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LDMOS transistor with gate structure having alternating regions of wider and narrower spacing to a body region

机译:具有栅极结构的LDMOS晶体管,具有更宽的交替区域和较窄间隔的区域区域

摘要

A power transistor is provided with at least one transistor finger that lies within a semiconductor material. The gate oxide is segmented into a set of segments with thick field oxide between each segment in order to reduce gate capacitance and thereby improve a resistance times gate charge figure of merit.
机译:功率晶体管设置有至少一个位于半导体材料内的晶体管手指。栅极氧化物被分段为一组段,在每个段之间具有厚的场氧化物,以便减少栅极电容,从而改善电阻时间栅极电荷值的优点。

著录项

  • 公开/公告号US11004971B2

    专利类型

  • 公开/公告日2021-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED;

    申请/专利号US201916264848

  • 发明设计人 SAMEER PENDHARKAR;MING-YEH CHUANG;

    申请日2019-02-01

  • 分类号H01L29/78;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/40;H01L29/66;H01L29/10;H01L29/08;

  • 国家 US

  • 入库时间 2024-06-14 21:31:42

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