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METHOD FOR BONDING SUBSTRATES USING AREA-SELCTIVE DEPOSITION

机译:使用面积选择性沉积粘合基材的方法

摘要

The present invention relates to a bonding method between substrates such as semiconductors using a selective deposition method, and more particularly, to a bonding method between substrates that minimizes the occurrence of mechanical and electrical defects between bonding surfaces even at low temperatures by using the selective deposition method. .
机译:本发明涉及使用选择性沉积方法的诸如半导体之类的基板之间的粘合方法,更具体地,介于使用选择性沉积的低温下最小化粘合表面之间的机械和电缺陷的发生的粘合方法方法。 。

著录项

  • 公开/公告号KR102263508B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020190084617

  • 发明设计人 김우희;유봉영;박태주;김대현;

    申请日2019-07-12

  • 分类号H01L21/18;H01L21/02;H01L21/28;H01L21/285;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 19:16:55

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