块。