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机译:新型抗青铜照相技术在照相感光材料中的应用
公开/公告号DE000001177929A
专利类型
公开/公告日1964-09-10
原文格式PDF
申请/专利权人 GEVAERT PHOTO PROD NV;
申请/专利号DEG0040007A
发明设计人 POOT DR ALBERT LUCIEN;PEE PAUL DESIRE VAN;WILLEMS DR JOZEF FRANS;
申请日1964-03-04
分类号
国家 DE
入库时间 2022-08-23 16:30:29
机译: 一种照相反光材料,其内容物含有反青铜板
机译: 用反青铜色的照相感光材料或“沐浴”处理
机译: 胶卷和照相材料的生产方法