图形结构

摘要： 在观赏由不同色彩构成的多样性图形时,鉴赏者会获得差异性较大的视觉效果和独特的审美体验,而且审美标准差异较大的鉴赏者对色彩和图形的解读方式会有一定的差异。因此,在开展高质量的UI视觉设计时,设计者需要根据实际情况有计划地拓展色彩和图形的应用方式,让用户更加明确地理解UI图像中要表达的信息,进而强化UI视觉设计对用户的吸引力。

摘要： 通过对土族传统刺绣图案——太阳花(俗称)的田野研究来进行解读其在土族人民日常生活中的民俗意象,以及在人们日常生产生活中“太阳花”图案扮演着怎样的角色。

摘要： 1引言正、余弦定理揭示了三角形中边、角的量化关系.解三角形是高考必考的知识点,总体难度适中.本文试图从定理本身的结构特征和几何图形的结构、条件和问题整合考虑,阐述如何“快”且“准”地高效运用正、余弦定理.教学结构主义的代表人物布鲁纳强调:就是学习事物是如何关联的,便于学生记忆和正迁移,能使学生提高直觉处理问题的能力.联合考虑问题和条件中的元素,辨别是哪个定理对应的元素,快速识别用单一定理还是“联合行动”抑或“多次行动”.

摘要： 作为一种表达知识的有效方式.概念图是指用词语和连线的方式贯穿概念及内容后所形成的一种图形结构。学生可以通过“概念图”观察到所学知识的框架结构,这种图既简单又具科学性。概念图的应用可以有效促进学生深度理解复杂的生物知识内容,有效提高学生的生物核心素养。

摘要： 几何专题复习课不仅要注重知识前后的整体性、连贯性和系统性,还应通过比较、分析、抽象归纳出图形的内部结构特征.文章以借助中点构造全等三角形专题复习课为例,从图形的内部结构特征进行深度思考,系统复习三角形全等判定的4种方法,培养学生提出问题、分析问题和解决问题的学习力.

摘要： 通过对一道“倍半角”问题的再思考,从图形结构特征分析,触发广泛联想,衍生相应的解题策略,突出通性通法,利用特殊化与一般化的研究路径,发挥教学机智,放眼长线发展,锤炼思维品质.

摘要： 2020年的广东省中考已落下帷幕,各市的评卷工作也已完成.笔者参与了广东省中考数学第22题(圆的综合题)的评卷工作,目睹了同学们五花八门的解答.经过评卷后的统计,本题平均分仅为2.8分(满分8分),平均得分率为0.35,可见同学们的回答并不理想.这道题可以怎样解?这道题相关的图形结构还有哪些可以总结的性质?其他省市的数学中考对这些性质是否有过考查?我们在教学中该怎么做?这引起了我的很多思考,现整理出来,供大家参考.

摘要： 文章通过呈现一道期末压轴试题的3次命制,提出巧妙设计图形结构,考查几何直观素养的试题命制方法.

摘要： 数学核心素养包括:数学抽象,逻辑推理,数学建模,运算能力,直观想象,数据分析.六个核心与初中平面几何的图形研究形状,位置,大小三要素的有机结合,可以提炼出以"图形结构(数学抽象,数学建模,直观想象和图形的形状,位置的融合)—数学运算(逻辑推理,运算能力与几何图形大小的融合)"为思维模式的问题解决方法.在解答问题的过程中,要不断提炼出不同问题中的图形结构,根据平面图形结构建立数学运算并形成相应的解题策略.同时把总结的解题策略应用在相同图形结构的问题中.

摘要： 几何之美,以构架打造美感。美好的形状,让数学家痴狂,令设计师钟爱。菜肴也是如此,美食艺术从不止于味请之间,菜肴出品的艺术风永远是餐饮美学的风向标。主厨们把餐盘当做画板,精雕细琢地创作着艺术料理。利用简约的图形结构,搭建“盘中美馔”,以建筑师般的洞察力和空间想象力,塑造更为多样的造型,让摆盘设计成为一种实用的艺术创作。

摘要： 近景摄影测量不考虑研究目标的绝对位置,多采用解析法进行摄影测量的处理,此时可采用交向摄影.而且摄站的选取比较自由,可以把所摄目标的中心置于B’/2的中线和XY平面上,以提高精度.当左右光轴对准物体中心点摄影时,以(ψ)=45°的图形结构最佳.

摘要： 本文在探讨分形、分维概念和分形的基本理论基础上，通过使用IFS代码和Julia集分形，获得许多美丽的自然景物的分形图。由分形生成的自然景物分形图，以其奇异多端的图形结构、变化无穷的图形演变，给人以无限的遐想和创作的激情，它已在工业设计和艺术设计领域中获得了广泛的应用。

摘要： 本发明提供一种完成金属间介质(“ILD”)的平面化的方法，该方法利用了氢硅一倍半氧化物烷(hydrogen silsesquioxysilane)(“HSQ”)旋涂玻璃和保形等离子增强四乙氧基硅烷(“PETEOS”)用于例如通孔和具有溅射金属的互连的亚微米缝隙。本发明特别适于用在亚微米CMOS和Bi CMOS工艺，例如有关制造数字信号处理器、存储器、逻辑电路、实用型专用电路的工艺，和其它用最小双层金属化的工艺。

摘要： 本发明提供一种蓝宝石图形衬底掩膜版的图形结构和曝光方法，掩膜版上包括透光区和若干处不透光区，图形结构由若干个相同的多边形拼接而成，多边形具有至少2个扇形不透光区域及一个透光区域，拼接方式为将多个多边形的扇形不透光区域拼接，形成圆形不透光区，掩膜版的边界上未形成完整的多边形的区域皆为不透光区。本发明中透光区域由上述多边形拼接形成，其余皆为不透光区域，这样拼接保证靠近该侧边的圆形不透光区域不会受到光照的干扰，在曝光另一个相同的掩膜版时，只需与第一个掩膜版侧边相拼接，将侧边处的图案曝光出来，从而这种掩膜版图形结构和曝光方法解决了不透光图形区域与掩膜版边界距离过小而导致曝光不清晰的问题。

摘要： 本申请涉及一种微结构图形转印方法，包括：提供一基板组件，基板组件包括施主基板及可剥离地设置在施主基板一侧表面的组合体，组合体包括依次层叠的微图形结构、第一牺牲层、第二牺牲层，微图形结构位于组合体的朝向施主基板的一侧；将组合体从施主基板上剥离；将组合体的具有微图形结构的一侧贴附在受主基板的表面；除去第一牺牲层与第二牺牲层，使微图形结构转印到受主基板的表面。本申请的转印方法通过第一牺牲层与第二牺牲层的设计，既保护了微图形结构，降低了转印过程中的应力失配，减少剥离次数，可以实现对多种基底间、不同微图形结构高质量、低损失的转印，通用性好。

摘要： 本发明提供了一种光刻缺陷热点图形的识别方法，包括：确定版图的待识别层，即目标图形所在层；预设宽度范围，识别初始边；预设第一间距范围和第二间距范围；识别第一间隔区、第二间隔区；识别第一边、第二边；将所述初始多边形中，满足一侧轮廓边为第一边并且另一侧轮廓边为第二边的多边形区域识别为目标图形，即光刻缺陷热点图形。能快捷准确的识别出光刻缺陷图形，利于改进生产工艺，步骤简洁。本发明还提供一种光刻缺陷热点图形结构，通过本发明的光刻缺陷热点图形的识别方法得到，能快速辨别图形是否有引起光刻缺陷风险。

摘要： 本发明提供了识别光刻缺陷热点图形的方法，包括：确定版图的待识别层；预设宽度范围，识别初始边；预设RightSpace范围和LeftSpace范围，识别Edge_out；将所述plg_out中，满足一侧边为Fit_width_e_LSW且另一侧边为Fit_width_e_RSW的多边形区域识别为plg_out_plus，即目标图形。本发明的方法能快捷准确的识别出光刻缺陷图形，利于改进生产工艺，步骤简洁。本发明还提供了一种光刻缺陷热点图形结构，能快速辨别图形是否有引起光刻缺陷风险。

摘要： 本发明公开了一种具有不同图形密度端的图形结构的OPC修正方法，包括：步骤一、找出版图上具有不同图形密度端的图形结构，图形结构具有第一密集端和孤立端。步骤二、对图形结构的图形进行改变使图形结构的孤立端改变为第二密集端。步骤三、添加切割层图形，切割层图形用于将第二密集端中位于孤立端之外的添加图形切除。步骤四、分别对完成步骤二的图形结构和对切割层图形进行OPC修正。本发明能降低具有不同图形密度端的图形结构的图形尺寸控制难度并从而提高各图形尺寸的一致性。

摘要： 本发明提供一种量子点图形结构、量子点的图形化方法和显示装置，量子点图形结构包括：基板，基板的表面具有金属离子；化合物层，设置于基板上，化合物层中包括络合剂和组氨酸，络合剂和组氨酸分别与金属离子螯合；量子点图形，设置于化合物层远离基板的一侧，量子点图形中的量子点与组氨酸连接，基板上具有多个亚像素区域，每个亚像素区域内分别设有量子点图形。在本发明的量子点图形结构中，通过化合物层中的组氨酸吸附量子点，使量子点不易脱落，减少量子点表面的缺陷，提高化合物层与量子点之间连接的稳定性，提高量子点的荧光性能，提高器件效率，在量子点图形的形成过程中，避免由于光刻工艺导致的量子点膜层或量子点的表面配体损坏。

摘要： 本发明公开了一种太阳能电池正面图形分步印刷工艺，包括以下步骤：S1、印刷主栅：将主栅线印刷在太阳能电池正面，在主栅线两侧印刷有主栅渐变；S2、印刷副栅：将副栅线的副栅尾端、副栅渐变以及副栅尖端均印刷在太阳能电池正面，且副栅尖端与主栅渐变固定连接。本发明还公开了一种太阳能电池正面图形分步印刷工艺图形结构，所述主栅线两侧依次固定连接有主栅渐变，副栅尖端与主栅渐变重叠连接，且副栅尖端与主栅线之间留有间距。本发明可以提高太阳电池组件端焊带的焊接性能，而且副栅设计一定距离的渐变，提高副栅印刷性能的同时，增强电流的传输，减少副栅与主栅搭接处的电阻，提升电池片转化效率，保证电池片的可靠性。

摘要： 本发明提供一种蓝宝石图形衬底掩膜版的图形结构和曝光方法，掩膜版上包括透光区和若干处不透光区，图形结构由若干个相同的多边形拼接而成，多边形具有至少2个扇形不透光区域及一个透光区域，拼接方式为将多个多边形的扇形不透光区域拼接，形成圆形不透光区，掩膜版的边界上未形成完整的多边形的区域皆为不透光区。本发明中透光区域由上述多边形拼接形成，其余皆为不透光区域，这样拼接保证靠近该侧边的圆形不透光区域不会受到光照的干扰，在曝光另一个相同的掩膜版时，只需与第一个掩膜版侧边相拼接，将侧边处的图案曝光出来，从而这种掩膜版图形结构和曝光方法解决了不透光图形区域与掩膜版边界距离过小而导致曝光不清晰的问题。

摘要： 本实用新型涉及半导体技术领域，且公开了一种纳米图形衬底图形结构，包括蓝宝石基板和框体，所述蓝宝石基板的底部固定连接有垫板，所述垫板的底部设置有硅胶垫，所述框体的内侧壁固定连接有固定板，所述固定板的内部开设有上下贯穿的空槽，所述固定板的顶部固定连接有限位柱，所述限位柱的内部开设有上下贯穿的通孔。该纳米图形衬底图形结构，通过框体、垫板、硅胶垫、固定板、空槽、限位柱、通孔、散热孔、连接孔、限位孔和散热翅条之间的相互配合，从而可以将蓝宝石基板产生的热量传递到硅胶垫上，并通过硅胶垫底部的散热翅条对其进行散热，且还可以通过限位柱、通孔和散热孔之间的相互配合，将热量从散热孔处进行散热。