机译:利用固定转子表面流的自旋流抑制湍流的方法,自旋流产生装置,自旋流的产生与维护控制方法及对湍流抑制效果的验证方法
公开/公告号JP2000257610A
专利类型
公开/公告日2000-09-19
原文格式PDF
申请/专利权人 MARUI TOMOTAKA;
申请/专利号JP19990063164
发明设计人 MARUI TOMOTAKA;
申请日1999-03-10
分类号F15D1/08;F23D14/48;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 02:04:04