机译:化合物,树脂,形成光刻下层膜的方法,用于形成光刻的下层膜的组合物,用于光刻的下层膜和抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和净化方法
公开/公告号JP6880537B2
专利类型
公开/公告日2021-06-02
原文格式PDF
申请/专利权人 三菱瓦斯化学株式会社;
申请/专利号JP20170529881
申请日2016-07-15
分类号C07D233/64;C07D405/04;C08G12/28;G03F7/26;G03F7/11;H01L21/027;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 19:11:23