显影液

摘要： 文章是针对印制电路板生产过程中线路、阻焊的显影工序所产生的废显影液进行再生利用实践及研究,其工艺过程是废显影液在超滤工艺过滤后通过参数调整、清洗等一系列的工艺流程,实现显影液的循环再利用,减少废水的排放.

摘要： 光刻是一种利用曝光、显影和刻蚀等工艺将光掩模上的图形转移到衬底材料上的工艺,是半导体器件制造工艺中的重要步骤.其中,在光刻胶层刻画图形时,主要涉及材料为光刻胶、显影液.在G线(436 nm)、I线(365 nm)光刻工艺中,光刻胶主要是酚醛树脂-重氮萘醌体系,显影液一般采用2.38 wt％的四甲基氢氧化铵(TMAH)水溶液;在193 nm、极紫外(EUV)光刻工艺中,光刻胶主要为含有酯基的聚合物-光致产酸剂(PAG)体系,此外由于接触的界面张力以及膨润问题,显影液中需要加入非离子表面活性剂.本文主要介绍几种先进光刻工艺中的光刻胶和显影液.

摘要： 雏菊开遍了北亚的原野,它的被肩盛满了阳光和露水。晨雾封锁了土地,仿佛是天空的牛奶洒了,地面的乳汁比江河还要宽阔。雏菊闭上眼睛嗅白雾的气味,嗅不到牛奶味,只有潮湿的泥土的腥气,更不能用碗喝。阳光照下来,雏菊的花瓣像涂了显影液,在白雾里慢慢清晰,好像云里栽的花。

摘要： 动物园物语一个人是一座完整的动物园。头脑是笼子。思想是飞禽。欲望是隐形潜伏的兽。人性是动物园四周环绕的假山、喷泉、锈铁围栏与装饰有广告牌的塑料花园。四周经过的人都是动物园爱好者,他们每天穿越我生命的围栏参观我的存在与欲望。身体像一道低矮围墙沿我影子的地势在内心地貌中蜿蜒,环护着一个人小小的隐私与自我。我孤独的影子是动物园里最年长的管理员,每天无日无夜地巡视园区.

摘要： 本文详细介绍了TFT阵列光刻工艺中关于四甲基氢氧化铵TMAH显影液浓度控制系统,并从系统设计原理出发讨论显影液的浓度控制优化方式,显影液用量控制方式,溶解在显影液内的光刻胶浓度控制方式的实际应用。

摘要： 目前TFTLCD市场对产品像素密度(PPI)要求越来越高,开发新的高PPIMobile产品对于平板企业而言,边效增加会获得更大的利润。实现高PPI,需要更细的线宽和更窄的间距,这些都受到光刻设备解像力的限制,本文对涂布显影工艺及材料进行了一些可行性研究。本文首先介绍了影响分辨的主要因素,然后针对这些因素提出了改善分辨率的方法,结合影响分辨率的因素和先进的光刻技术提出一个优化的光刻工艺组合方案。从多个方面人手分析改善措施,可以得出切实可行的解决High PPI带来的相关问题,为High PPI产品顺利量产提供有力保障。

摘要： CF显影液目前一般都采用KOH,显影机台水洗单元清洗液使用循环水,重复利用,减少消耗.但是重复使用同时也容易导致钾离子去除不完全,残留的钾离子会在滴液晶后聚集在液晶Pattern边缘,然后在点灯时形成明显规律的LC滴落Pattern形状的Mura,称棋盘格Mura,也叫Drop Mura.棋盘格Mura确认为液晶污染,针对棋盘格Mura异常样品进行TOF-SIMS离子分析,确认污染源为钾离子,可以判定不良原因为液晶污染.为加强残留钾离子的去除,通过显影机台显影时间减少,清洗段清洗液流量加大,加强清洁能力,同时显影后Oven烘烤温度提升,从而减少钾离子残留污染液晶,最终改善棋盘格Mura.

摘要： TFT-LCD的生产工艺中CF显影液目前都采用KOH,显影机台水洗单元清洗液使用循环水,重复利用,减少消耗.但是重复使用同时也容易导致钾离子去除不完全,残留的钾离子会在滴液晶后聚集在液晶Pattern边缘,然后在点灯时形成明显规律的LC滴落Pattern形状的Mura,称Drop Mura.Drop Mura确认为液晶污染,针对棋盘格Mura异常样品进行TOF-SIMS离子分析,确认污染源为钾离子,可以判定不良原因为钾离子污染液晶.为加强残留钾离子的去除,通过显影机台显影时间减少,清洗段清洗液流量加大,加强清洁能力,同时显影后Oven烘烤温度提升,从而减少钾离子残留污染液晶,最终改善Drop Mura.

摘要： 介绍了射线检测中暗室处理中显影液有效性的检验方法,指出了GJB1187A标准中附录D规定的显影液有效性检验方法的不妥当的地方,并提出了改进建议.

摘要： 文章通过在实验室试验显影液中干膜负载量与显影液浓度、pH值的相关性,运用Minitab工具确定显影液干膜负载量与pH值的线性关系,同时根据供应商提供的干膜显影负载量上限值,计算出相应的显影液pH值参数范围.当显影液pH降低至要求范围下限值时,表示显影液中干膜负载量已经达到要求上限,显影液需及时更换处理,故可通过pH值变化来监控显影液中干膜的负载量.

摘要： 本文通过建立科学的实验方法,经过大量的实验和数据分析,对华光显影液的耐冲性有了定量的结论,为用户的使用提供了可靠的理论依据,同时此方法也可使用于其他品牌的显影能力的数据分析。

摘要： 采用还原性混合液回收废定影液中的银,通过高温灼烧、硝酸溶解、除杂等一系列步骤制备试剂级硝酸银;同时,进行了废显影液作为花卉营养液利用的研究.结果表明,银的回收率达92.7%,制备的硝酸银纯度为99.86%以上,达到分析纯级别;未污染的废显影液经过简单处理后可做花卉营养液;处理后的废水都达到国家规定的排放标准,实现了废物利用的目的.

摘要： 文中描述了用光刻的方法在无机电致发光显示器件上制作上电极的方法,主要介绍了一种不含水的负型光刻胶及配套的纯有机显影液、漂洗液等辅液的使用.利用这种不含水的光刻胶及辅液,光刻抬离使器件上电极成形,这种纯有机试剂可以减少对器件中发光层及介质层的破坏[1],达到精细光刻上电极的目的.简要比较了此种方法与直接掩模法对器件的影响,并提出了改进措施.

摘要： 一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，并被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

摘要： 本公开提供一种显影液填充方法，该方法包括在一第一预设时间内，将一显影液填入一显影液供应系统的储存槽中。该方法还包括在接续第一预设时间的一第二预设时间内，停止将显影液填入储存槽中。该方法又包括判断储存槽是否被显影液填满，若否则重复执行上述等步骤。

摘要： 本发明提供一种显影液的浓度调节方法和调制装置，其用于调节在光致抗蚀剂显影工序中使用的碱性显影液的碱浓度，从而能够进行高品质的显影处理。在显影液的浓度调节方法中，测定显影液的碱浓度和显影液中的碳酸盐浓度，按照能够发挥使显影处理后获得的CD值成为一定的值这样的溶解能力的碱浓度与碳酸盐浓度的预先制定的关系，调节碱浓度。另外，显影液的调制装置包括：调制槽；向显影工序供给显影液的供给管线；回收已用过显影液的回收管线；将新显影液原液供给至调制槽的原液供给管线；检测显影液的碱浓度和显影液中的碳酸盐浓度的浓度计；和按照特定的关系控制显影液原液的供给的控制装置。

摘要： 本发明提供一种显影液组合物，其即使是细毛刷也能满足高显影速度，并且能够以高水平满足全部下述现有技术中的课题：图像重现性、光敏树脂层中的未光交联光敏树脂及图像掩模层的分散性。一种可水显影的光敏柔版印刷原版用显影液组合物，显影液组合物以(a)：(b)为25：75～75：25(质量比)含有(a)烷基的碳原子数为8～19且HLB值为11～16的聚乙二醇的单烷基醚和/或单烷基酯的非离子系表面活性剂、及(b)选自油酸金属盐、月桂酸金属盐、十二烷基苯磺酸金属盐及月桂基硫酸金属盐中的一种以上的阴离子系表面活性剂，在含有1质量％的显影液组合物、99质量％的水的水性显影液中，印刷原版表面的毛刷摩擦系数为0.60～0.75[‑]的范围。

摘要： 本发明涉及一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法及其显影液产品，所述芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法包括以下步骤：非离子型表面活性剂的溶解、杂质析出、杂质分离、分析杂质离子浓度、加纯水稀释并重复前面步骤直至各指标达到半导体集成电路用显影液的使用要求。所述显影液产品是由纯化后的非离子型表面活性剂的水溶液与四甲基氢氧化铵水溶液进行循环冷却搅拌混合，得到四甲基氢氧化铵浓度为1‑5 wt%的显影液产品。本发明的提纯方法操作流程简单，设备需求简单，成本低，在提纯过程中不会引入其他杂质组分，采用提纯后非离子型表面活性剂水溶液进行复配的显影液产品，可满足芯片集成电路使用的洁净度和应用要求。

摘要： 一种显影液过滤系统，包含一循环过滤模块以及一第二过滤器。循环过滤模块包含一容置槽、至少一第一过滤器以及一流体控制器。容置槽是选择地连通于一显影液供应槽，并接收来自显影液供应槽的一显影液。至少一第一过滤器是被配置以过滤循环过滤模块的一循环回路中的显影液。流体控制器是被配置以选择地输出来自第一过滤器的显影液至一检测级。第二过滤器是设置于显影液供应槽与容置槽之间或设置于流体控制器与检测级之间，并被配置以过滤来自显影液供应槽或来自第一过滤器的显影液。第二过滤器包含一高密度聚乙烯过滤膜。

摘要： 本发明提供显影液的二氧化碳浓度显示装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。二氧化碳浓度显示装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系算出吸收二氧化碳浓度，利用显示机构显示吸收二氧化碳浓度。显影液管理装置使用显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系，基于显影液的测定出的密度值或算出的吸收二氧化碳浓度值，以使显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或管理值以下的方式向显影液补给补充液，由此管理显影液的吸收二氧化碳浓度，利用显示机构显示吸收二氧化碳浓度。

摘要： 本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的显影液的成分浓度测定装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的成分浓度测定装置具备：对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的显影液的多个特性值进行测定的测定部(1)；基于由测定部测定出的多个特性值并利用多变量解析法来算出显影液的成分浓度的运算部(2)；以及显示由测定部(1)测定出的所述特性值及由运算部(2)算出的成分浓度中的至少任一方的显示部(DP)。

摘要： 本发明提供显影液的浓度监视装置及显影液管理装置。它们具备密度仪，用于测定显影液的密度。与碱成分等其它成分的浓度无关地在显影液的密度与吸收二氧化碳浓度之间具有良好的对应关系。浓度监视装置基于密度的测定值，根据显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系算出吸收二氧化碳浓度。警报机构在由运算机构算出的显影液的吸收二氧化碳浓度值偏离预先设定的管理范围时发出警报。显影液管理装置使用显影液的密度与吸收二氧化碳浓度的对应关系，基于显影液的测定出的密度值或算出的吸收二氧化碳浓度值，以使显影液的吸收二氧化碳浓度成为规定的管理值或管理值以下的方式向显影液补给补充液，由此管理显影液的吸收二氧化碳浓度。

摘要： 本发明提供根据显现碱性的显影液的特性值来精度良好地算出显影液的碱成分、溶解的光致抗蚀剂、吸收的二氧化碳等各成分的浓度的浓度监视装置、以及将显影液的显影性能维持并管理成最佳的状态的显影液管理装置。显影液的浓度监视装置(A)具备：对与反复使用且显现碱性的显影液的成分浓度具有关联的显影液的多个特性值进行测定的测定部(1)；基于由测定部(1)测定出的多个特性值并利用多变量解析法来算出显影液的成分浓度的运算部(2)；以及在由运算部(2)算出的成分浓度中的至少任一方偏离设定的管理范围时发出警报的警报机构(WD)。