明基电通

摘要： 在清华园,我见到了施振荣。已过“七十而从心所欲,不逾矩”的施振荣依然健爽。他的声音缓慢而洪亮,他的思维极其活跃,尤其是谈到他对经营企业的心得和经验。从1976年创业至今,施振荣执掌的宏暮集团已经成为.全球最大的IT制造企业之一,旗下有宏基电脑(Acer)、明基电通(Benq)和纬创资通(Wistron)等巨无霸公司。

摘要： 在DLP投影机市场上获得国内市场份额第—之后，明基接下来该往什么方向走？未来用户需要怎样的投影机？在5月的明基新品发布会上，我们特别专访了明基电通中国总经理杨承泰先生，就这些问题进行了交流。

摘要： 现任明基电通中国营销总部总经理，负责BenQ品牌事业在中国市场的行销策略和营运发展。杨承泰拥有深耕中国的市场经验。在产品线管理、行销策略、和营运管理上均累积了丰富资历,将为BenQ中国区业务注入更多成长力道。

摘要： 近日，据台湾环境保护署（EPA）统计，白2009年12月29Et中华映管、友达光电、奇美电子、明基电通、华硕电脑与台湾环保署签署包装减量协议以来，2010年，我国台湾省用于电脑产品的包装材料用量比上年减少了1．1万吨。据了解，这五大企业用于其产品的包装材料用量减少了3700吨，远远超过870吨的预期目标。其中，华硕电脑公司一个电脑包装纸箱的重量由890克减少到1630克，减少了近40％。

摘要： 一人一书（OPOB）基金6月1日在京成立。盛大文学、汉王、明基电通、元太科技等成为首批基金理事单位。作为一人一书计划的延续，盛大文学等正式发起成立一人一书基金，意在推动电子书产业发展，并准备在合适时候与国家相关机构成立联合实验室和版权登记平台。

摘要： 近日，台湾中华映管、友达光电、奇美电子、明基电通、华硕电脑与“环保署”签署包装减量协议，五大面板及笔记本电脑企业承诺将旗下八款畅销面板及笔记本电脑产品包装减量10％，预计一年可减少超过870t的包装废弃物。

摘要： 当前的高清数码摄像机市场上国产厂商的产品也是一支不容忽视的生力军，对于国产DV厂商来说，一般是有两类厂商，一种是品牌颇为纷杂的专业DV制造商，如欧达、菲星等；另外一类就是知名的IT产品厂商．如明基电通、爱国者等。而这一次拿到的正是明基电通的1080p高清数码摄像机DV M21。

摘要： 或许对大多数制造型企业而言，不断扩大经济规模、降低生产成本，是它们最主要的思维模式和竞争手段。相类似的，明基电通在20余年企业发展过程中，也经历了这样一个阶段。在1984年企业成立至1991年间，明基以OEM代工业务为主，形成了强大的生产制造能力，在1992年至2001年10年间，明基又透过多元化的技术投资，逐渐跨足3C科技领域，进而形成了“水平整合＋专业分工”的集团架构；

摘要： 近日，台湾中华映管、友达光电、奇美电子、明基电通与华硕电脑与“环保署”签署包装减量协议，五大面板及笔电企业承诺将旗下八款畅销面板及笔电产品包装减量10％，预计一年可减少超过870吨的包装废弃物。

摘要： 本发明的一个目的是提供形成阳离子电沉积膜的方法，该方法对电沉积的基本性能没有不利影响，其低温固化性能和颜料分散的稳定性良好，并且在保持表面平滑性和成本优势的同时保持了例如耐腐蚀性和防锈性能等基本性能，显示出非常精确的泳透力，可以获得优异的防止由气体所致的针孔的性能。本发明提供了一种形成阳离子电沉积膜的方法，该方法包括将由镀锌钢板构成的待涂装制品浸入装有包含基体树脂的阳离子电涂液的浴槽，并通过通电在上述镀锌钢板的表面上形成电沉积膜，其中，在所述膜内形成电通孔，以确保所述膜的导电性，从而消除由于氢气泡的存在而出现的火花放电现象，所述氢气泡是随着时间的推移通过氢气的聚结而产生的，所述氢气由所述通电在所述镀锌钢板的表面上的膜的间隙处产生，所述膜的间隙是在通过所述通电来沉积/形成膜并且膜厚度随着时间的推移而增加时生成的，由此抑制所述膜的每单位重量(mg)的电阻值(kΩ·cm

摘要： 本发明的带低反射膜的透明基板包含透明基板、和在透明基板的至少一个主表面形成的低反射膜。低反射膜为利用以二氧化硅为主成分的粘结剂将实心球状且平均粒径为80～150nm的二氧化硅微粒固定而成的多孔膜。粘结剂还包含铝化合物。低反射膜中的成分的含有率以质量％表示为：二氧化硅微粒55％～70％、粘结剂中的二氧化硅25％～40％、将铝化合物换算为Al2O30.1％～1.5％、有机成分0.25％～3％。低反射膜的膜厚为80～800nm。带低反射膜的透明基板在波长区域380～850nm的平均透射率相对于未形成低反射膜的状态的透明基板在波长区域380～850nm的平均透射率的增量被定义为透射率增益，该透射率增益为2.5％以上。上述有机成分包含选自β酮酸酯和β二酮中的至少任一者。

摘要： 本发明提供虽以聚乙烯醇缩醛树脂为主成分、但发挥良好的遮热特性的热线遮蔽膜、以及使用了该热线遮蔽膜的热线遮蔽夹层透明基体材料。本发明提供一种热线遮蔽膜，该热线遮蔽膜含有具有热线遮蔽功能的化合物、选择波长吸收材料、聚乙烯醇缩醛树脂和增塑剂，所述选择波长吸收材料具有波长550nm的光的透射率为90％以上、且波长450nm的光的透射率为40％以下的透射特性。

摘要： 本发明涉及一种用于在衬底中制造电敷镀通孔的方法以及一种具有电敷镀通孔的衬底。该方法具有以下步骤：这样形成电敷镀通孔(6；6’；6”；6”’)，使得所述电敷镀通孔从衬底的正面(V)至衬底的背面(R)穿过所述衬底(2；2’)；在衬底(2；2’)的正面(V)上形成一个第一封闭层(I1)；通过一个从衬底(2；2’)的背面(R)开始的蚀刻过程在衬底(2；2’)中形成一个围绕电敷镀通孔(6；6’；6”；6”’)的环形绝缘沟道(IG；IG’)，其中，该蚀刻过程在第一封闭层(I1)上停止；及通过在衬底(2；2’)的背面(R)上形成一个第二封闭层(18)来封闭衬底(2；2’)中的环形绝缘沟道(IG；IG’)。

摘要： 本发明的一个目的是提供形成阳离子电沉积膜的方法，该方法对电沉积的基本性能没有不利影响，其低温固化性能和颜料分散的稳定性良好，并且在保持表面平滑性和成本优势的同时保持了例如耐腐蚀性和防锈性能等基本性能，显示出非常精确的泳透力，可以获得优异的防止由气体所致的针孔的性能。本发明提供了一种形成阳离子电沉积膜的方法，该方法包括将由镀锌钢板构成的待涂装制品浸入装有包含基体树脂的阳离子电涂液的浴槽，并通过通电在上述镀锌钢板的表面上形成电沉积膜，其中，在所述膜内形成电通孔，以确保所述膜的导电性，从而消除由于氢气泡的存在而出现的火花放电现象，所述氢气泡是随着时间的推移通过氢气的聚结而产生的，所述氢气由所述通电在所述镀锌钢板的表面上的膜的间隙处产生，所述膜的间隙是在通过所述通电来沉积/形成膜并且膜厚度随着时间的推移而增加时生成的，由此抑制所述膜的每单位重量(mg)的电阻值(kΩ·cm

摘要： 本发明的带低反射膜的透明基板包含透明基板、和在透明基板的至少一个主表面形成的低反射膜。低反射膜为利用以二氧化硅为主成分的粘结剂将实心球状且平均粒径为80～150nm的二氧化硅微粒固定而成的多孔膜。粘结剂还包含铝化合物。低反射膜中的成分的含有率以质量％表示为：二氧化硅微粒55％～70％、粘结剂中的二氧化硅25％～40％、将铝化合物换算为Al

摘要： 本发明提供虽以聚乙烯醇缩醛树脂为主成分、但发挥良好的遮热特性的热线遮蔽膜、以及使用了该热线遮蔽膜的热线遮蔽夹层透明基体材料。本发明提供一种热线遮蔽膜，该热线遮蔽膜含有具有热线遮蔽功能的化合物、选择波长吸收材料、聚乙烯醇缩醛树脂和增塑剂，所述选择波长吸收材料具有波长550nm的光的透射率为90％以上、且波长450nm的光的透射率为40％以下的透射特性。

摘要： 有机EL元件10由带ITO膜的基板4(所述带ITO膜的基板4由玻璃基板1、成膜在所述玻璃基板1的表面用于碱钝化的SiO2膜2、及成膜在SiO2膜2表面的ITO膜3构成)、成膜在ITO膜3的表面用于高效地将空穴注入发光层6的空穴传递层5、成膜在空穴传递层5的表面用于将电子注入发光层6的金属薄膜层7、利用被注入的空穴与电子的再结合而发光的发光层6构成。将玻璃基板1的表面平滑性控制在0nm≤Rz≤4nm的范围内。由此，能够不产生非发光点，并使耐久性提高。

摘要： 本发明涉及形成穿过封闭封装件的密封电馈通件的方法及设置有至少一个所述电馈通件的封闭封装件。所述用于形成穿过封闭封装件、特别是通过用于电子部件、光学部件或光电部件的封闭封装件的密封电馈通件的方法包括：在封装件壁的一个壁以及有利地在所述封装件的底部中形成贯通开口；以及在该开口上焊接由共烧陶瓷制成的、电连接件从中穿过的板。

摘要： 本发明涉及一种用于在衬底中制造电敷镀通孔的方法以及一种具有电敷镀通孔的衬底。该方法具有以下步骤：这样形成电敷镀通孔(6；6’；6”；6”’)，使得所述电敷镀通孔从衬底的正面(V)至衬底的背面(R)穿过所述衬底(2；2’)；在衬底(2；2’)的正面(V)上形成一个第一封闭层(I1)；通过一个从衬底(2；2’)的背面(R)开始的蚀刻过程在衬底(2；2’)中形成一个围绕电敷镀通孔(6；6’；6”；6”’)的环形绝缘沟道(IG；IG’)，其中，该蚀刻过程在第一封闭层(I1)上停止；及通过在衬底(2；2’)的背面(R)上形成一个第二封闭层(18)来封闭衬底(2；2’)中的环形绝缘沟道(IG；IG’)。