机译:静液培养装置,静液培养方法,用于静液培养装置的盖板的结构,用于静液培养装置的盖板的结构用途和用于静液培养的盖板结构的制造
公开/公告号JPH07213181A
专利类型
公开/公告日1995-08-15
原文格式PDF
申请/专利权人 KOBAYASHI HIDETOSHI;
申请/专利号JP19940043008
发明设计人 KOBAYASHI HIDETOSHI;
申请日1994-02-04
分类号A01G31/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 04:26:16