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In-situ dop trough polysilicon memory cell structure formed using vapor nuclei

机译:利用蒸气核形成的原位掺杂沟槽多晶硅存储单元结构

摘要

A method of forming a semiconductor memory device memory cell structure with increased surface area is disclosed. The memory cell structure has at least one rough polysilicon surface formed by depositing polysilicon as a condition to induce vapor phase dominant nuclei.
机译:公开了一种形成具有增加的表面积的半导体存储器件存储单元结构的方法。该存储单元结构具有至少一个粗糙的多晶硅表面,该粗糙的多晶硅表面是通过沉积多晶硅作为诱发气相主导核的条件而形成的。

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