浮法

摘要： 对浮法玻璃熔窑的熔化率设计,熔化区的长宽比例设计,熔化区、小炉、蓄热室系统的基本热平衡计算,窑体结构散热量与窑体砖结构重量的关系,熔化率与单位能耗指标之间的关系,以及个别浮法玻璃熔窑存在的不达产、多烧的燃料热量随排出废气跑掉了等问题进行了分析验证.提出了浮法玻璃熔窑合理设计的10个要点.

摘要： 本文重点探讨了PVB夹层玻璃弯曲性能测试,总结出钢化与浮法夹层玻璃弯曲试验的破裂状态两类特点。比较了不同厚度的PVB中间膜对弯曲性能测试的影响,发现中间膜厚度低于0.38mm以下,夹层玻璃无良好的弯曲韧性。最后,对不同品牌的0.38mm规格的PVB夹层玻璃进行了弯曲性能测试,将弯曲断裂失效的PVB样品进行配方分析,通过成分比例及分子量的表征对比,结合高分子化学的概念理论诠释其失效的根本原因。

摘要： 高铝电子玻璃是厚度在0.7mm以下超薄平板玻璃的统称,成型方法包含浮法、溢流方法、重新引下方法、二次抛光方法。为了保障超薄高铝电子玻璃的顺利成形和生产,本文在阐述超薄高铝电子玻璃成形方法的基础上,比较浮法和溢流法,并对存在的问题提出对应的解决措施,旨在为我国科研生产机构发展提供重要支撑。

摘要： 随着柔性显示技术的发展,市场对柔性玻璃材料的需求越来越迫切.柔性玻璃厚度极薄,生产难度大,该文介绍了5种柔性玻璃制备技术,回顾了柔性玻璃产品发展历程,分析了柔性玻璃行业发展现状并对柔性玻璃产品发展趋势进行了预测.

摘要： 分析目前超白浮法玻璃加工制造基本情况,发现存在一些问题,使得此种玻璃加工制造的品质不佳,严重影响玻璃产品经济价值的有效创造,所以需要超白浮法玻璃加工制造商对于此种玻璃加工制造期间的工艺加强控制,最终使得玻璃生产加工质量好,投入市场销售后产生的经济效益高.基于此本文对超白浮法玻璃的有关内容进行了概述,并对该种玻璃生产期间的工艺控制要点作以了深入的分析研究,希望可以为后续超白浮法玻璃生产厂家高质量的加工制造该玻璃产品提供经验指导.

摘要： 柔性玻璃作为柔性显示的重要组成部分,越来越受到业界的关注。文章介绍了目前的柔性玻璃主要制备生产工艺:浮法、溢流下拉法、狭缝下拉法等的特点,同时对柔性玻璃新型的制备工艺的进展进行阐述,对柔性玻璃的制备技术发展进行展望。

摘要： 目前,TFT-LCD是半导体显示领域使用最广泛的显示技术,其组件的关键核心材料之一为TFT-LCD玻璃基板.世界上生产该基板的主流工艺有溢流下拉法及浮法两种,本文主要就以上两种生产工艺进行概述,并就其建设成本、工艺区别、发展趋势等层面进行对比分析,阐述当前国内TFT-LCD玻璃基板生产工艺的行业状况,并对国内TFT基板的产业化发展方向做出预测.

摘要： TFT玻璃基板是液晶显示器的重要组成器件之一,属于一种无碱电子玻璃,生产难度大技术门槛高.针对产品质量要求,主要探讨配料、窑炉、通道、成型、退火、切割、清洗、研磨、检验、包装全工序的设备布局设计.阐述一种合理的产线结构,为我国电子玻璃行业或相关防火玻璃、光学玻璃等提供设计方面的帮助和参考.

摘要： 4月2日,中国建材国际工程集团有限公司设计并总承包的山西利虎浮法二线升级改造项目点火仪式顺利举行。中国建材工程集团党委副书记、总裁孙建安,山西利虎玻璃集团有限公司董事长耿利虎,中共交城县委书记张振明,县委副书记、县政府党组书记、代县长宋志江参加点火仪式。仪式上,孙建安发表致辞。他指出,山西利虎二线技改项目是中国建材工程集团与山西利虎玻璃集团战略合作的又一重点项目,相信在各方的共同努力下,该项目一定会成为双方实现共赢的新起点。

摘要： 采用常压有机金属化合物化学气相沉积(AP-MOCVD)法,在浮法玻璃生产线上制备了绒面透明导电玻璃,通过控制反应物浓度及配比成功实现对表面形貌的调控,雾度值随表面形貌而变化.采用XRD研究了薄膜的结构和择优取向,采用FESEM、AFM对表面形貌进行了观察,采用紫外可见光分光光度计和四点探针法分析光学和电学性能.结果表明,雾度值与表面形貌密切相关,而表面形貌与膜厚、晶粒尺寸、晶粒的择优取向有关,通过改变工艺参数,可以实现对雾度和光电性能的调控.雾度值随晶粒尺寸和膜厚的增加而提高,但光学和电学性能有所下降.

摘要： 过对带有高窑坎的浮法熔窑高温玻璃熔体流动和传热过程数值模拟以及模拟结果分析发现：在实际熔窑在热点处设置高位窑坎后，其对自然对流形成的两个环流的区域和对流平衡点进行了人为强制性划分，该窑型中环流1表现很强，只是受到窑坎阻挡而不能继续扩张;环流2表现较弱，环流2中回流没有受到环流1的前进流阻挡，可以慢陵对流到窑坎折返。

摘要： 该文对浮法玻璃生产线冷端优化及最佳化控制系统的特点，系统的组成，控制结构以及技术实现做了明确的阐述。重点介绍了系统在处理玻璃缺陷、波盘信息，对玻璃进行各种等级判断、根据工厂管理者的意愿实现冷端优化及最佳化生产等方面的控制方法及控制过程，文中还对控制系统引入专家控制的概念做了简要的介绍。

摘要： 本文对TFT-LCD基板玻璃采用流孔下引法、熔融溢流法以及浮法3种成形技术的工艺过程、特点与应用状况进行对比.综述TFT-LCD基板玻璃高温粘度、液相线温度、高温电导率等工艺性能的研究方法及进展.

摘要： 高铝电子玻璃一般厚度在0.7mm以下的超薄平板玻璃的统称,目前主要应用在电子信息及相关领域,其成型方法有:浮法、溢流法、重新引下法、狭缝下拉法和二次抛光法.主流的成型方法是浮法和溢流法,本文针对超薄高铝电子玻璃的这两种成型方法进行对比分析,并针对浮法技术生产高铝电子玻璃待解决的问题进行分析,指出国内科研生产机构的努力方向.

摘要： 触控屏盖板玻璃是触控屏器件的关键材料.本文介绍了触控屏玻璃的技术、溢流法和浮法生产触控屏玻璃的技术差别,分析了触控屏玻璃的市场情况,探讨了蓝宝石玻璃和PE材料发展对现有触控屏玻璃的影响.

摘要： 浮法是世界上最先进的平板玻璃生产工艺.浮法玻璃显著特点是产品质量好.但由于热工设备存在诸多缺陷,从而造成浮法玻璃或多或少的质量缺陷.浮法玻璃生产的主要热工设备有:熔窑、锡槽、退火窑及冷端快速辊道和气垫切桌.本文对此进行了介绍.

摘要： 介绍玻璃结石新种尖——锡石在生产中的岩相鉴定方法、分析锡石产生机理、提出生产中消除锡石的方法。

摘要： 该文主要根据作者在国外对微晶玻璃技术交流和从事微晶玻璃的交际研究过程中对不同种类微晶玻璃的性能及其成形方法作了介绍。目的在于向生产厂家提供在生产不同种类微晶玻璃产品时正确地采用熔化、澄清、成形、核化和晶化等工艺制度，以便生产出优质的微晶玻璃产品，并使各种微晶玻璃产品在国内外市场中进一步得到广泛的应用和推广。

摘要： 提供一种通过供给包含缺陷产生防止剂的溶液而在表面形成有多个带状的膜的玻璃搬运辊。

摘要： 提供抑制了使用时的蠕变变形的浮抛窑顶盖构件、使用它的浮法平板玻璃制造装置、及浮法平板玻璃制造方法。一种浮抛窑顶盖构件，其中，所述顶盖构件包含氧化铝‑二氧化硅基烧结体，所述氧化铝‑二氧化硅基烧结体中各晶相的90质量％以上为莫来石相、且氧化钠、氧化钾、氧化钛、氧化铁的合计含量为2质量％以下，由平均晶粒尺寸D50为1.0mm以上的粗粒及平均晶粒尺寸D50为0.1mm以下的细粒构成，该粗粒及细粒的质量比为85～60质量％及15～40质量％。

摘要： 本发明提供一种浮法平板玻璃的制造方法和浮法平板玻璃的制造装置，所述制造方法和制造装置可以抑制从存在于底砖的接缝处的熔融金属产生的气泡，从而可以减少玻璃带的底面的气泡缺陷。本发明涉及一种浮法平板玻璃的制造方法，其是将玻璃原料11投入熔化槽10并熔化、得到熔融玻璃12，在具备底砖21A和覆盖底砖21A的底壳22A的浴槽20中收容的熔融金属13的表面上连续地供给熔融玻璃12，通过使熔融玻璃12沿熔融金属13的表面以规定的方向流动，由此成形为带板状的玻璃带14，其特征在于，从喷嘴32C向底壳22A的外表面22B喷射流体将外表面22B冷却，并通过振动吸收构件38吸收从喷嘴32C向底砖21A传递的振动。

摘要： 本发明涉及一种无碱浮法平板玻璃，其玻璃化转变温度为730～850°C，粘度η变成10

摘要： 提供抑制了使用时的蠕变变形的浮抛窑顶盖构件、使用它的浮法平板玻璃制造装置、及浮法平板玻璃制造方法。一种浮抛窑顶盖构件，其中，所述顶盖构件包含氧化铝-二氧化硅基烧结体，所述氧化铝-二氧化硅基烧结体中各晶相的90质量％以上为莫来石相、且氧化钠、氧化钾、氧化钛、氧化铁的合计含量为2质量％以下，由平均晶粒尺寸D50为1.0mm以上的粗粒及平均晶粒尺寸D50为0.1mm以下的细粒构成，该粗粒及细粒的质量比为85～60质量％及15～40质量％。

摘要： 本发明涉及一种浮法连续浸粉机及浮法连续浸粉方法，浸粉机包括机架、循环传送装置和依次布置的预热室、浸粉室和固化室，循环传送装置上设有用于吊挂工件的吊具，循环传送装置运动使吊具依次经过所述预热室、浸粉室和固化室，浸粉室内设有浸粉桶，浸粉桶安装在可升降的升降台上，分隔板将浸粉桶分为在上部的浸粉槽和在下部的气室，分隔板具有大量微孔，气室与气源连通，气源产生的压缩空气依次通过气室和分隔板的微孔进入浸粉槽，使浸粉槽中的粉末悬浮起来。本发明预热、浸粉和固化步骤依次自动进行，整个生产过程自动化程度高，生产效率高，浸粉时间短，形成的绝缘层能很好地与工件结合，不容易开裂、脱落。

摘要： 本发明涉及一种无碱浮法平板玻璃，其玻璃化转变温度为730～850°C，粘度η变成10

摘要： 本发明涉及一种浮法平板玻璃制造方法及浮法平板玻璃，其中，在浮抛窑内的500～1200°C的还原气氛中，以分别满足下述式(1)～(4)所示的条件的方式向玻璃带表面喷雾含有HCl的气体和含有HF的气体：(6.92u1+15.8)c1·t1·exp(-4303/T1)＞r？？(1)，式(1)中，c1为含有HCl的气体的HCl浓度[体积％]，u1为含有HCl的气体的流速(线速度)[cm/s]，t1为含有HCl的气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面存在的锡缺陷的半径[μm]；(6.92u2+15.8)c2·t2·exp(-4303/T2)＞r？？(2)，式(2)中，c2为含有HF的气体的HF浓度[体积％]，u2为含有HF的气体的流速(线速度)[cm/s]，t2为含有HF的气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为在玻璃带表面存在的锡缺陷的半径[μm]；0＜c1/c2≤99？？(3)；0.05≤c2＜10？？(4)。

摘要： 本实用新型属于浮法窑炉领域，提供了一种天然气控制电路，包括第一天然气控制模块，与第一天然气阀门连接，可控制第一天然气阀门进行开启或延迟关闭并输出第一延迟信号或第一瞬时信号；第二天然气控制模块与第二天然气阀门连接，可控制第二天然气阀门进行开启或延迟关闭并输出第二延迟信号或第二瞬时信号；总阀控制模块，与第一天然气控制模块、第二天然气控制模块连接，并根据第一延迟信号或第二延迟信号控制天然气总阀延迟开启，根据第一瞬时信号或第二瞬时信号控制天然气总阀关闭，第一天然气阀门或第二天然气阀门的关闭晚于天然气总阀关闭能使天然气总阀关闭能使天然气得到释放，从而减弱出火口出火时的火焰井喷现象。

摘要： 本公开涉及一种用于浮法窑炉的冷却装置和浮法窑炉。该冷却装置包括依次连通的进水管、第一冷却水管(2)和出水管，所述第一冷却水管(2)的顶边缘贴靠于小炉底壁(1)的下方，所述第一冷却水管(2)具有多段相互间隔设置的管段，相邻的所述管段之间设置有用于抵顶所述小炉底壁(1)的支撑结构(3)。该冷却装置能够有效降低小炉底部温度，延长小炉运行寿命。