首页> 外国专利> Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate

Photoresist treating composition consisting of a mixture of propylene glycol alkyl ether and propylene glycol alkyl ether acetate

机译：由丙二醇烷基醚和丙二醇烷基醚乙酸酯的混合物组成的光致抗蚀剂处理组合物

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

The invention provides a mixture suitable for treating a photographic composition which comprises from about 1 to about 10 parts by weight of a propylene glycol alkyl ether and from about 1 to about 10 parts by weight of a propylene glycol alkyl ether acetate.

机译：本发明提供了适合于处理照相组合物的混合物，该混合物包含约1至约10重量份的丙二醇烷基醚和约1至约10重量份的丙二醇烷基醚乙酸酯。

著录项

公开/公告号US4983490A

专利类型
公开/公告日1991-01-08

原文格式PDF
申请/专利权人 HOECHST CELANESE CORPORATION;
展开▼

申请/专利号US19890352618
发明设计人 DANA DURHAM;
展开▼

申请日1989-05-15
分类号G03C11/06;G03F7/42;G03F7/32;G03F7/16;
国家 US
入库时间 2022-08-22 05:47:07

相似文献

专利
外文文献
中文文献