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CRYSTAL GROWTH METHOD OF SINGLE CRYSTAL GaN, AND METHOD OF MANUFACTURING SINGLE CRYSTAL GaN SUBSTRATE AND SINGLE CRYSTAL GaN SUBSTRATE

机译:单晶GaN的晶体生长方法以及制造单晶GaN基体和单晶GaN基体的方法

摘要

A GaN single crystal is grown by synthesizing GaN in vapor phase, piling a GaN crystal on a substrate, producing a three-dimensional facet structure including facets in the GaN crystal without making a flat surface, maintaining the facet structure without burying the facet structure, and reducing dislocations in the growing GaN crystal. The facet structure reduces the EPD down to less than 106 cm-2. IMAGE
机译:通过在气相中合成GaN,将GaN晶体堆积在基板上,在GaN晶体中产生包括刻面的三维刻面结构而不形成平坦表面,保持刻面结构而不埋入刻面结构的方式生长GaN单晶,并减少正在生长的GaN晶体中的位错。刻面结构将EPD降低到小于10 6 cm -2。 <图像>

著录项

  • 公开/公告号KR100404865B1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-11-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20000055450

  • 申请日2000-09-21

  • 分类号C30B25/02;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 23:44:58

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