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正电子湮没

正电子湮没的相关文献在1985年到2022年内共计490篇,主要集中在金属学与金属工艺、物理学、化学 等领域,其中期刊论文373篇、会议论文65篇、专利文献679831篇;相关期刊134种,包括功能材料、上海钢研、核技术等; 相关会议19种,包括第十一届全国正电子湮没谱学会议、2011中国材料研讨会、2010中国材料研讨会等;正电子湮没的相关文献由811位作者贡献,包括王宝义、魏龙、曹兴忠等。

正电子湮没—发文量

期刊论文>

论文:373 占比:0.05%

会议论文>

论文:65 占比:0.01%

专利文献>

论文:679831 占比:99.94%

总计:680269篇

正电子湮没—发文趋势图

正电子湮没

-研究学者

  • 王宝义
  • 魏龙
  • 曹兴忠
  • 王景成
  • 邓文
  • 于润升
  • 张鹏
  • 况鹏
  • 黄宇阳
  • 王少阶
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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作者

    • 阳永富; 王柱; 陈万平; 邹武生; 赵江滨; 何高魁
    • 摘要: 由于辐照缺陷直接影响载流子收集效率和器件性能,辐照缺陷结构与六方氮化硼(hBN)中载流子产生和输运的关系一直是探测器研究的重要课题。利用静电计、X射线衍射(XRD)、正电子湮没寿命谱(PALS)等方法研究了热解氮化硼(PBN)和热压氮化硼(H-BN)材料的热中子辐照损伤和缺陷结构,以及辐照缺陷对载流子输运的影响。中子辐照的总剂量分别为3.9×10^(14),1.6×10^(15),1.0×10^(16) cm^(-2)。结果表明,中子辐照引入了大量的缺陷和杂质。缺陷的变化规律主要表现为单空位、双空位、小空位团缺陷浓度随着热中子辐照剂量的增加而增加。中子辐照产生的杂质(Li离子)成为了载流子产生中心。辐照引入的缺陷主要成为了载流子的散射和复合中心,降低了载流子迁移率和浓度,使得辐照后的载流子浓度远远低于预期的浓度。研究结果对于理解hBN中子探测器的载流子输运机理具有重要的科学意义。
    • 何健; 贾燕伟; 屠菊萍; 夏天; 朱肖华; 黄珂; 安康; 刘金龙; 陈良贤; 魏俊俊; 李成明
    • 摘要: 金刚石中浅表层氮空位色心在磁探测、量子传感等方面表现出优异的灵敏度和分辨率.相比于其他制备方法,低能碳离子注入具有要求金刚石纯度低、不引入新的杂质原子等优点,但其氮空位色心的形成机理尚不明确.本文采用低能碳离子注入和真空退火工艺在金刚石浅表层创建氮空位色心,并通过拉曼光谱、X射线光电子能谱以及正电子湮没分析,揭示了碳离子注入金刚石制备氮空位色心的机理.结果表明:碳离子注入金刚石在950°C真空退火后呈现出显著的氮空位色心发光.碳离子注入后金刚石浅表层表现出晶格畸变与非晶碳的损伤区,并产生了碳-空位簇缺陷(包裹碳原子的空位簇).在真空退火过程中损伤区通过畸变区的恢复与非晶碳区的固相外延逐步转变为金刚石结构,并伴随着碳-空位簇缺陷的不断解离.在850°C和900°C退火条件下损伤区结构得到部分修复,而在950°C退火时损伤层基本恢复,同时伴随碳空位簇解离的单空位与代位氮原子结合,形成了氮空位色心.
    • 但敏; 陈伦江; 贺岩斌; 吕兴旺; 万俊豪; 张虹; 张珂嘉; 杨莹; 金凡亚
    • 摘要: 为提高RE-Ba-Cu-O涂层导体在强磁场下的超导载流能力,本文采用离子辐照的方式拟在RE-Ba-Cu-O涂层导体产生缺陷以引入磁通钉扎中心.实验利用320 kV高电荷态离子综合研究平台对RE-Ba-Cu-O第二代高温超导带材进行H+离子辐照,进一步采用多普勒展宽慢正电子束分析及拉曼光谱技术研究了剂量在5.0×10^(14)—1.0×10^(16) ions/cm^(2)范围内H^(+)离子辐照后RE-Ba-Cu-O带材的微观结构的变化规律.研究结果表明,随H+离子辐照剂量增大,Y_(0.5)Gd_(0.5)Ba_(2)Cu_(3)O_(7-δ)超导层中产生了包括空位或空位团簇型等类型缺陷,缺陷增多,缺陷类型复杂性增加;涂层中氧原子发生重排,Cu-O面间距增加,涂层正交相结构被破坏.此类离子辐照产生的缺陷为磁通钉扎中心的引入奠定基础.
    • 朱特; 曹兴忠
    • 摘要: 用于核反应堆的金属结构材料中氢/氦泡的前躯体——(氢/氦)-空位复合体的形成受到温度、辐照剂量等多方面因素的影响,研究其在材料中的形成和演化行为对气泡形核的理解及先进核反应堆材料的发展起着至关重要的作用.然而,受到分辨率的局限,这种原子尺度的微结构很难用电镜等常规方法进行表征,以致于该问题的研究上可利用的数据相对较少.正电子湮没谱学是一种研究材料中微观缺陷的特色表征方法,近些年来慢正电子束流和新型核探测谱仪技术的不断发展以及基于慢束发展起来的多种实验测试方法的改进,使正电子湮没技术应用已拓展到金属材料中氢/氦行为的研究领域,在金属材料表面氢/氦辐照损伤的研究中发挥了重要作用.本文结合国内外相关进展以及本课题组的一些研究成果评述了正电子湮没谱学在金属材料氢氦行为研究中的应用,着重讨论了正电子湮没寿命谱、多普勒展宽谱、符合多普勒展宽三种测量方法在如下金属材料氢/氦行为研究中的优势:1)氢/氦气泡尺寸和浓度的估算;2)高能氢/氦离子辐照损伤缺陷及缺陷的退火、时效的演化行为;3)不同形变程度样品中氢/氦与形变缺陷的相互作用;4)不同能量或剂量氢/氦离子辐照对材料造成的损伤以及氢氦协同作用.
    • 单飞
    • 摘要: 正电子作为人类发现的第一种反粒子,其独特的性质引起科学家们广泛的关注.正电子湮没释放出的能量密度高,无放射性,相较于核聚变能更加具有潜力.基于正电子湮没提出激光驱动产生高能正负单子束,高能的正负电子束湮没释放巨大能量将为下一步的能源的实际应用提供借鉴意义.
    • 单飞
    • 摘要: 正电子作为人类发现的第一种反粒子,其独特的性质引起科学家们广泛的关注。正电子湮没释放出的能量密度高,无放射性,相较于核聚变能更加具有潜力。基于正电子湮没提出激光驱动产生高能正负单子束,高能的正负电子束湮没释放巨大能量将为下一步的能源的实际应用提供借鉴意义。
    • 徐雪慧; 石见见; 赵文增; 郭雪莲; 王柱; 吴奕初
    • 摘要: 纳米Al2O3/ZrO2复合陶瓷具有优良的力学性能,良好的高温稳定性和化学稳定性,并具有良好的抗辐照效应,是目前极具潜力的一种纳米陶瓷材料.采用正电子寿命谱分析同时配合着X射线衍射(X-rayDiffraction,XRD)和透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)对纳米Al2O3、ZrO2和Al2O3/ZrO2复合陶瓷在不同退火温度下(室温-1000°C)的微结构及缺陷进行了研究.XRD研究表明:Al2O3、ZrO2和Al2O/ZrO2纳米复合陶瓷三种样品退火温度低于500°C时,晶粒尺寸保持不变;随着退火温度的增加,Al2O3晶粒尺寸变化不大,ZrO2和Al2O3/ZrO2有所增加,但由于Al2O3的抑制,Al2O3/ZrO2的晶粒生长更缓慢.正电子寿命分析表明:样品内主要缺陷是空位、空位团和微孔洞,缺陷主要集中在晶界处.对比ZrO2纳米陶瓷内缺陷,Al2O3和Al2O3/ZrO2纳米复合陶瓷内空位团或微孔洞缺陷尺寸更大,而相对数量更少.退火温度低于500°C时,三种样品内平均缺陷密度基本不变,高于500°C时由于晶粒生长,缺陷开始恢复,ZrO2变化更明显,而Al2O3/ZrO2由于相互抑制对方的晶粒生长,稳定性更高,这与XRD结果一致.纳米Al2O3的TEM图显示出晶粒大小基本不随退火温度变化发生改变,而纳米Al2O3/ZrO2只有在退火温度高于500°C时,晶粒开始慢慢长大,并且发生了团聚,非常直观地证实了XRD和正电子的实验结果.
    • 温阿利; 朱基亮; 范平; 马海亮; 张乔丽; 袁大庆
    • 摘要: 关于CaCu3Ti4O12陶瓷的高介电常数机理,目前广泛接受的是非本征的内阻挡层电容模型.该模型认为在多晶中元素变价、缺陷和非化学计量比等导致的半导化晶粒被绝缘晶界层,即内阻挡层所包围.其中内阻挡层的厚度对材料的介电性能影响较大,而扫描电子显微镜(SEM)测试表明样品晶界呈稀烂的果酱状,SEM难以测量晶界区域绝缘内阻挡层厚度.本文采用正电子湮没技术表征其厚度,通过对CaCu3Ti4O12陶瓷共掺不同浓度的Al、Nb(CaCu3Ti4-xAl0.5xNb0.5xO12,x=0.2%、0.5%、5.0%)改变其晶粒和晶界的微观结构,研究CaCu3Ti4O12陶瓷高介电常数机理.正电子湮没结果显示,掺杂样品符合多普勒展宽谱S参数的变化趋势与平均寿命的变化趋势一致.x=0.5%掺杂样品的介电常数最高,其平均寿命、S参数和湮没长寿命成分均最小,阻挡层最薄.实验结果验证了描述CaCu3Ti4O12陶瓷高介电常数机理的内阻挡层电容模型的预测.
    • 王立群
    • 摘要: 为研究二氧化钛纳米晶的缺陷性质对其光电性能的影响,采用溶胶-凝胶法制备了二氧化钛纳米晶,利用X线衍射和正电子湮没寿命谱对样品的晶相、平均粒径和缺陷性质等进行表征,并以所得二氧化钛纳米晶为基础制备二氧化钛纳米晶薄膜,进一步分析其光电性能.结果表明:在450°C的热处理温度下,可以合成锐钛矿相占主要成分的二氧化钛纳米晶.随着热处理时间从30 min延长至90 min,二氧化钛纳米晶的平均粒径从12.8 nm增大到47.9 nm.随着平均粒径的增大,二氧化钛纳米晶表面缺陷的尺寸变小且浓度降低,同时晶界间的自由体积发生复合.在表面缺陷和平均粒径的双重影响下,二氧化钛纳米晶薄膜的瞬态光电流密度随平均粒径的增大表现出先增大后减小的变化趋势,其中,基于26.5 nm粒径二氧化钛纳米晶制备所得薄膜的瞬态光电流密度最大,其值为0.072 mA/cm2.
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