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Apparatus to rays chi for the examination of the materials and for the measurement of the thickness of thin metal films applied on a metal support

机译:射线装置,用于检查材料和测量施加在金属载体上的金属薄膜的厚度

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号FR1188525A

    专利类型

  • 公开/公告日1959-09-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PHILIPS NV;N. V. PHILIPS GLOEILAMPENFABRIEKEN;

    申请/专利号FRD1188525

  • 发明设计人

    申请日1957-08-07

  • 分类号G01N23/203;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 19:50:42

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