下层人民

摘要： [单元解读]本单元围绕"人生的悲情遭遇"选取了三个戏剧作品。《窦娥冤(节选)》讲述了窦娥临刑前满腔悲愤地许下三桩誓愿——血溅白练、六月飞雪、大旱三年。借此展现了封建社会下层人民任人宰割、无处申冤的悲惨境地。《雷雨(节选)》描写了"周朴园与鲁侍萍相认" "鲁大海与周朴园冲突"两个情节高潮,通过带有浓厚封建色彩的资产阶级家庭的悲剧,表达了对当时社会现实的观察与思考。《哈姆莱特(节选)》讲述了哈姆莱特发现叔叔克劳狄斯谋害父亲,骗娶了母亲后,内心在高贵理想与丑恶人性中挣扎,并发出"生存还是毁灭"的独白。最终,哈姆莱特为了复仇,付出了年轻的生命。

摘要： 《红楼梦》作者曹雪芹是一个聪明的作家,他适时将刘姥姥搬出来衔接人物,作为底层劳动人民的代表,这个农村老太太的一系列心理活动和言行,刻画出了对一个封建大家庭的认知,也从中看到一个劳动人民的善良。刘姥姥这个人物刻画得很丰满,在第六回、三十九回、四十回、四十一回和一百一十一回里,刘姥姥反复出现。作为穷困而悲哀的主角,反映了一个下层人民生存的艰难和生活的朴实。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身经历为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁这一时期的童年生活,生动地再现了19世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间涌动着一股生生不息的热望与坚强。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 《童年童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待待。

摘要： 《童年》是苏联作家马克西姆·高尔基以自身为原型创作的自传体小说三部曲中的第一部(其他两部分别为《在人间》《我的大学》)。该作品讲述了阿廖沙(高尔基的乳名)三岁到十岁的童年生活,生动地再现了十九世纪七八十年代沙俄下层人民的生活状况,写出了高尔基对苦难的认识,对社会人生的独特见解,字里行间展现了他对美好生活的期待。

摘要： 一种光刻用下层膜形成用材料，其使用下述式(0)所示的化合物。(式(0)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或无桥接，R1是碳数1～30的2n价基团或单键，R0各自独立地是碳数1～30的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～30的直链状、支链状或环状的烯基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基或羟基，前述烷基、前述烯基和前述芳基任选含有氰氧基、巯基、卤素基、硝基、氨基、羧酸基、羟基、醚键、酮键或酯键，m1各自独立地是0～4的整数，此处，至少一个m1是1～4的整数，m2各自独立地是0～3的整数，n是1～4的整数，p各自独立地是0或1。)

摘要： 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，在同一萘环或苯环中可以相同也可以不同，此处，至少1个R2为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，n为1～4的整数，n为2以上的整数时，n个[]内的结构单元的结构式可以相同也可以不同，X表示氧原子、硫原子或未桥接，m2各自独立地为0～7的整数，其中，至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1。

摘要： 本发明的下层膜形成用树脂材料是用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用树脂材料，其包含环状烯烃聚合物(I)，使用流变仪，在氮气气氛下、以剪切模式、测定温度范围30～300°C、升温速度3°C/min、频率1Hz的条件测定得到的上述下层膜形成用树脂材料的固体粘弹性中，表示储能弹性模量(G’)曲线与损耗弹性模量(G”)曲线的交点的温度为40°C以上200°C以下。

摘要： 提供能够适用湿式工艺，用于形成耐热性、抗蚀图案形状、蚀刻耐性、对高低基板的埋入特性和膜的平坦性优异的光刻用膜，耐热性、透明性和折射率优异的光学部件等的含有下述式(1)所示的三嗪系化合物的膜形成材料。

摘要： 本发明的下层膜形成用材料为用于形成多层抗蚀剂工艺所使用的抗蚀剂下层膜的下层膜形成用材料，其包含具有下述通式(1)所示的重复结构单元[A]和下述通式(2)所示的重复结构单元[B]的环状烯烃聚合物，上述环状烯烃聚合物中的上述结构单元[A]与上述结构单元[B]的摩尔比[A]/[B]为5/95以上95/5以下。

摘要： 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R

摘要： 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)

摘要： 本发明提供可通过高能量射线照射而固化，在半导体装置制造工序中的利用多层抗蚀剂法的微细图形工艺中可形成具有优异嵌入/平坦化特性、适当耐蚀刻性及光学特性的抗蚀剂下层膜的抗蚀剂下层膜材料、使用该材料的图案形成方法、抗蚀剂下层膜形成方法、及适用于该抗蚀剂下层膜材料的新型化合物。该抗蚀剂下层膜材料用于多层抗蚀剂法，其含有(A)通式(1)所示的化合物中的一种或二种以上及(B)有机溶剂，[化学式1]式中W为碳原子数2～50的n价有机基团；X为通式(1X)所示的1价有机基团；n为1～10的整数，[化学式2]式中虚线表示结合键；R01为丙烯酰基或甲基丙烯酰基；Y为单键或羰基；Z为碳原子数1～30的1价有机基团。

摘要： 下述式(1)所示的化合物或树脂。(式(1)中，X各自独立地表示氧原子、硫原子或为无桥接，R

摘要： 含有将改性二甲苯甲醛树脂氰酸酯化而得到的氰酸酯化合物的光刻用下层膜形成用材料、含有该材料的组合物、使用该组合物的图案形成方法。