导模

摘要： 利用代数和组合的相关理论对超平面配置理论的自由性进行了相关研究,给出圈图所对应的图配置的生成元和导模的具体形式,并以图论的形式对圈图配置的导模及其自由解做出相关的组合解释.

摘要： Sub-wavelength grating is a critical element in micro and nano-photonics. So its fabrication and application have attracted a great deal of research attention. While the existing lithography technologies of sub-wavelength grating fabrication have some insufficient points, such as high cost, low output, technical complexity, or difficult to change the period of the sub-wavelength grating. In this paper, an adjustable period and large area sub-wavelength grating with low cost and maskless is proposed and theoretically realized. The sub-wavelength grating is inscribed by the interference between two TE0 waveguide modes, where the TE0 waveguide mode is existent in an asymmetric metal-cladding dielectric waveguide structure excited by the prism coupling method. The dispersion curve of TE0 waveguide mode, the relationship between the period of the sub-wavelength grating and the exciting light source, the refractive index of the prism and the photoresist, especially the thickness of the photoresist are theoretically analyzed in detail. The distribution of the interference optical field of TE0 waveguide mode in the multilayer structure including metal film, photoresist and air layer is numerically simulated using the finite element method. The shorter the exciting light wavelength with the identical photoresist condition, the smaller the period of sub-wavelength grating inscribed by TE0 waveguide modes interference lithography is. For further studying the influences of refractive index and thickness of photoresist and the refractive index of the prism on the period of sub-wavelength grating, the exciting light with 442 nm wavelength and the Ag matel film are used. The period of sub-wavelength grating is smaller with thicker photoresist film, when the refractive indexes of photoresist and prism are the same. The larger refractive index of photoresist is beneficial to inscribing the sub-wavelength grating with smaller period when the refractive index of prism and the thickness of photoresist are identical. The prism with higher refractive index can provide wave vector-matching condition with lager propagation constant, and can inscribe sub-wavelength grating with smaller period. Compared with surface plasmons interference lithography which needs the thicker photoresist film due to the finite penetration depth of SPs, TE0 waveguide modes interference can realize adjustable period sub-wavelength grating writing for thicker photoresist condition by changing exciting light source, the refractive index of prism, the refractive index of photoresist and especially the thickness of photoresist. The realization of adjustable period sub-wavelength grating inscribed by TE0 waveguide modes interference lithography will provide important theoretical support for reducing the fabrication cost of sub-wavelength gratings and broadening the application scope of sub-wavelength grating.

摘要： 本文构建了一种包含石墨烯和亚波长光栅的复合结构，借助衍射光栅的导模共振效应，在石墨烯表面激发高局域性表面等离子体激元，研究了石墨烯与光栅结构对表面等离子体激元局域特性的影响规律，并借助基于有限元法的COMSOL软件，分析了缓冲层厚度、光栅周期、载流子迁移率和费米能级对石墨烯的表面电场、品质因子Q和有效模式面积Seff的影响.结果表明，石墨烯表面等离子体激元的局域性在特定的参数点获得显著提高：当µ=0.7 m2/(V·s)时，品质因子达到最大值Qmax=1793；当p=235 nm或EF=0.72 eV时，表面电场达到了入射光的3000倍以上.强烈的局域性导致强烈的光-物质相互作用，因而本文提出的复合结构可实现高灵敏度传感器和高效率的非线性光学设备，极大地扩展了石墨烯在纳米光学领域中的应用.%Graphene is a one-atom-thick planar sheet of sp2-bonded carbon atoms that are densely packed in a honeycomb crystal lattice. Graphene has been found to support plasmons in a wide range from infrared to terahertz. The confinement of plasmons in graphene is stronger than that on metallic surface. Moreover, the plasmon properties can be dynamically adjusted by doping or grating graphene. In this study, a composite structure comprised of graphene and subwavelength grating is proposed. Highly confined plasmons in graphene are excited by using a diffraction grating with guided mode resonance effect. The wave vector of plasmonic wave in graphene is far larger than that of light in vacuum. To excite plasmons in graphene with a freespace optical wave, their large difference in wave vector must be overcome. Optical gratings are widely used to compensate for wave vector mismatches. A diffraction wave generated by the grating structure can overcome the large wave vector difference and excite surface plasmons. The guided-mode resonance can greatly enhance the intensity of the diffraction field and the coupling effciency between graphene and incident light. When the phase matching between illuminating wave and a guide mode supported by grating is achieved, guided-mode resonance effect occurs. A nearly 100%diffraction effciency peak in the reflection or transmission spectrum occurs at a certain wavelength. In this study, the influences of graphene and grating structure on the local characteristics (the surface electric field Ex/Ein, quality factor Q, and effective mode area Seff) of surface plasmons are investigated. The effects of the structural parameters (the thickness of the buffer layer T2, the grating period p, the carrier mobility µ, and the Fermi level EF) on localization properties are analyzed by the finite element method (COMSOL). The results reveal that the localizations of the surface plasmons in the graphene surface is significantly improved at the certain parameters. 1) The increase of T2 will reduce the intensity of electric field on graphene (Ex/Ein), but the quality factor will obtain a certain increase. The excition of highly confined SPPs needs to improve Q and keep the intensity of Ex/Ein , so in this study T2=10 nm. 2) By adjusting µ the quality factor of SPPs can be improved significantly without changing the resonance frequency (µ=0.7 m2(V·s), Qmax =1793). 3) Small changes in p and EF will make the resonance peak shift obviously, and the electric field on graphene is greatly enhanced (p=235 nm, Ex/Ein=3154;EF=0.72 eV, and Ex/Ein=3968). Strong localization leads to strong light-matter interaction, and thus the proposed structure has the potential to be used as sensors with high sensitivity and high-effciency nonlinear optical devices, greatly expanding the application of graphene in nano optics.

摘要： 中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室王征飞教授与美国犹他大学刘锋教授，清华大学薛其坤院士、马旭村研究员，中科院物理所周兴江研究员合作，首次发现了铁基高温超导材料中的一种新型一维拓扑边界态，该成果在线发表于《自然—材料》。

摘要： 我园的“十二五”课题“多维整合观下的幼儿早期阅读指导模式的研究”顺利结题。作为课题的参与者，我们对前期预设阅读指导模式进行了完善和调整，形成了操作性更强的阅读指导模式五部曲，即封面阅读、教师导读、自主阅读、整体阅读、创意阅读。这“五读”也成为便于教师操作的一套基本阅读指导流程。图画书的封面是最能表现故事主题和创作风格的画面，封面往往蕴含着多元的信息，富有阅读价值，是我们预测图画书内容的最重要来源。所以引导幼儿观察封面，捕捉有价值的信息是阅读的第一步。图画书的封面主要由书名、主要人物、其他元素三个要素组成。

摘要： 创意晨间锻炼是以体育运动游戏为载体来培养幼儿的规则意识的，并不完全适用于幼儿的一日生活，但是，我们可以对这一活动的过程和结果进行归纳总结，把握制订规则过程中需要注意的地方，以帮助我们更好地培养幼儿的规则意识。规则制订出来是让幼儿遵守，以确保游戏和学习正常进行的。教师切不可“想当然”，需要从幼儿身心发展水平出发，从幼儿的角度制订初步的规则。

摘要： 依据环境变化，引领企业在利用与探索间灵活转换，成为当代企业领导者需要应对的挑战。双元领导模式为实现组织双元性提供了一个有效途径。任正非与孙亚芳、张瑞敏与杨绵绵等大家耳熟能详的领导组合值得管理者借鉴。

摘要： 通过棱镜耦合激发非对称金属包覆介质波导结构中的TE_0导波模式,利用两束TE_0模的干涉从理论上实现了周期可调的亚波长光栅刻写.分析了TE_0模式的色散关系,刻写亚波长光栅的周期与激发光源、棱镜折射率、光刻胶薄膜厚度及折射率之间的关系.用有限元方法数值模拟了金属薄膜、光刻胶薄膜和空气多层结构中TE_0导模的干涉场分布.研究发现,激发光源波长越短,TE_0模干涉刻写的亚波长光栅周期越小;光刻胶越厚,刻写的亚波长光栅周期越小;高折射率光刻胶有利于更小周期亚波长光栅的刻写.相较于表面等离子体干涉光刻,基于TE_0模的干涉可在厚光刻胶条件下通过改变激发光源、棱镜折射率、光刻胶材料折射率、特别是光刻胶薄膜的厚度等多种方式实现对亚波长光栅周期的有效调控.

摘要： 中国科学院院士、中国科学技术大学教授郭光灿领导的中科院量子信息重点实验室首次研制成功硅基导膜量子集成芯片。该实验室任希锋研究组近日在量子集成光学芯片研究中取得新进展,他们和浙江大学现代光学仪器国家重点实验室教授戴道锌合作。

摘要： [目的]通过求解矩形波导模式特征方程,计算矩形波导横向场分布,研究电磁波在单负材料矩形波导中的传播特性以及该波导参数对其导模Exmn的影响规律.[方法]基于电磁场的波动理论和马卡梯里假设,利用图解法对波导有效折射率及横向电场分布进行求解,并分析波导模式的频率色散关系.[结果]该矩形波导的传播模式Ex0n和Exln为x方向衰减的表面模,仅当m＞1时,波导的传播模式才是振荡导模;固定波导芯子层厚度不变,当导波频率增大时,高阶模向高频方向移动的速度比低阶的快;保持m＞1,当m或n增大时,Exmn模式的截止点均向波导孔径增大的方向移动,且相邻模式的截止间距相等.[结论]单负材料包层的矩形波导既支持存在低阶表面模的条件,也支持存在高阶振荡导模的条件,波导孔径大小对导波模有很好的调制效果,可实现宽孔径多模传输和小孔径单模传输的功能.

摘要： 本发明公开了一种咬合桩导墙模板、咬合桩导墙支模结构和施工工艺，该导墙模板包括：若干依次拼接的咬合桩模块，其中，所述咬合桩模块的直径与咬合桩的直径相同。该施工工艺包括：根据设计需求在施工现场依次安装咬合桩模块，并使用钢筋将各咬合桩模块固定；在咬合桩模块两侧进行咬合桩导墙施工；待咬合桩导墙的强度达到设计强度后，拆除所述咬合桩模块；进行咬合桩施工。本发明不仅施工简单方便，而且能有效缩短施工工期，降低施工成本，具有良好的实用性、安全性。

摘要： 本实用新型公开一种连续模自动导料修正器及自动导料修正连续模，其中连续模自动导料修正器，包括定位棒、固定镶块、下模镶块、顶起弹块和安装块，所述固定镶块的侧面开设有用于嵌设所述定位棒的长条形安装腔，所述定位棒嵌设入所述安装腔内，所述下模镶块的一端与定位棒连接，所述下模镶块的另一端与所述顶起弹块连接，所述顶起弹块设置在所述安装块上，所述顶起弹块通过所述下模镶块使得所述定位棒在所述安装腔内上下滑动。本实用新型还提出一种自动导料修正连续模，包括下模座、凹模板、料带输送道和上述连续模自动导料修正器。本实用新型能对模具冲压过程的料带进行误差校正，避免误差累积，提高产品的质量，减少由于送料不齐而增加的生产调试时间，保证产品合格率的稳定性。

摘要： 本实用新型公开了一种咬合桩导墙模板和咬合桩导墙支模结构，包括对称设置的模板结构，所述模板结构包括模板一以及固定连接于模板一的模板二，所述模板一和模板二的外缘面上均固定安装有支撑组件，所述支撑组件包括固定连接于模板一和模板二外缘面顶部的铰接座一，所述支撑组件还包括固定连接于模板一和模板二外缘面底部的矩形板，所述矩形板内居中开设有矩形通槽，且矩形板的一端居中固定安装有旋钮，所述旋钮的一侧固定连接有可旋转安装于矩形通槽内的螺纹丝轴，所述螺纹丝轴的外缘面上螺纹配合安装有铰接座二，该咬合桩导墙模板和咬合桩导墙支模结构，结构合理，便于在混凝土浇筑时提升模板的支撑稳定性，实用性强。

摘要： 本实用新型公开了一种咬合桩导墙模板和咬合桩导墙支模结构，该导墙模板包括：若干依次拼接的咬合桩模块，其中，所述咬合桩模块的直径与咬合桩的直径相同。该支模结构包括：咬合桩导墙模板，设置在所述咬合桩导墙模板两侧的咬合桩导墙和设置在所述咬合桩导墙边缘的木板。本实用新型采用泡沫塑料板形成定型化的咬合桩导墙模板，可以实现工厂批量化生产加工，质量轻，运输方便，现场搬运便捷。不仅施工简单方便，而且能有效缩短施工工期，降低施工成本，具有良好的实用性、安全性。

摘要： EFG生长空心晶体的新颖毛细导模及晶体生长方法。内、外环形迁围绕导模尖部。熔体从坩埚通过通道输送到沟，空心晶体生长过程中，沟中熔体湿润并覆盖内部、外部外侧表面。新颖导模结构有较低的导模尖部和较短毛细槽。可保持围绕导模尖部周边的温度基本均匀，提高导模尖部上生长的管形晶体壁厚的均匀度。该沟可减少因导模被淹没而发生中断或影响晶体生长过程。发生生长弯月面断裂时，该沟截获液态硅，防止或减少发生淹没导模及相关生长设备的现象。

摘要： 一种用于导模法生长蓝宝石晶棒的导模板，本发明通过在圆管状结构的模套（1）内设置多片组合的模芯（2），在组合模芯的上端设置锥形面，在每两个模芯的接触面分别设置主供料缝（4）与辅助供料缝（3），每个模芯上设置的主供料缝或辅助供料缝经过机械加工后采用机械抛光，降低其粗糙度，保持结晶面处于稳定状态，不利于气泡形成来提升晶体质量等，本发明采用多片模芯组合，增加了多条供料缝，利于气泡排除，增加供料缝，利于提高拉速，提升拉制效率等。

摘要： 本实用新型提供了一种用于导模法生长氧化镓单晶的导模板，属于氧化稼单晶生长技术领域。本实用新型的导模板包括第一侧板和第二侧板，每个侧板的上端面到该侧板内平面之间通过弧面光滑过渡连接；两个侧板的两个弧面镜面对称形成钝角开口的V型弧面槽。本实用新型还优选设置导模板的出料口到导模板上口的垂直距离与单个侧板的厚度之比在0.3～0.9范围内。本实用新型的设计改善了导模板局部温度，有利于熔体通过自身表面张力向上爬升并在模具口形成较为理想的固‑液界面；同时有利于晶体拉制，改善单晶的表面粗糙度，降低了后期加工难度，节约了成本。

摘要： 本实用新型提供了一种导模法生长氧化镓单晶的半封闭式导模板，属于氧化稼单晶生长技术领域。本实用新型的半封闭式导模板，在导模板主体的出料端设有向下凹陷的顶端V型槽，在导模板主体的左右两端分别设有侧面V型槽；顶端V型槽和侧面V型槽均为钝角开口。同时，在导模板主体的左右两端分别用一块密封板将第一侧板和第二侧板铆接，并将主供料缝左右两侧密封。本实用新型增加了导模板边缘在单位时间内的供料量，提高了供料速度，并可有效抑制氧化镓的挥发现象，提高了晶体生长拉速和质量，降低了成本，便于工业大尺寸大批量生产。

摘要： 一种用于导模法生长蓝宝石晶片的导模板，本实用新型通过在导模板主体的出料端设有向下凹陷的V形槽（3），在所述V形槽两端部的导模板主体上分别设有贯通至导模板主体下端面的辅助供料缝（2），加大了供料速度，提升了拉制速度，提高了生产效率，同时解决了随温度增高晶片宽度变窄的问题，利于晶体拉制时的操作，增大了控制调整范围等，适合大范围的推广和应用。

摘要： 一种采用导模法生长蓝宝石晶体的导模板，本实用新型在导模板主体的出料端设有向下凹陷的V形槽（3），在导模板主体的两侧面分别设有向内凹陷的凹陷面（2）使导模板主体形成中部薄两端厚的结构，本实用新型改善了具备热场环境，降低了具备温度，使两侧与中间位置处于同一条等温线上，较之前提升拉制速度，提高生产效率，同时改变了导模板局部温度，利于晶体结晶，解决了晶体缩角的问题，保证晶体的完整性，同时还增加了导模板两端头的局部宽度，解决了随温度增高晶体宽度变窄的问题，利于晶体拉制时的操作，增大了控制调整范围等，适合大范围的推广和应用。