工艺探讨

摘要： 介绍了利用除尘灰生产硫酸锰的目的和意义,详细探讨了水浸泡、回转窑烧结、酸浸泡到压滤的过程,为工业上利用除尘灰生产硫酸锰提供方法。

摘要： 文章开发了薄荷纤维/莫代尔/棉/舒弹丝牛仔面料,通过对不同纤维的染色、织造、整理工艺研究,确定了合理的工艺参数,提高了产品质量,为相关研发工作提供参考。

摘要： 近年来,我国在很大程度上提升了水利工程建设规模,促进了水利建设行业的发展。在水利工程建设过程中,泵站建设是非常重要的工作,尤其是大型水泵机组设备安装具有较高的难度,需要严格遵守相关的安装标准和安装工艺。基于此,简单概述了水泵的安装流程,对安装立式同步电动机的技术要求进行探讨,并提出提升大型水泵机组设备安装质量的策略,希望能够对提升大型水泵机组设备安装质量起到一定的促进作用。

摘要： 随着凹印水墨技术的不断完善与发展,彩印企业对水墨的认知正在逐渐改变。目前较主流的看法是:先单色再全色,先简后难。从各水墨供应商和已经试用水墨的企业来看,先从白墨替代开始进入水墨应用领域较为普遍。

摘要： 长期以来,石嘴山平罗河东地区生活和工业用水主要依靠当地地下水解决,水源水量不稳定,且铁、锰、氟、砷含量超标.在大旱年份来水量小、水处理设备出现故障时,无应急供水措施.平罗河东地区供水工程开工,水源取自黄河水,工程建成后可以彻底解决平罗河东地区应急抗旱人饮用水,为宁夏精细化工基地提供稳定的生产生活用水.

摘要： 氯化钾在工农业生产中发挥着重要的作用,它不仅是重要的化工原料,还是临床常用的电解质平衡调节药,临床疗效确切广泛用于医疗各界.传统的生成氯化钾设备和工艺成本较高,质量较差.那么如何生产优质的氯化钾提高高纯度的氯化钾结晶是我们面临的主要问题,文章就氯化钾的结晶设备及结晶工艺进行分析探讨,利用新工艺的技术要求来满足氯化钾产品粒度及品质要求.

摘要： 近些年,煤炭资源的开发利用直接影响着我国国民经济的发展,社会经济飞速发展,各种能源消耗与日俱增,煤炭资源的需求更是不断上涨,煤矿企业为了提高煤炭开采率,开始对煤矿掘进技术进行探索,并开始应用自动化机械设备.自动化掘进技术对于自动遥控功能的使用,充分体现了煤矿掘进技术的发展,自动遥控功能经过对实时数据的收集,对煤矿掘进开展定位,就能及时对掘进设备进行掘进纠偏、掘进维护和故障维修,从而使煤矿掘进的效率有了一定程度的提升.鉴于此,文章结合笔者多年工作经验,对煤矿煤层巷道掘进支护技术工艺的探讨提出了一些建议,仅供参考.

摘要： 前言目前钢铁企业搬离城区重新沿海布局的发展形势如火如荼,钢铁企业建设周期长,铁钢乳工序虽同步开工,但轧钢工序往往提前具备投产调试条件。由于炼铁高炉没有投产,高炉煤气双蓄热式板坯轧钢加热炉面临着燃料无资源可用问题,因此,采用其它燃料代替高炉煤气势在必行。

摘要： 石油开采工作环境是比较恶劣的,石油工人在开采石油的时候往往开采效率不够高,需要利用先进的修井技术对石油进行开采,提高石油开采的工作效率。从我们现在的石油开采的情况上来看,在具体的操作中,井筒和地面存在着很多的危险因素,在修井作业的环节中,需要运用专业的修井技术以及修井方法。如何完善修井的方法,提高修井方面的安全性,避免修井过程中出现意外的事故。本文对石油生产中井下作业相关的修井方法,以及修井工艺进行了以下的分析与探讨。

摘要： 传统精梳机虽然在理论设计上已落后于现代高效能精梳机.但只要坚持技术改造和工艺探讨，使它在机械和工艺两方面保持最佳状态，就可以使它的条干均匀度.精梳条结杂，精梳落棉含短绒率等主要技术指标达到或超过高效能精梳机。

摘要： 清梳联的输棉管道把清棉、梳棉两工序连接成一个整体系统.它的工作状况稳定与否,将直接影响生产效率和和生条质量.本厂应用清梳联6年来,对管道输送系统工艺进行了一些有益的探讨,并取得了良好的效果.本文从两个方面介绍：一、管道输送系统的气流速度和边界条件。二、输送速度的设定与分析。

摘要： 本文通过讨论304NbN不锈钢的生产工艺,从化学成分、热轧厚度和成品固溶热处理温度等三个方面提出了影响提高304NbN不锈钢中厚板力学性能的工艺因素.

摘要： 本发明提供一种半导体工艺设备中的工艺腔室及半导体工艺设备，其中，工艺腔室包括腔室本体和腔室盖，腔室盖用于密封腔室本体，腔室盖包括盖体组件和支撑组件，盖体组件与腔室本体可转动地连接，且盖本组件可相对于腔室本体升降；支撑组件与盖体组件连接，用于在盖体组件朝腔室本体转动的过程中支撑盖体组件，阻止盖体组件与腔室本体接触，使盖体组件与腔室本体之间存在间隙，且在盖体组件与腔室本体相对的两个面平行后，停止支撑盖体组件，使盖体组件与腔室本体接触。本发明提供的半导体工艺设备中的工艺腔室及半导体工艺设备，能够避免密封部件的磨损，从而提高密封部件的寿命，延长维护周期，并能够便于腔室盖的关闭。

摘要： 本发明公开了一种半导体工艺设备的工艺腔室及半导体工艺设备，其中，工艺腔室内设有可升降的基座，基座中设有多个支撑针；基座上设有多个贯穿基座上下表面的针孔，针孔的顶端设有密封凹槽，基座的下表面设有与多个针孔一一对应的挡环；支撑针的顶端设有密封头，密封头的形状与密封凹槽匹配，支撑针的底端设有定位块，定位块与挡环之间套设有处于压缩状态的弹性件，基座上升至工艺位时，密封头与密封凹槽密封配合；工艺腔室的底壁上设有定位板，定位板的上表面设有形状与定位块匹配的第一定位部，基座下降至传输位时，定位块与第一定位部定位配合，支撑针从基座上表面伸出。本发明可以减少支撑针的密封头与针孔密封凹槽处漏气，提升工艺效果。

摘要： 印刷具有临界尺寸(CD)的特征的光刻工艺中，使用整体性能表征参数(Cpk)和分析模型确定提供最佳工艺窗口的最佳工艺变量(E、F、W)设定，该模型以例如曝光剂量(E)和聚焦(F)的工艺参数的函数描述CD数据。这允许计算CD统计分布(CDd)的平均值(μCD)和方差(σCD)，并可确定最大Cpk值以及相关工艺参数的值，这些值提供优化的工艺窗口。

摘要： 本发明公开了一种多腔室工艺设备，通过预先对第一腔体及第二腔体施予工艺气体及射频，分别找出第一初始射频供应时间曲线与气源供应时间曲线间的第一时间差及第二初始射频供应时间曲线与气源供应时间曲线间的第二时间差，再通过第一时间差与第二时间差反馈校正，进而使本发明多腔室工艺设备的第一射频产生单元、第二射频产生单元与气源单元均会同步关闭。因此，本发明多腔室工艺设备的第一腔室所沉积的第一基材与第二腔室所沉积的第二基材品质较为均匀。

摘要： 本发明提供异丙醇脱水反应的方法，及包括此方法的异丙醇脱水制丙烯的工艺方法、丙酮制丙烯的工艺方法和工艺系统，是向异丙醇脱水反应过程中加入反应促进剂，所述反应促进剂为醇与水的混合物。其中所述醇与水的混合物优选为异丙醇脱水产物吸收分离过程中的吸收剂吸收反应后的共沸物，一方面能够对异丙醇反应流出物进行冷凝冷却的同时，还能够有效吸收粗丙烯中的水溶性物质，且能够将精馏共沸物循环利用，在此过程中既没有额外引入其它物质，也没有外排有机物杂质，还对于反应过程和产品纯度起到了促进和改善作用。

摘要： 本发明提供一种应用于半导体工艺设备的工艺腔室，包括传输腔和位于传输腔上方的多个反应腔，多个反应腔均通过底部开口与传输腔连通，工艺腔室中的多个基座可在反应腔与传输腔之间升降，还包括设置在传输腔底壁上的传输机构和承载机构，传输机构用于将晶圆由工艺腔室外部转移至承载机构或多个基座上，以及将多个基座上的晶圆传出工艺腔室，承载机构用于承载多片晶圆，并在传输机构取走多个基座上的晶圆后，将其所承载的多片晶圆转移至多个基座上。在本发明中，传输机构能够先将下一批晶圆传输至承载机构上，承载机构在半导体工艺结束后将其承载的晶圆转移至基座上，节约了晶圆传输时间。本发明还提供一种半导体工艺设备和半导体工艺方法。

摘要： 本发明提供一种能够搜索最佳的培养条件的细胞培养工艺搜索方法、细胞培养工艺搜索程序及细胞培养工艺搜索装置。本发明的细胞培养工艺搜索方法具有：工艺条件产生工序，产生培养细胞的多个工艺条件；培养结果预测工序，对于工艺条件产生工序中所产生的所述多个工艺条件中的每一个，获取细胞的培养预测结果；及最佳化工艺条件获取工序，从在培养结果预测工序中所获得的培养预测结果，发现最佳的工艺条件。并且，本发明为执行的细胞培养工艺搜索程序及细胞培养工艺搜索装置。工艺条件包含多个培养基组成及多个培养条件中的至少任一个。

摘要： 本发明公开了一种工艺腔室、半导体工艺设备及工艺方法，该工艺腔室包括：腔体，沿腔体的内壁周向环绕设置有环形的内衬组件，内衬组件的内环侧设有沉积阻挡环，腔体的底部设有用于承载待加工基片且可升降的基座；内衬组件上沿内衬组件的周向设有多个贯穿内衬组件侧壁的第一开孔；沉积阻挡环上沿沉积阻挡环的周向设有多个贯穿沉积阻挡环侧壁的第二开孔；腔体的内侧壁上沿腔体的周向设有与多个第一开孔相对的加热灯组件；当基座带动沉积阻挡环上升至第一工艺位时，第二开孔与第一开孔相互错开；当基座带动沉积阻挡环上升至第二工艺位时，第二开孔与第一开孔至少部分重叠，且第二工艺位高于第一工艺位。本发明能够消除回流工艺中的滑片与碎片风险。

摘要： 本申请公开一种半导体工艺腔室的进气装置、半导体工艺设备及半导体加工工艺，属于半导体技术领域。进气装置包括用于通入工艺气体的第一进气管、用于通入保护气体的第二进气管、混气组件和导流件，混气组件设有第一混气腔和第二混气腔，第一混气腔的腔壁设有第一进气孔和第一射流孔，第一进气管通过第一进气孔与第一混气腔连通，第二混气腔的腔壁设有第二进气孔和第二射流孔，第二进气管通过第二进气孔与第二混气腔连通；导流件设于混气组件背向第一进气管和第二进气管的一侧，导流件内设有第一导流腔和第二导流腔，第一导流腔和第二导流腔均沿导流件的延伸方向延伸，且二者相邻设置，第一导流腔与第一射流孔连通，第二导流腔与第二射流孔连通。

摘要： 本发明公开了一种半导体工艺设备工艺腔室中的卡盘组件及半导体工艺设备，其中卡盘组件包括：卡盘，卡盘用于承载晶圆；盖板，盖板设置于卡盘的外周，卡盘承载有晶圆时，盖板的上表面不高于晶圆的上表面，并且盖板的上表面具有多个凹陷；多个可翻转部件，分别设置于多个凹陷中；可翻转部件可在凹陷中翻转，可翻转部件处于非翻起状态时，可翻转部件的上表面不高于晶圆的上表面；可翻转部件处于翻起状态时，可翻转部件的顶面高于晶圆的上表面，以限制晶圆的移动；驱动机构，驱动机构用于驱动可翻转部件翻转。本发明能够减小边缘刻蚀倾斜效应，解决了晶圆边缘对称性差的问题，提高了产品良率。