首页> 外国专利> APPARATUS FOR MONOCRYSTAL OXIDE FILMS PRODUCTION USING LIQUID PHASE EPITAXY

APPARATUS FOR MONOCRYSTAL OXIDE FILMS PRODUCTION USING LIQUID PHASE EPITAXY

机译:液相液相法生产一氧化二氧化膜的装置

摘要

FIELD: production of monocrystal oxide films using liquid phase epitaxy. SUBSTANCE: apparatus for production of monocrystal oxide films using liquid phase epitaxy has isolating central pipe and also crucible made of electroconductive material and coaxially located in cylindrical member of structure. EFFECT: increased productivity.
机译:领域:使用液相外延生产单晶氧化物膜。物质:利用液相外延生产单晶氧化膜的设备具有隔离的中心管和由导电材料制成的坩埚,并且同轴地位于结构的圆柱体中。效果:提高生产率。

著录项

  • 公开/公告号RU95105170A

    专利类型

  • 公开/公告日1996-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MURATA MANUFAKCHURING KO.;LTD.;

    申请/专利号RU19950105170

  • 发明设计人 KHIROSI TAKAGI;MASARU FUDZINO;

    申请日1995-04-06

  • 分类号C30B19/06;

  • 国家 RU

  • 入库时间 2022-08-22 03:43:46

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号