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SiC SUBSTRATE AND SiC SINGLE CRYSTAL MANUFACTURING METHOD

机译:SiC基板和SiC单晶制造方法

摘要

A SiC substrate contains tantalum or niobium of which the content is equal to or more than 3×1014 cm−3 and equal to or less than 1×1015 cm−3, and nitrogen of which the content is equal to or more than 1×1016 cm −3 and equal to or less than 1×1020 cm−3.
机译:SiC衬底含有钽或铌,其中含量等于或大于3×10 14 cm -3 等于或小于1×10 15 cm -3 ,其含量等于或大于1×10 16 cm -3和-3等于或小于1×10 20 cm -3

著录项

  • 公开/公告号US2021172085A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHOWA DENKO K.K.;

    申请/专利号US202017113220

  • 发明设计人 AKIHIRO MATSUSE;

    申请日2020-12-07

  • 分类号C30B29/36;C30B23/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 19:08:00

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