构图形式

摘要： 山水元素在我国传统艺术中多以自然形态呈现,是我国传统艺术的基本元素之一,而其在陶瓷艺术上的运用多通过传统国画呈现。近年来,随着陶瓷艺术设计理念的转变,对山水元素的运用也在不断创新发展,本文将讨论如何在陶瓷设计创作中更好地融入山水元素。1陶瓷艺术设计中的山水元素构图形式将山水元素运用到陶瓷中需要参考我国传统意义的山水画的构图形式,一方面需要考虑主宾呼应、虚实相容、简繁相应等传统绘画规律的运用。

摘要： 题为《八女投江》的中国画,王盛烈创作过两件。第一件创作于1957年,现藏中国国家博物馆。第二件为筹建“九•一八”历史博物馆而作,尺幅更大,但是除细节内容,在构图形式等方面基本并没有变化。

摘要： 元青花作为彩绘瓷器兴起的开端,在中国瓷器史上有着重要的地位。它的生产发展一方面促使景德镇成为世界“瓷都”,另一方面改变了宋代含蓄内敛的士人审美,是中国瓷器装饰风格发展的转折点。莲池鸳鸯纹作为一种吉祥纹饰,在元代非常流行,成为元青花典型纹饰,多见于碗、盘等器物内侧。本文以中国(海南)南海博物馆馆藏元青花碗为例,从莲池鸳鸯纹的历史发展,构图形式、意义与影响等方面进行讨论。

摘要： 天门蓝印花布是手工业时代的产物,是湖北省级非物质文化遗产之一。天门蓝印花布的发展经历了萌芽期、兴盛期以及衰退期。荆楚文化、地理位置、民俗文化都对天门蓝印花布纹样的构建、发展、融合起到了重要作用。通过实地考察并结合文献资料分析,将植物纹样分为藤蔓纹样、花卉纹样、果实纹样以及综合纹样,并对其构图形式、纹样的象征意义进行分析,进一步深入了解天门蓝印花布的文化内涵与艺术特色。

摘要： 我国从古代开始就喜欢用诗意来表达自己的个人情感,而写意花鸟画更是在历史的长河中经历了多年的发展,用以表现大自然的艺术性和自然之美,表达个人情感。写意花鸟画的画面构图形式作为反映审美的重要内容,需要具有一定的时代特点,和大众的审美达到一致,这样才能让绘画作品更加生动和富有生命力。从写意花鸟画的概念出发,就写意花鸟画的构图形式进行研究和分析,以促进写意花鸟画更好发展。

摘要： 《采菊图》是清初四僧之一石涛在其三十二岁时创作的山水画作品,它虽然不是石涛众多作品中最出色的一幅,但画面的构图取景、造型元素、用笔用墨无一不展现出形式感。在以摹古为风尚的清初时期,石涛大胆创新、突破成规,基于自己的感受描绘眼中所见的真山真水,既继承了古法又发展了山水画的绘画形式,丰富了中国山水画史,将写意山水画推向新境界。本文从《采菊图》的构图取景、造型元素、笔墨特征角度分析石涛对当代山水画产生的影响。

摘要： 莫高窟172窟建于盛唐,榆林窟第3窟建于西夏,这两个洞窟是《观无量寿经变》这种壁画形式繁荣与衰亡时期的典型代表,壁画布局的对称性对研究同一体裁的经变画内容有启迪性作用,本文试从不同时期的洞窟壁画布置,构图形式,乐器内容,乐队与乐舞组合来对盛唐至西夏的历史以及不同朝代的用乐规格与音乐史进行浅析。

摘要： 耀州瓷的各类器具不仅具有使用功能,器具上的纹样也表现了先人的智慧与情感。构图形式作为装饰艺术的重要语言形式,是耀州瓷纹样各元素间统一安排、合理构建、不可缺少的重要组成。文章通过田野调查法、资料分析法、对比论证法等方法,对耀州瓷纹样构图形式进行分析与总结,以期更好地认知耀州瓷装饰纹样,探究耀州瓷纹样构图形式的实用功能与精神内涵。

摘要： 运用图形创意的方法解析苗族刺绣图案的构图形式,发现苗族同胞的苗绣图案里大量使用共生同构和置换同构的构图方法,而苗族刺绣图案来源于民间,传递于民间,也使用于民间,但人们高超的构图技艺却早于图形理论发展的时代,这正是苗族刺绣图案具有研究价值的体现。苗族刺绣图案是苗族文化的符号,是浓缩的苗族史书,刺绣图案内容主要由生命起源文化、生殖繁衍文化、迁徙文化三个部分组成,是苗族同胞宗教认知和历史活动的记载。虽然苗族支系众多,分布广泛,但苗绣图案的表现主题和构图形式都相近,从多个角度列举多个苗族支系同胞的苗绣图案,从中能感受到苗绣图案独特的构思技巧和豪迈巧妙的图形表现形式,图案内容充满神秘的浪漫情怀,体现了苗族同胞拙朴而纯真的情感,它值得现代设计提取和学习。

摘要： 彝族传统刺绣技艺这一非物质文化遗产是彝族人民传统文化和审美意识的载体。从图案构图形式视角分析彝绣图案形态特征,研究图案构图特点以及在彝族传统服饰中的文化内涵和美学意义。

摘要： 粉扑又称为"粉擦",是一种常用的化妆工具,多作为姑娘的陪嫁,民间传统的粉扑有着装饰性极强且绣有吉祥寓意的图案.中原地区民间传统粉扑的图案有着鲜明的特征,题材民俗化,受到民俗的影响,也反映着民俗;构图形式新颖,虽然尺寸小,轮廓也仅限圆形,但构图形式不拘一格;纹样大胆抽象和夸张,为粉扑增添了灵气,色彩最能体现中原地区的特征,最直接地决定视觉效果.图案是对功能用品的装饰,但同时也有着美好的情感寄托,小小的粉扑不仅承载着制作情感,也是传统吉祥文化的传承.

摘要： 通过对蓝印花布的特点和吉祥纹样分类进行介绍,对蓝印花布吉祥纹样的构图形式和情感表现进行分析,并对蓝印花布吉祥纹样在现代女装中的应用进行论述,为蓝印花布服装的创新设计提供一定的参考价值.

摘要： 本文通过探析明代缠枝纹极具特色的构图形式,丰富多样的纹样题材,进一步发掘其潜在的文化寓意.充分体现了明代缠枝纹极强的生命力和鲜明的包容性,对中国传统植物装饰纹样在现代设计中的运用具有一定的推动作用.

摘要： 黄金率具有严谨的数理性、艺术性、和谐性,蕴藏着丰富的美学价值,一直被人们奉为艺术与美学的重要法则.运用黄金率分割对中国画的构图形式进行分析,不难看出中国传统绘画结构同样符合黄金比例.这说明了中西方绘画的原理殊途同归.

摘要： @@天花彩画在我国的古代建筑彩画中，是一个相对独立的部分，它的构图形式和做法与大木彩画有许多区别。以往，我们对大木彩画多有搜集整理和研究，而对天花彩域的研究搜集工作则相对较少，因而对它进行深入研究是很有意义的。

摘要： 创造优美生动的言辞是修辞学最大的功用,目的在表达语言的效果一强化与修饰。金工珠宝设计的创作过程是一传情达意的营造,所以金工珠宝设计应也是一种语言(视觉语言)的创造,同样是为了有效的沟通传达,因此金工珠宝设计和修辞学应有着相同的向度。本文借由修辞学的观点,来尝试诠释中国台湾传统金饰意象设计的创作过程,验证在中国台湾传统金饰意象设计程序中不管是概念的发想,图像的创造,构图形式和细部修整等阶段,都能获得修辞学最佳的应用表现,尝试说明中国台湾传统金饰意象设计创作的背景与特质。

摘要： 本文主要从偶像式构图与情节式构图艺术形式的来源、巴蜀文化中的“英雄擒兽”符号、巴蜀卍形纹饰的来源及神树崇拜等方面介绍了巴蜀艺术与近东古文明的关系。

摘要： 本文主要从偶像式构图与情节式构图艺术形式的来源、巴蜀文化中的“英雄擒兽”符号、巴蜀卍形纹饰的来源及神树崇拜等方面介绍了巴蜀艺术与近东古文明的关系。

摘要： 本文主要从偶像式构图与情节式构图艺术形式的来源、巴蜀文化中的“英雄擒兽”符号、巴蜀卍形纹饰的来源及神树崇拜等方面介绍了巴蜀艺术与近东古文明的关系。

摘要： 本文主要从偶像式构图与情节式构图艺术形式的来源、巴蜀文化中的“英雄擒兽”符号、巴蜀卍形纹饰的来源及神树崇拜等方面介绍了巴蜀艺术与近东古文明的关系。

摘要： 一种用于形成图形的自对准构图方法，包括：在衬底上形成第一层；在第一层上形成多个第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形的顶表面和侧壁上形成牺牲层，由此在第一硬掩模图形的侧壁上形成牺牲层的各个面对部分之间的间隙；在该间隙中形成第二硬掩模图形；使用第二硬掩模图形作为掩模，蚀刻牺牲层，以露出第一硬掩模图形；使用所露出的第一硬掩模图形和第二硬掩模图形，露出第一层；以及使用第一和第二硬掩模图形蚀刻露出的第一层。

摘要： 提供一种包括含硅的自安装分子层的掩模图形，形成该掩模图形的方法以及制造半导体器件的方法。掩模图形包括在半导体衬底上形成的抗蚀剂图形和在抗蚀剂图形上形成的自安装分子层。自安装分子层具有通过溶胶-凝胶反应形成的硅石网状。为了形成掩模图形，首先，在覆盖衬底的底层上形成具有开口的抗蚀剂图形，以露出底层至第一宽度。然后，仅仅在抗蚀剂图形的表面上有选择地形成自安装分子层，以露出底层至第二宽度，第二宽度小于第一宽度。通过使用抗蚀剂图形和自安装的分子层作为刻蚀掩模刻蚀底层，获得精细图形。

摘要： 由于显影后烘烤中的收缩而使光刻胶掩模(23a)的表面中出现张力，而形成于光刻胶掩膜中的粘附力(23c)吸收了该张力，因而保持对半导体衬底(22)粘附力，防止了光刻胶图形出现不希望的变形(图3D)。

摘要： 本发明涉及一种曲面衬底上微纳结构图形高精度刻蚀传递方法。采用真空热蒸镀、磁控溅射沉积等方法，在石英、硅等材料的曲面衬底表面制备一层导电薄膜，之后经过涂胶、光刻、直写、湿法刻蚀或干法刻蚀等工序制备出与微结构图形一致的图形化导电薄膜，然后利用金属外壳和导电胶带，将曲面衬底四周的导电膜层与样品台下电极联接，确保良好导电接触，形成等电位体，然后进行反应离子刻蚀。该方法能够确保曲面衬底上刻蚀区的电位一致，使得整个曲面衬底裸露出来的区域被均匀刻蚀下去，金属导电薄膜遮蔽的区域被保护起来。本发明中图形化的金属薄膜即是掩模，同时又是电极，解决了石英、硅等介质材料曲面衬底上微纳结构图形的刻蚀传递不均匀难题。

摘要： 一种用于形成图形的自对准构图方法，包括：在衬底上形成第一层；在第一层上形成多个第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形的顶表面和侧壁上形成牺牲层，由此在第一硬掩模图形的侧壁上形成牺牲层的各个面对部分之间的间隙；在该间隙中形成第二硬掩模图形；使用第二硬掩模图形作为掩模，蚀刻牺牲层，以露出第一硬掩模图形；使用所露出的第一硬掩模图形和第二硬掩模图形，露出第一层；以及使用第一和第二硬掩模图形蚀刻露出的第一层。

摘要： 本发明涉及一种基于数字图形介质的三维空间结构图形切割及切片方法；基于数字图形介质的三维空间结构图形切割方法按照从整体到局部，再从局部到单元的化整为零的方法进行三维空间结构图形切割；基于数字图形介质的三维空间结构图形切片方法分为工程详图剖面图的三维空间结构图形切片方法和用于快速成型的三维空间结构图形切片方法；本发明的基于数字图形介质的三维空间结构图形切割方法是一种三维空间结构网格生成的方法，该方法可解决现有三维空间网格构建方法实现过程复杂化、整体效率不高、自动化程度低的问题；基于数字图形介质的三维空间结构图形切片方法简单有效、精度高。

摘要： 提供一种包括含硅的自安装分子层的掩模图形，形成该掩模图形的方法以及制造半导体器件的方法。掩模图形包括在半导体衬底上形成的抗蚀剂图形和在抗蚀剂图形上形成的自安装分子层。自安装分子层具有通过溶胶－凝胶反应形成的硅石网状。为了形成掩模图形，首先，在覆盖衬底的底层上形成具有开口的抗蚀剂图形，以露出底层至第一宽度。然后，仅仅在抗蚀剂图形的表面上有选择地形成自安装分子层，以露出底层至第二宽度，第二宽度小于第一宽度。通过使用抗蚀剂图形和自安装的分子层作为刻蚀掩模刻蚀底层，获得精细图形。

摘要： 由于显影后烘烤中的收缩而使光刻胶掩模(23a)的表面中出现张力,而形成于光刻胶掩模中的粘附力(23c)吸收了该张力,因而保持对半导体衬底(22)粘附力,防止了光刻胶图形出现不希望的变形。

摘要： 单层及多层微纳结构图形试样跟踪装置及方法,装置包括照明模块、线阵CCD、计算机、光阑、分光棱镜、面阵CCD、激光器、分光元件、成像透镜、反射镜、扩束镜、衰减片、1/2波片、偏振分光棱镜、1/4波片等，将微纳结构图形试样放置于位移台上，通过粗调电机使得微纳结构图形试样表面在面阵CCD中清晰成像，通过线阵CCD采集的激光光斑直径数据得出当前位置的离焦量，控制压电陶瓷实时自动跟踪。利用线阵CCD中高精度像素使得激光光斑的微小变化即可被检测，激光光斑经过物镜与成像系统进行了二次放大使得光斑的变化率变大，系统灵敏度高。本发明根据线阵CCD高速实时测量光斑直径得出离焦距离而非通过光斑能量判断。

摘要： 本发明提供了一种金刚石结构图形的构建方法，包括以下步骤：在金刚石衬底表面制作胶层结构图形；所述胶层结构图形表面沉积金属掩膜结构，去除胶层结构，形成了仅有金属掩膜结构的金刚石衬底，未覆盖金属掩膜的部分构成待生长图形；所述金属掩膜结构未覆盖的金刚石衬底表面同质外延生长金刚石；去除所述金属掩膜结构，得到金刚石结构图形。本发明在金刚石衬底表面形成垂直度好的金属结构，从而以所述金属掩膜结构为模板生长(加法)得到的金刚石结构图形，既节约了材料成本，也节约了金刚石生长及金刚石刻蚀等金刚石加工工艺成本，并得到高质量的结构图形。当金属掩膜结构为金属沟槽时，能够得到较好的垂直度的金刚石微纳沟槽，沟槽的倾角为90°。