一种制造具有有用层(120)的结构的方法,该有用层(120)通过基台(150、151)与基板(100)保持一定距离并用于分离这种层。
该方法包括以下步骤:
-牺牲层的第一部分和选择性蚀刻,同时在衬底和有用层之间留下至少一个间隔块(140),
-第二选择使用间隔物(140)作为掩模蚀刻有用层(120)和/或衬底(100),以在所述有用层和/或衬底中形成至少一个挡块(150、151),
-消除所述垫片。 P>
公开/公告号FR2736934A1
专利类型
公开/公告日1997-01-24
原文格式PDF
申请/专利号FR19950008882
申请日1995-07-21
分类号C23F1/02;G01P15/08;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 03:12:15