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MASK FOR INCREASING DEPTH OF FOCUS

机译:掩盖越来越深深的焦点

摘要

A mask configured to be implanted in a cornea of a patient to increase the depth of focus of the patient includes an anterior surface, a posterior surface, and a plurality of holes. The anterior surface is configured to reside adjacent a first corneal layer. The posterior surface is configured to reside adjacent a second corneal layer. The plurality of holes extends at least partially between the anterior surface and the posterior surface. The holes of the plurality of holes are configured to substantially eliminate visible diffraction patterns.
机译:构造成植入患者的角膜以增加患者的焦点的掩模,包括前表面,后表面和多个孔。前表面配置成邻近第一角膜层。后表面被配置为邻近第二角膜层。多个孔至少部分地延伸在前表面和后表面之间。多个孔的孔配置成基本上消除可见的衍射图案。

著录项

  • 公开/公告号US2021154002A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ACUFOCUS INC.;

    申请/专利号US202016950712

  • 申请日2020-11-17

  • 分类号A61F2/14;G02C7/04;G02C7/16;A61F2/16;A61B3/15;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 18:56:09

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