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Resin composition for Photoforming

机译:用于光成像的树脂组合物

摘要

Problem to be solved: to provide a Photoforming resin composition having excellent odor and water resistance, which is low in odor, is easy to be formed, and is excellent in water resistance.(meta) polycyclic aromatic hydrocarbon compound (a) directly bonded to (meta) acylyloxy group and polycyclic aromatic hydrocarbon α,β- A photo forming resin composition containing an unsaturated double bond base compound (b) and a photopolymerization initiator (c).No selection
机译:要解决的问题:提供具有优异气味和耐水性的光成像树脂组合物,其气味低,易于形成,并且具有优异的耐水性。(Meta)多环芳烃化合物(A)直接键合(Meta)苯基氧基和多环芳族烃α,β-含有不饱和双键基化合物(B)和光聚合引发剂(C)的光形成树脂组合物。没有选择

著录项

  • 公开/公告号JP2021088150A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 クラレノリタケデンタル株式会社;

    申请/专利号JP20190220658

  • 发明设计人 伊東 美咲;鈴木 憲司;

    申请日2019-12-05

  • 分类号B29C64/264;B33Y70;B29C64/106;C08F290/06;C08F220/18;A61C7/08;A61C13/01;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 19:09:32

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