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ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS, SCANNING ELECTRON MICROSCOPE APPARATUS, AND X-RAY ANALYSIS APPARATUS

机译:电子束照射装置,扫描电子显微镜装置和X射线分析装置

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electron beam irradiation apparatus and a scanning electron microscope apparatus, which have a high resolution and are small.;SOLUTION: The electron beam irradiation apparatus comprises an electron beam source, an accelerating electrode for accelerating electrons emitted from this electron beam source, and an electron lens for converging an accelerated electron beam, and further comprises an integrated electron beam irradiation part without a deflection means for electrically changing the direction of radiation of the electron beam, and comprises a mechanically moving means for moving the relative position between the electron beam irradiation part and a sample.;COPYRIGHT: (C)2003,JPO
机译:解决的问题:提供一种高分辨率且小尺寸的电子束照射设备和扫描电子显微镜设备。解决方案:电子束照射设备包括电子束源,用于加速从电子束发射的电子的加速电极。该电子束源,以及用于会聚加速电子束的电子透镜,还包括集成的电子束辐照部分,该集成的电子束辐照部分不具有用于电子地改变电子束的辐射方向的偏转装置,并且包括用于使电子束移动的机械移动装置。电子束辐照部分与样品之间的相对位置。;版权所有:(C)2003,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP2003223862A

    专利类型

  • 公开/公告日2003-08-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 CANON INC;

    申请/专利号JP20020019913

  • 发明设计人 MOTOI YASUKO;OTSUKA MITSURU;KUSAKA TAKAO;

    申请日2002-01-29

  • 分类号H01J37/20;H01J37/12;H01J37/252;H01J37/28;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 00:13:58

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