机械研磨

摘要： 对化学气相沉积(CVD)多晶金刚石膜进行激光平整化的正交试验,使用场发射环境扫描电子显微镜(SEM)进行形貌分析,激光共聚焦扫描显微镜测量线粗糙度R_(a)、面粗糙度S_(a)和切缝锥度,分析激光参数对CVD膜平整化的影响。结果表明:影响切缝锥度的因素依次为脉冲宽度、脉冲频率、进给速度和激光电流,影响线粗糙度Ra的因素依次为进给速度、激光电流、脉冲频率、脉冲宽度。正交试验优化后,当激光电流为64 A、脉冲宽度为400μs、脉冲频率为275 Hz、进给速度为100 mm/min时,可获得最佳的切槽表面形貌。采用该优化参数进行面扫描,测得面粗糙度S_(a)为11.7μm;进一步增加入射角度至75°时,面粗糙度S_(a)降低至1.9μm,实际去除效率达到1.1 mm^(3)/min。

摘要： 硅负极由于其高比容量(4200 mAh/g)成为新型负极材料的主要选择。为获得电化学性能良好的纳米硅负极材料,以金属硅粉为原料,乙炔黑作为包裹材料,与人造石墨通过机械研磨工艺和原位包覆工艺合成了硅碳复合材料,组装成电池并测试材料的电化学性能。使用XRD、SEM、EDS、XPS分析表征了复合材料的结构和组成,使用激光粒度分析对制备的纳米硅颗粒的粒径进行表征,并用红外光谱分析分散剂在颗粒表面的原位包覆效果。将复合材料制备成纽扣电池进行测试,在1 C(900 mA/g)的充放电倍率下经过100个循环,仍然具有590.8和649.1 mAh/g的放电比容量。

摘要： 一、腺胃肌胃的结构功能鸡的胃有两个部分组成,一个是腺胃,一个是肌胃,腺胃呈一个纺锤形,胃壁内有大量腺体,开口于腺胃乳头。主要作用是分泌消化液胃酸进行化学消化。肌胃有两层组成,肌胃角质层,无血管、无通透性保护肌层;肌层,肌肉发达、收缩力强、机械研磨食物,有一定通透性。

摘要： 就目前而言,碳化硅抛光方法依旧存在损伤大、效率低、有污染等问题,因此研发一种高精高效单晶碳化硅表面抛光技术极为重要.文章提出光催化辅助化学机械抛光与机械研磨组合的工艺技术,获得表面粗糙度约为0.47nm,基本能够满足超光滑、低损伤且高效的抛光要求.

摘要： 目的:建立有腥臭异味动物药水蛭的最佳掩味方案.方法:以腥臭味动物药水蛭为研究对象,利用模糊综合评价法对添加不同掩味配方的水蛭口感进行评价,并以指标成分正己醛在掩味前后的变化验证掩味效果,筛选最佳掩味方案.结果:腥臭味动物药水蛭的最佳掩味方案为向水蛭粉末中加入药材质量100％的β-环糊精,密闭研磨15 min.结论:模糊数学可用于筛选腥臭味动物药的掩味方案,β-环糊精作为掩味剂能有效掩盖动物药材腥臭味.

摘要： 结合企业生产及市场需求,通过详细阐述研磨装置的设计结构,介绍其组装工艺过程、加工原理和使用方法,并与人工研磨方式对比分析了使用研磨装置的优点,为工程技术人员提供一定的参考和借鉴.

摘要： 介绍用机械研磨方法处理城市垃圾焚烧飞灰中重金属的研究现状,对机械研磨的条件和方式进行了总结,机械研磨处理焚烧飞灰是一种有效的稳固飞灰重金属的方法,可以抑制重金属的析出,减小对环境的污染.最后指出不同的研磨条件对飞灰中重金属的稳固影响不同,需要研究发现最优的研磨条件.

摘要： 利用机械研磨法,选用钛取代的Keggin型磷钨酸、醋酸铜以及有机配体均苯三甲酸为主要原料,制备了一种新型囊包多酸金属有机纳米笼催化剂材料,并通过红外光谱、粉末X射线衍射及氮气吸附等技术进行了表征.再以所制备的材料为光催化剂考察了其光催化降解亚甲基蓝染料的性能,经过250W汞灯照射加入催化剂的亚甲基蓝溶液60min后,亚甲基蓝的降解率达86%;而相同实验条件不加催化剂的空白亚甲基蓝溶液的染料降解率仅为28%.该实验结果说明所制备材料是一种潜在的高效催化剂,可望应用于光催化降解工业染料废水.

摘要： 通过研磨、剪切、拉伸等方式获得的机械力能促进化学反应,为合成化学开辟了新方向.机械研磨技术作为绿色无溶剂合成方法,应用前景广泛.本文综述了机械研磨技术应用于固态、黏稠状混合物等凝聚态下的有机合成反应,展望了机械研磨技术在有机反应中的发展前景.与传统液相反应相比,其不需要溶剂,具有反应效率高、反应时间短、选择性好、后处理简单、适用于溶解性差的底物等优点.通过机械研磨技术进行的凝聚态有机反应,在某些情况下,会经历与液相反应不同的反应途径,从而生成迥异的反应产物.

摘要： 目前,如何在制备工艺方面改善再生微粉的性能是我国学者探究较多的方向.机械研磨和化学强化是目前比较主流的改善再生微粉性能的两种方式.文章通过机械研磨方式,对再生微粉进行活化激发试验,测试得出不同机械研磨参数下制备的再生微粉制品的比表面积,正交试验分析得出最优研磨参数,并辅以扫描电镜(SEM)观察再生微粉研磨前后形貌.

摘要： 通过湿法机械研磨白炭黑进行解聚分散和白炭黑与TiO2共混研磨方式制备了白炭黑-TiO2复合粉体,对制备过程的各种因素进行了试验考察,对白炭黑-TiO2复合颗粒的结构、颜料性能以及紫外光作用下的光学性能进行了表征.结果表明:影响白炭黑与TiO2研磨复合的因素及优化条件为白炭黑中位径2.288μm,球料比5:1,浆体浓度18％,研磨时间60min,分散剂用量6％.白炭黑-TiO2复合颗粒以TiO2在白炭黑团聚体表面包覆为特征.白炭黑-TiO2复合粉体与钛白粉颜料性能相似,并因白炭黑与TiO2的协同作用而具有紫外线屏蔽性能.

摘要： 为了降低白炭黑颗粒因表面活性羟基之间作用而形成的聚团体粒度,并保持良好的分散状态,采用机械研磨法对水介质中白炭黑的解聚和分散进行了研究.结果表明,白炭黑经搅拌磨湿法研磨,其中位径(d50)由研磨前的18.434tm降为3.8μm.球料比、浆体浓度、研磨时间和分散剂用量都是影响白炭黑研磨产物粒度的因素.SEM观测显示,白炭黑研磨后分散性比研磨前显著提高.机械研磨实现了白炭黑在水介质中的解聚分散.

摘要： 在对304不锈钢进行表面机械研磨处理以及多层温轧后,其延伸率损失较小,而其屈服强度和极限强度都得到了不小的提升。通过在模型中插入内聚力模型的方法可以对经过多层温轧处理的表面纳米化材料的拉伸性能以及变形变化过程进行模拟。纳米层的对材料的高强度贡献以及在拉伸过程中其内部破坏对延伸率增大的贡献都能在本文的模拟中很好的体现。通过模拟我们可以纳米晶层和超细晶层的拉伸性能对整个材料的影响。本文还对裂纹的扩展方式进行了模拟。并对单层厚度对整个结构拉伸性能的影响进行了研究。

摘要： 主要对行星式研磨机机械研磨陶瓷阀门密封面和上海增欣机电设备制造有限公司生产XM型行星研磨机进行了介绍，最后提出了对关于维氏硬度/GPa＞11或12陶瓷密封面机械研磨的一些建议，对行星式研磨机的制作维修与保养有重要的借鉴意义。

摘要： 在电镀和化学镀过程中施加机械研磨可以产生一系列的物理化学效应,从而改变镀层的结构与特性。机械研磨镀可以改变基体金属的表面状态和电化学活性以及镀层/基体金属界面微观结构；机械研磨改变了镀层的生长机制,使镀层晶粒细化和致密化；可改变镀层中的应力状态；增强金属与复合物的结合强度和提高复合镀层致密性；使非晶态镀层转变为晶态镀层,热处理后硬度提高但镀层不开裂.施加机械研磨获得的镀层具有与基体结合紧密,硬度高、耐磨损,抗腐蚀等优异特性。

摘要： 采用搅拌磨中二氧化硅微球(MS-SiO2)和偏钛酸(TiO2?nH2O)湿法研磨、研磨产物煅烧方式制备了MS-SiO2/TiO2复合颜料,对制备过程的主要影响因素进行了考察和优化,对其结构和性能进行了表征.结果表明,MS-SiO2/TiO2?nH2O共混研磨过程固含量、机械力、pH值和产物煅烧温度对MS-SiO2/TiO2复合颜料性能有显著影响.MS-SiO2/TiO2中TiO2颗粒均匀包覆在MS-SiO2表面,TiO2主要为金红石相;MS-SiO2/TiO2具有和钛白粉相当的颜料性能.

摘要： 通过用高能机械研磨等手段加工粉末, 可以使每个粉末颗粒具有纳米结构,亚微米结构,金属基-陶瓷颗粒纳米复合结构等各种新型的材料显微结构.通过用高能机械研磨等手段加工粉末，可以使每个粉末颗粒具有纳米结构，亚微米结构，金属基-陶瓷颗粒纳米复合结构等各种新型的材料显微结构。通过用粉末压坯热锻和热挤压固结这样的粉末，可以得到各种成分具有新型显微结构和高性能的新材料以及相应的型材和零部件。上海交大先进粉末冶金材料及技术实验室科研团队已经开发出高强度，高导电率的超细结构铜基纳米复合材料及其粉末冶金生产工艺，建立了丰厚的知识基础，并能够中试和小批量生产。

摘要： 综述了近年来国内外制备复合钛白的简单机械混合法、强力机械研磨法、粒-粒包覆改性法、TiCl4水解法、TiOSO4水解法、氟化法、微波合成法和碳酸化法等八种方法的原理及工艺技术，评价了其工艺流程、产品成本、产业化前景和推广价值，对其发展进行了展望。

摘要： 用机械研磨氧化物精细制粉法(简称氧化物法)和溶胶凝胶法，制备了配方为Li(1-x)γ2Zn_xFe_2.5-x/2Mna04，其中0.1≤x≤0.6的低温(880±20°C)烧结LiZn铁氧体.对两种方法制备的低温烧结材料与普通烧结材料的晶格常数，居里温度、饱和磁化强度、铁磁共振线宽、自旋波线宽等特性一并进行了比较.实验表明，晶格常数、居里温度、饱和磁化强度等内禀参数与制备方法无关，而△H，△Heff,△Hk等结构灵敏量则存在明显差异。

摘要： 本文研究了采用机械研磨和离子减薄技术制备透射电镜用薄膜样品的方法,介绍了GaN截面TEM样品的制备,发展了供透射式电子显微镜(TEM)分析用的“三明治”半导体样品制样技术,并利用扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜进行观测,获得了有关半导体材料氮化镓材料横截面的薄区图像,加以分析整理从而寻求到了一种透射电镜截面样品的最佳制备工艺。

摘要： 一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。

摘要： 本发明提供化学机械研磨用水系分散体，含有作为磨粒的成分(A)、喹啉羧酸和吡啶羧酸中至少一方的成分(B)、除了喹啉羧酸和吡啶羧酸以外的有机酸的成分(C)、作为氧化剂的成分(D)以及作为具有三键的非离子型表面活性剂的成分(E)，所述成分(B)的配合量(WB)与所述成分(C)的配合量(WC)的质量比(WB/WC)为0.01以上且小于2，所述成分(E)由下述通式(1)表示。(式中，m和n各自独立为1以上的整数，并且满足m+n≦50)。

摘要： 化学机械研磨用水系分散体，其含有(A)细孔容积为0.14ml/g以上的磨粒和(B)分散介质。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨组合物、化学机械研磨浆料及基板研磨方法，即使减少金属总含量，也可实现等同或更高于传统研磨剂的研磨速度，或者当使用相同于传统的金属总含量时，可实现明显高于传统研磨剂的研磨速度。化学机械研磨组合物包含铁基金属催化剂和镁基金属催化剂，金属催化剂的总含量中铁基金属催化剂的金属含量等于或更多于镁基金属催化剂的金属含量。

摘要： 本发明提供化学机械研磨用水系分散体，含有作为磨粒的成分(A)、喹啉羧酸和吡啶羧酸中至少一方的成分(B)、除了喹啉羧酸和吡啶羧酸以外的有机酸的成分(C)、作为氧化剂的成分(D)以及作为具有三键的非离子型表面活性剂的成分(E)，所述成分(B)的配合量(WB)与所述成分(C)的配合量(WC)的质量比(WB/WC)为0.01以上且小于2，所述成分(E)由上述通式(1)表示。(式中，m和n各自独立为1以上的整数，并且满足m+n≤50)。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨用组合物及化学机械研磨方法，可高速研磨作为配线材料的钨膜且可减少被研磨面上的表面缺陷的产生。本发明的化学机械研磨用组合物含有：(A)表面的至少一部分被氧化硅‑氧化铝的被膜被覆的氧化铝粒子；以及(B)液状介质。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨用组合物及化学机械研磨方法，可高速研磨作为配线材料的钨膜且可减少被研磨面上的表面缺陷的产生。本发明的化学机械研磨用组合物含有：(A)具有下述通式(1)所表示的官能基的含有氧化铝的粒子；以及(B)液状介质。‑SO3‑M+·····(1)(M+表示一价阳离子)。

摘要： 本发明提供一种化学机械研磨用水系分散体，含有(A)磨粒、(B)有机酸、(C)水溶性高分子、(D)氧化剂及(E)水，并且所述(C)水溶性高分子的重均分子量为50,000～5,000,000。

摘要： 化学机械研磨用水系分散体，其含有(A)细孔容积为0.14ml/g以上的磨粒和(B)分散介质。

摘要： 该实用新型提出一种用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置，所述研磨垫包括具有第一硬度的第一研磨部和具有第二硬度的第二研磨部，所述第一硬度小于所述第二硬度，在所述研磨垫的研磨面上，所述第一研磨部的研磨面积和所述第二研磨部的研磨面积相同。根据本实用新型实施例的研磨垫，能够减少对晶圆表面形貌的损坏，且不易变形，使用寿命长。